基板处理装置、基板处理方法和存储介质制造方法及图纸

技术编号:9034905 阅读:123 留言:0更新日期:2013-08-15 01:41
本发明专利技术提供一种能够在组件或向各组件搬送基板的基板搬送机构中的任一个发生故障的情况下防止对基板继续进行不良的处理的技术。本发明专利技术的装置包括:多个接受目标组件,基板保持部从该多个接受目标组件接受基板;检测由基板保持部保持的基板的保持位置与在该基板保持部预先设定的基板的基准位置的偏移量的传感器部;存储部,其将在从各接受目标组件接受基板时检测出的偏移量,按每个接受目标组件以时间序列进行存储;和推定部,其基于在存储部存储的各接受目标组件的偏移量的时间序列数据,推定在各接受目标组件中的任一个或基板搬送机构是否发生故障。由此,能够早期地应对。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在组件(模块)间搬送基板进行处理的基板处理装置、基板处理方法和存储有用于执行上述基板处理方法的程序的存储介质。
技术介绍
在例如半导体器件的制造工艺中,在例如涂布、显影装置等的基板处理装置内设置多个对半导体晶片(以下简记为“晶片”)进行处理的处理组件,利用称为搬送臂的基板搬送机构在这些处理组件间依次搬送晶片,由此进行规定的处理。晶片由设置于上述搬送臂的保持部保持并被搬送。但是,由于在规定的组件发生故障,或者搬送臂自身发生故障,存在晶片以相对于上述保持部的预先设定的基准位置偏移的状态被保持的情况。如果这些故障逐渐变大,基准位置与实际被保持的晶片的位置的偏移量增加,在搬送中发生异常,则涂布、显影装置对用户显示警告,该装置内的搬送被停止。但是,如上所述,晶片相对基准位置偏移地被保持的情况,因为导致晶片不能交接(移交)至组件的适当的位置,所以存在直至装置停止持续晶片不被组件正常地处理的状态,晶片持续地被不良处理的问题。另外,在涂布、显影装置中停止搬送的情况下,导致能够正常工作的组件的处理也停止,或者,即使在通过轻微的校正就能够使搬送臂正常工作的情况下,也使该搬送臂的动作停止。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置,其特征在于:所述基板处理装置在组件间交接基板进行处理,所述基板处理装置具备:基板搬送机构,其具备在横向上能够自由移动的基板保持部,用于保持基板并进行所述交接;多个接受目标组件,所述基板保持部从所述多个接受目标组件接受基板;传感器部,其对由所述基板保持部保持的基板的保持位置与在该基板保持部预先设定的基板的基准位置的偏移量进行检测;存储部,其将在从各接受目标组件接受基板时检测出的所述偏移量,按每个所述接受目标组件以时间序列进行存储;和推定部,其基于在所述存储部存储的各接受目标组件的所述偏移量的时间序列数据,推定在各接受目标组件中的任一个或所述基板搬送机构是否发生故障。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:林德太郎道木裕一森弘明寺本聪宽
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社
类型:发明
国别省市:

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