本发明专利技术涉及一种门驱动器或闭门器(1)，该门驱动器或该闭门器(1)具有至少一个壳体(2)和至少一个活塞(7)，该活塞(7)被安装在该壳体(2)的接纳单元(5)中，其中，该接纳单元(5)和∕或所述至少一个活塞(7)的表面(6，8)通过暴露于电磁辐射进行处理。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种门操作器或闭门器，其中，门操作器或闭门器包括至少一个壳体、接纳单元以及至少一个活塞，该活塞被支撑，以能够在该接纳单元中移动。
技术介绍
门操作器是一种用于自动地打开和关闭门的装置。门可以例如是摆动门(swingleaf door)或滑动门。然而，闭门器仅用于自动地关闭门。在该情况下，特别是门扇到门框中或者与门框有关的运动，门操作器或闭门器起作用。已知这样实施门操作器或闭门器，即:使得圆柱状接纳单元位于门操作器或闭门器的壳体中。活塞被支撑，以能够在该接纳单元中移动。特别是在闭门器中，一旦打开门，则活塞的运动具有使弹簧张紧或者为对应的能量积聚单元充能的效果。如果在打开状态中的门被释放，则储存在弹簧或能量积聚单元中的能量用于关闭门。此外，已知通过合适的方法例如借助于阀来节流的流体移位，控制并且调节闭门器的关闭速度，以及此外同样地门操作器中的打开速度。门操作器或闭门器的壳体中的优选地圆柱状的接纳单元确实地包围活塞，同样优选地圆柱状的活塞的圆周表面与壳体的接纳单元的内周表面接触。一旦致动门操作器或闭门器，即在门的打开过程和/或关闭过程期间，并由此一旦使活塞在壳体的接纳单元的内部移动，则壳体的接纳单元的内周表面和活塞的圆周表面的表面沿彼此滑动。由此，产生的摩擦可能产生可以被认为是干扰的噪音。此外，可能产生磨耗，这可能不利地影响门操作器或闭门器的运行。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种在引言中描述的类型的门操作器或闭门器，该门操作器或闭门器的结构部件特别是壳体中的接纳单元和活塞被处理，使得提高了门操作器或闭门器的高耐磨性，并且减少了·门操作器或闭门器在致动期间的磨耗。根据本专利技术，通过具有本专利申请的独立权利要求1的特征的门操作器或闭门器解决了该问题。本专利技术的进一步的特征和细节在从属权利要求和说明书中说明。借助于引言中提到的类型的门操作器或闭门器解决了该问题，其中，通过暴露于电磁辐射，特别是紫外线范围中来处理门操作器或闭门器的至少一个壳体的接纳单元的表面和/或至少一个活塞的表面。该处理改进了接纳单元和/或所述至少一个活塞的表面，使得提高了高耐磨性并因此减少了磨耗。例如，使接纳单元的表面和/或所述至少一个活塞(的表面)的不规则部变得平滑。例如，若干活塞可以设置在凸轮式闭门器中。在门操作器或闭门器的一个优选实施例中，接纳单元和/或所述至少一个活塞的表面已经被暴露于脉冲准分子激光器的电磁辐射。准分子激光器产生紫外波范围的电磁辐射。分子、特别是气体分子用作激光作用介质。在该情况下，例如，气体是诸如氢气、氩气或氙气，或者惰性气体齒化物，诸如氟化氩或溴化氙的组合。准分子激光器能够达到数千赫兹的重复频率，其中脉冲能量直到超过1000毫焦耳。因此，使得能够对接纳单元和/或所述至少一个活塞的金属表面进行特定处理。根据本专利技术的另一个有利的实施例，在电磁辐射中，以具有如下能量密度的电磁辐射处理门操作器或闭门器的所述至少一个壳体的接收单元和/或所述至少一个活塞的表面，即:使得当与所述至少一个壳体和/或所述至少一个活塞的其余的材料相比时，各个表面会在微米范围内、特别是直到达到从0.5微米到2.5微米的深度上具有改进的材料结构。在该情况下，该改进的材料结构比未以光进行处理的门操作器或闭门器的区域具有更高的强度和/或更光滑的表面光洁度。借助于将高能量密度施加到接纳单元和/或所述至少一个活塞的金属表面中，该表面被在微小范围下熔融。由此，当表面随后再硬化时，使在制造接纳单元和/或所述至少一个活塞时产生的凹槽和沟道变得平滑。