基板处理装置、基板处理方法和存储介质制造方法及图纸

技术编号:9034905 阅读:107 留言:0更新日期:2013-08-15 01:41
本发明专利技术提供一种能够在组件或向各组件搬送基板的基板搬送机构中的任一个发生故障的情况下防止对基板继续进行不良的处理的技术。本发明专利技术的装置包括:多个接受目标组件,基板保持部从该多个接受目标组件接受基板;检测由基板保持部保持的基板的保持位置与在该基板保持部预先设定的基板的基准位置的偏移量的传感器部;存储部,其将在从各接受目标组件接受基板时检测出的偏移量,按每个接受目标组件以时间序列进行存储;和推定部,其基于在存储部存储的各接受目标组件的偏移量的时间序列数据,推定在各接受目标组件中的任一个或基板搬送机构是否发生故障。由此,能够早期地应对。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在组件(模块)间搬送基板进行处理的基板处理装置、基板处理方法和存储有用于执行上述基板处理方法的程序的存储介质。
技术介绍
在例如半导体器件的制造工艺中,在例如涂布、显影装置等的基板处理装置内设置多个对半导体晶片(以下简记为“晶片”)进行处理的处理组件,利用称为搬送臂的基板搬送机构在这些处理组件间依次搬送晶片,由此进行规定的处理。晶片由设置于上述搬送臂的保持部保持并被搬送。但是,由于在规定的组件发生故障,或者搬送臂自身发生故障,存在晶片以相对于上述保持部的预先设定的基准位置偏移的状态被保持的情况。如果这些故障逐渐变大,基准位置与实际被保持的晶片的位置的偏移量增加,在搬送中发生异常,则涂布、显影装置对用户显示警告,该装置内的搬送被停止。但是,如上所述,晶片相对基准位置偏移地被保持的情况,因为导致晶片不能交接(移交)至组件的适当的位置,所以存在直至装置停止持续晶片不被组件正常地处理的状态,晶片持续地被不良处理的问题。另外,在涂布、显影装置中停止搬送的情况下,导致能够正常工作的组件的处理也停止,或者,即使在通过轻微的校正就能够使搬送臂正常工作的情况下,也使该搬送臂的动作停止。由此,存在涂布、显影装置的工作率降低,生产率降低的问题。例如,在专利文献I中记载有,基于上述检测出的晶片的周边部的位置,对组件的相互间的晶片的搬送量进行校正,来消除在上述组件的晶片的位置偏移。另外,在专利文献2中记载有如下控制,根据检测出的周边部的位置求出晶片的中心位置,基于该中心位置与预先确定的基准位置的偏移量,使搬送臂部能够将晶片搬运到搬送目标位置。但是,在专利文献1、2的各装置中,并未考虑·上述问题,不能解决该问题。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开8 - 31905号公报专利文献2:日本特开2006 - 351884号公报
技术实现思路
专利技术想要解决的问题本专利技术是鉴于上述的课题而完成的,其目的在于,提供一种能够在组件或向各组件搬送基板的基板搬送机构中的任一个发生故障的情况下防止对基板继续进行不良的处理的技术。用于解决课题的方法本专利技术的基板处理装置的特征在于:其是在组件间交接基板进行处理的基板处理装置,上述基板处理装置具备:基板搬送机构,其具备在横向上能够自由移动的基板保持部,用于保持基板并进行上述交接;多个接受目标组件,上述基板保持部在上述多个接受目标组件接受基板;传感器部,其对由上述基板保持部保持的基板的保持位置与在该基板保持部预先设定的基板的基准位置的偏移量进行检测;存储部,其将在从各接受目标组件接受基板时检测出的上述偏移量,按每个所述接受目标组件以时间序列进行存储;和推定部,其基于在上述存储部存储的各接受目标组件的上述偏移量的时间序列数据,推定在各接受目标组件中的任一个或上述基板搬送机构是否发生故障。另外,本专利技术的其它的基板处理装置的特征在于:其是在组件间交接基板进行处理的基板处理装置,上述基板处理装置具备:基板搬送机构,其具备在横向上能够自由移动的基板保持部,用于保持基板并进行上述交接; 多个接受目标组件,上述基板保持部从上述多个接受目标组件接受基板;传感器部,其对由上述基板保持部保持的基板的保持位置与在该基板保持部预先设定的基板的基准位置的偏移量进行检测;存储部,其以将各接受目标组件与在从各接受目标组件接受基板时检测出的上述偏移量建立相关的方式存储该偏移量;和显示部,其将存储于上述存储部的偏移量按每个接受目标组件进行显示。本专利技术的具体方式例如为如下所述的方式。(a)上述基板处理装置设置有控制单元,上述控制单元基于上述推定部的推定结果输出控制信号以控制上述基板搬送机构的动作。