鞋类穿着物制造技术

本发明专利技术提供一种鞋类穿着物。在鞋（1）的内底（3）上，在与从大拇趾（f1）的拇趾球（f1a）到趾尖的第一部位对应的区域形成有用于减轻作用于大拇趾（f1）的穿着者的体重负载的凹部（31）。另外，在与和拇趾球（f1a）的脚后跟侧邻接的第二部位对应的区域形成有用于按压该第二部位并基于该第二部位的反作用而将第一部位下降到凹部（31）内的按压部（32）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于减轻由外翻拇趾引起的脚的疼痛的鞋类穿着物。
技术介绍
近年来，由于经常穿例如高跟的女鞋等不合脚的鞋，出现外翻拇趾的症状的人增力口。外翻拇趾是指形成为大拇趾外翻的状态、即大拇趾的趾尖朝小趾侧弯曲且大拇趾的根部分弯曲成“ < ”字状而朝脚宽方向内侧突出的状态的症状。若该外翻拇趾的症状进展，则大拇趾的根部分与鞋的内底接触而产生剧痛，可能会导致行走困难。以往，作为用于缓和这种由外翻拇趾引起的脚的疼痛的鞋类穿着物，公知有在与大拇趾对应的内底形成有凹部的鞋类穿着物(例如，参照专利文献I)。该鞋类穿着物能够利用上述凹部减轻作用于大拇趾的穿着者的体重负载，因此能够缓和脚在行走中的疼痛。专利文献:日本特公平4-20608号公报现有的鞋类穿着物虽然能够缓和由外翻拇趾引起的脚的疼痛，但是大拇趾依然处于外翻的状态，因此无法改善外翻拇趾的症状本身。另外，由于大拇趾的外翻部分与鞋的侧壁部接触，所以无法充分缓和脚的疼痛。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述情况而完成的，目的在于提供能够充分缓和由外翻拇趾引起的脚的疼痛并改善外翻拇趾的症状的鞋类穿着物。用于实现上述目的的本专利技术的鞋类穿着物的特征在于，该鞋类穿着物具备:凹部，该凹部形成于与从大拇趾的拇趾球到趾尖的第一部位对应的内底，用于减轻作用于大拇趾的穿着者的体重负载；以及按压部，该按压部形成于与和所述拇趾球的脚后跟侧邻接的第二部位对应的内底，用于按压该第二部位并基于该第二部位的反作用而将所述第一部位下降到所述凹部内。根据本专利技术的鞋类穿着物，能够利用形成于与从大拇趾的拇趾球到趾尖的第一部位对应的内底的凹部来减轻作用于大拇趾的穿着者的体重负载。另外，利用形成于内底的按压部来按压与拇趾球的脚后跟侧邻接的第二部位，并且基于该第二部位的反作用而将上述第一部位下降到凹部内，因此大拇趾从外翻的状态变成以接近原来的正常状态的方式自然地内翻的状态。由此，能够改善外翻拇趾的症状，并且能够抑制大拇趾与鞋的侧壁部接触，因此能够进一步缓和脚的疼痛。另外，优选，所述鞋类穿着物还具备抬起部，该抬起部形成于与除了所述大拇趾以外的四个脚趾对应的内底，用于抬起该四个脚趾。在该情况下，利用抬起部抬起除了大拇趾以外的四个脚趾，从而能够扩大四个脚趾的邻接的各趾间的间隙。由此，即使在如上所述那样将大拇趾的第一部位下降到凹部内的状态下，也能 够利用四个脚趾以稳定的状态支承穿着者的体重。另外，优选，所述抬起部为了使将所述四个脚趾的各上端连结的直线大致水平，而形成为从所述四个脚趾的第二趾朝小趾逐渐变高。在该情况下，将由抬起部抬起的四个脚趾的各上端连结的直线形成为大致水平，因此能够使穿着者的体重负载大致均匀地作用于四个脚趾。由此，能够利用四个脚趾以更加稳定的状态支承穿着者的体重。另外，优选，在所述抬起部的与所述四个脚趾的第三趾与第四趾之间的间隙对应的内底形成有用于扩大该间隙的突出部。在该情况下，利用突出部扩大第三趾与第四趾之间的间隙，因此使由第二趾以及第三趾构成的两趾为一组、使由第四趾以及小趾构成的两趾为一组，能够利用这两组分别承受穿着者的体重负载。由此，能够以更加稳定的状态支承穿着者的体重。附图说明图1是表示本发 明的一实施方式所涉及的鞋类穿着物的内底的俯视图。图2是图1的A-A剖视图。图3是图1的B-B剖视图。图4是图1的C-C剖视图。