此外，一旦硬化，则使金属中的晶体结构再生，由此可以实现表面的更高的强度。在专利技术的门操作器或专利技术的闭门器的另一个优选实施例中，提出了以电磁辐射的这样的能量密度处理接纳单元的表面和/或至少一个活塞的表面，即:使得由于在微米范围内，特别是直到达到从0.5微米到2.5微米的深度上的处理期间等离子体的形成，该表面比门操作器或闭门器的未以光进行处理的区域具有更高的氮含量。当通过以这样的能量密度的暴露处理接纳单元和/或所述至少一个活塞的表面时，即:使得其中来自环境空气的氮气已经被离子化并已经形成部分的等离子体。一旦等离子体冷却以及因伴附随地重组，则氮原子已经被引入金属的晶格中，而所述至少一个壳体和所述至少一个活塞就由该金属构成。因此，经处理的表面具有比门操作器的或闭门器的未经光处理的区域更高的氮含量。较高的氮含量造成接纳单元和/或所述至少一个活塞的较高的表面强度，由此降低了在本专利技术的门操作器或本专利技术的闭门器的操作期间的磨损和磨耗。此外，可以以电磁辐射的如下能量密度处理本专利技术的门操作器或专利技术的闭门器的接纳单元的表面和/或所述至少一个活塞的表面，即:使得由于在微米范围内，特别是直到达到从0.5微米到2.5微米的深度上的处理期间等离子体的形成，该表面可以具有比门操作器或闭门器的未以光进行处理的区域更低的石墨含量。门操作器或闭门器的结构部件特别是所述至少一个壳体和所述至少一个活塞优选地由特别以灰色铸铁铸造方法生产的铸造材料制造。在该情况下，石墨的形状的碳被添加于铁中。从而，铸铁变得非常硬，并因此非常合适作为用于门操作器或用于闭门器的材料。石墨在材料中以石墨粒子的形式存在。该粒子与周围的铁相比相当地软。一旦使门操作器或闭门器以及在接纳单元和/或所述至少一个活塞之间的与门操作器或闭门器相关的摩擦致动，则产生了主要由石墨组成的磨耗。通过以高能量密度的电磁辐射的处理，暴露在接纳单元和/或所述至少一个活塞的表面处的石墨粒子被加热并且随后蒸发。因此，在处理之后，门操作器或闭门器的以光进行处理的区域中的石墨粒子含量比处理之前低。因此，在门操作器或闭门器的操作期间，能够避免磨耗特别是含有石墨的磨耗。将从以下的说明中产生本专利技术的进一步的优点、特征和细节，在以下的说明中，参照附图详细地描述了本专利技术的示例性实施例。在本专利技术中，权利要求书和说明书中提及的单独或随机组合的特征对本专利技术而言可以是必需的。附图说明 附图及附图的说明旨在更好地理解本专利技术的门操作器或专利技术的闭门器。通过相同的附图标记表示本质上相同或类似的物品或物品的组件。附图只是本专利技术的可能的实施例的示意图，在附图中，图1:示出了专利技术的闭门器的透视图，图2:示出了根据图1的专利技术的闭门器的壳体的透视截面图，图3:示出了根据图1的专利技术的闭门器的活塞的透视图。具体实施例方式在图1中示出了专利技术的闭门器I的实施例的示意性透视图。在该情况下，闭门器I的机械部件被壳体2包围。通过可旋拧的端板4，壳体2的内部是能够进入的。在闭门器I的内部，借助于轴3致动机械部件。(不可见的)活塞7被以可移动的方式保持在壳体2的接纳单元5中，并经由轴3驱动。由于对活塞7的表面8、接纳单元5的表面6分别进行本专利技术的处理，减小了闭门器I的结构部件之间的摩擦。因此，能够提高闭门器I的高耐磨性和使用期限。图2示出了根据图1的专利技术的闭门器I的壳体2的示意性透视截面图。未示出其它结构部件。接纳单元5的内周表面6是清晰可 见的。表面6的本专利技术的处理允许在操作闭门器I时减小摩擦。图3示出了专利技术的闭门器I的活塞7的示意性透视图。带齿齿条9与轴3 (未示出)的对应地构造的部分啮合，并造成活塞7在壳体2的接纳单元5中的运动。在该情况下，活塞7的圆周本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：蒂姆·武尔勃兰特，
申请(专利权)人：多玛两合有限公司，
类型：
国别省市：
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