(b)当由上述推定部推定出在基板搬送机构发生故障时,上述控制单元根据存储于上述存储部的偏移量,将上述基板保持部从各接受目标组件接受基板时的该基板保持部的位置从预先设定的第一位置向第二位置变更。(c)当由上述推定部推定出在基板搬送机构发生故障时,上述控制单元输出控制信号,使基板搬送机构在向构成接受目标组件之一的调整用组件交接基板后,再从上述调整用组件接受该基板,基于在向该调整用组件交接基板之前检测出的偏移量与在从调整用组件接受到基板之后检测出的偏移量的差,将上述基板保持部从各接受目标组件接受基板时的该基板保持部的位置从预先设定的第一位置向第二位置变更。当由上述推定部推定出在接受目标组件发生故障时,上述控制单元输出控制信号,使基板搬送机构停止向该接受目标组件搬送基板。(d)上述基板处理装置设置有警报输出单元,当由上述推定部推定出在各组件中的任一个或基板搬送机构发生故障时,上述警报输出单元输出警报。专利技术效果根据本专利技术,基板处理装置设置有:在向基板搬送机构的保持部交接基板后,存储保持位置相对基准位置的偏移量的存储部;和基于在上述存储部按每个组件以时间序列存储的偏移量,推定在各组件中的任一个或上述基板搬送机构是否发生故障的推定部,或者,基板处理装置具备将在存储部存储的组件的偏移量按组件进行显示的显示部。由此,能够早期地发现这些基板搬送机构和组件的故障,能够防止对基板持续进行不良的处理。附图说明图1是本专利技术的基板处理装置的实施方式的涂布、显影装置的平面图。图2是上述涂布、显影装置的立体图。图3是上述涂布、显影装置的侧视图。图4是设置于上述涂布、显影装置的搬送臂和组件的立体图。图5是设置于上述搬送臂的基台和叉的立体图。图6是上述基台和叉的平面图。图7是上述基台和叉的侧视图。图8是上述搬送臂的横截面图。图9是表示上述搬送臂的检测部的检测结果的一个例子的示意图。图10是设置于涂布、显影装置的控制部的块图。图11是说明保持于叉的晶片的各位置的平面图。图12是设置于上述控制部的存储部的存储区域的概念图。 图13是设置于上述控制部的存储部的存储区域的概念图。图14上述搬送臂的搬送的示意图。图15上述搬送臂的搬送的示意图。图16涂布、显影装置的动作的流程图。图17是表示设置于上述控制部的显示画面的说明图。图18是表示设置于上述控制部的显示画面的说明图。图19是表示设置于上述控制部的显示画面的说明图。图20是表示设置于上述控制部的显示画面的说明图。图21是设置于上述控制部的存储部的存储区域的概念图。图22是表示晶片的交接位置的数据被变更的状况的说明图。图23是表示晶片的接受位置被变更的状况的说明图。图24是表示晶片的接受位置被变更的状况的说明图。图25是设置于上述涂布、显影装置的位置调整组件的立体图。图26是表示对上述位置调整组件交接晶片的正面图。图27是表示对上述位置调整组件交接晶片的正面图。图28是表不对上述位直调整组件交接晶片的正面图。图29是表不对上述位直调整组件交接晶片的正面图。附图标记说明W 晶片3 叉30搬送臂31 基台40基板周边位置检测机构4检测部41光源部42受光部6控制部63显示部66程序具体实施例方式图1、图2、图3各自是本专利技术的基板处理装置的实施方式的涂布、显影装置I的平面图、概略立体图、侧视图。如这些各图所示,涂布、显影装置I包含载体部件区S1、处理部件区S2和接口部件区S3。另外,接口部件区S3与曝光装置S4连接,由涂布、显影装置I和该曝光装置S4构成抗蚀剂图案形成装置。载体部件区SI是用于进行收纳有多个作为基板的晶片W的本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种基板处理装置,其特征在于:所述基板处理装置在组件间交接基板进行处理,所述基板处理装置具备:基板搬送机构,其具备在横向上能够自由移动的基板保持部,用于保持基板并进行所述交接;多个接受目标组件,所述基板保持部从所述多个接受目标组件接受基板;传感器部,其对由所述基板保持部保持的基板的保持位置与在该基板保持部预先设定的基板的基准位置的偏移量进行检测;存储部,其将在从各接受目标组件接受基板时检测出的所述偏移量,按每个所述接受目标组件以时间序列进行存储;和推定部,其基于在所述存储部存储的各接受目标组件的所述偏移量的时间序列数据,推定在各接受目标组件中的任一个或所述基板搬送机构是否发生故障。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:林德太郎道木裕一森弘明寺本聪宽
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社
类型:发明
国别省市:

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