图5 (a)是图1的D-D剖视图，图5 (b)是图1的E-E剖视图，图5 (C)是图1的F-F剖视图。图6是图1的G-G剖视图。图7是表示穿上上述鞋类穿着物之前的脚的状态的附图替代照片。图8是表示穿上了上述鞋类穿着物的脚的状态的附图替代照片。具体实施例方式接下来，参照附图对本专利技术的优选实施方式进行说明。图1是表示本专利技术的一实施方式所涉及的鞋类穿着物的左脚侧的内底的俯视图，图2是图1的A-A剖视图。在图1中，本实施方式的鞋类穿着物即鞋I的内底3具备:形成于与脚f的大拇趾fl对应的区域的凹部31 ；以与该凹部31邻接的方式形成的按压部32 ；以及形成于与除了大拇趾fl以外的四个脚趾f2 f5对应的区域的抬起部33。此处，“内底”是指位于鞋类穿着物内部的底面的部分，也包含垫于上述底面的鞋垫。在图1的俯视图中，凹部31形成于与从大拇趾fl的拇趾球Ha到趾尖的第一部位对应的区域。如图2所示，凹部31的脚长方向(从趾尖到脚后跟的方向)的截面形状沿着大拇趾fl的腹侧的形状而形成。更具体而言，凹部31中的与大拇趾H的拇趾球Ha对应的部分凹下最深，随着从大拇趾fl的腹部Hb趋向趾尖，与它们对应的部分形成为逐渐变浅。在图1的俯视图中，按压部32形成于与和拇趾球fla的脚后跟侧邻接的第二部位对应的区域，按压部32按压该第二部位，并基于该第二部位的反作用而将上述第一部位下降到凹部31内。对第二部位的按压力设定为比在将脚f 放置在水平面上时水平面自然地按压第二部位的力大的力。另外，第一部位的下降是利用通过按压部32的按压作用于将第二部位与第一部位连结的腱(拇趾外展肌)而第一部位自然地下降的现象而完成的。按压部32的脚长方向的长度L设定为约18mm,脚宽方向的长度W设定为约50mm。如图2所示，按压部32的脚长方向的截面形状形成为从凹部31朝脚后跟侧逐渐变高的倾斜面。图3是图1的B-B剖视图，如图3所示，按压部32的脚宽方向的截面形状形成为从外侧(图3的左侧)到中央部分大致平坦，内侧(图3的右侧)的端部朝上方突出。在图1的俯视图中，抬起部33形成于与从第二趾f2、第三趾f3、第四趾f4以及小趾f5的各趾尖到这四个脚趾f2 f5的根部分和四个脚趾的脚后跟侧的周边部分对应的区域。图4是图1的C-C剖视图。如图4所示，抬起部33的脚长方向的截面形状形成为从脚后跟侧(图4的左侧)朝四个脚趾f2 f5的趾尖(图4的右侧)逐渐变高的倾斜面。由此，抬起部33抬起四个脚趾f2 f5。该抬起力设定为比在将脚f放置在水平面上时水平面自然地按压四个脚趾f2 f5的力大的力。图5 (a)是图1的D-D剖视图，图5 (b)是图1的E-E剖视图，图5 (C)是图1的F-F剖视图。在图5 (a) 图5 (c)中，抬起部33的脚宽方向的截面形状形成为从凹部31连续的倾斜面，且形成为从第二趾f2朝小趾f5逐渐变高。如图5 (a)所示，抬起部33的倾斜角度设定为将四个脚趾f2 f5的各背侧的上端连结的直线X大致水平。图6是图1的G-G剖视图。如图6所示，在抬起部33的与第三趾f3与第四趾f4之间的间隙对应的区域形成有突出部33a。该突出部33a扩大第三趾f3与第四趾f4之间的间隙。根据如上那样构成的本实施方式的鞋1，由于在与从大拇趾n的拇趾球fla到趾尖的第一部位对应的内底3形成有凹部31，因此能够减轻作用于大拇趾f I的穿着者的体重负载，并能够缓和脚f的疼痛。另外，由于利用形成于内底3的按压部32来按压与拇趾球fla的脚后跟侧邻接的第二部位，并基 于该第二部位的反作用而将第一部位下降到凹部31内，因此大拇趾fl从外翻的状态变成以接近原来的正常状态的方式自然地内翻的状态。由此，能够改善外翻拇趾的症状，并且能够抑制大拇趾fl与鞋I的侧壁部接触，因此能够进一步缓和脚f的疼痛。另外，利用抬起部33抬起除了大拇趾fl以外的四个脚趾f2 f5本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：高山雅俊，
申请(专利权)人：高山雅俊，
类型：
国别省市：