一种异物检查处理装置及曝光机制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种异物检查处理装置及曝光机，其中异物检查处理装置用于对基板上的异物进行检查和处理，包括：用于承载基板的承载台；设置在基板两侧的光源，光源设置在承载台上；设置在承载台上的固定架；用于捕捉由基板上的异物经光源照射而发生散射的光线，并成像的第一图像传感器，设置在固定架上，以获得异物的位置和面积信息，并可在基板相对应的上方区域内移动；用于减小基板上的异物的高度，以使得异物的高度小于第一预设值的异物处理结构，设置在固定架上。异物检查处理装置使得异物的高度满足基板进行曝光的工艺要求，减小由于异物高度过大而造成的不能进行曝光的基板的损失。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

Foreign body inspection processing device and exposure machine

The utility model relates to a foreign body check processing device and exposure machine, wherein the foreign body check processing device is used for examination and treatment of foreign body, the substrate includes bearing Taiwan substrate; a light source disposed on the two sides of the substrate, the light source is arranged on the bearing station; arranged in the bearing holder for table; captured by the foreign body on the substrate by light scattering and light, the first image sensor and imaging, is arranged on the fixed frame, in order to obtain the location of the foreign body and area information, and in the area above the substrate corresponding to move therein; for reducing foreign body substrate height, so that the foreign body height less than the treatment of foreign body structure of the first preset value, arranged on the fixed frame. The foreign body inspection and processing device enables the height of the foreign body to meet the technical requirements for the exposure of the substrate, and reduces the loss of the substrate which can not be exposed due to the excessive height of the foreign body.

【技术实现步骤摘要】

一种异物检查处理装置及曝光机
本技术涉及显示
，尤其涉及用于对进入曝光机曝光之前的基板进行异物检查和处理的一种异物检查处理装置及曝光机。
技术介绍
在显示面板生产过程中，曝光是必不可少的工序。涂布了光刻胶的基板进入曝光机曝光之前需要进行异物检查，目前通常使用异物检查机来检查异物的大小和位置。如图1所示，常用的异物检查机只具备异物检查功能，能够检查出异物的大小，通过高分辨率电荷耦合器件图像传感器(CXD)采集的图像判断基板I上是否有异物，并通过异物2 (的高度)来判断该基板I是否能够进入曝光机曝光。对于异物2超过一定尺寸大小的基板将直接排出曝光机，而不能进行曝光操作；对于异物面积超出工艺要求而高度没有超出工艺要求的基板也只能做不良判断，而不能进入曝光操作。这些基板在形成膜层之后就不能进行后续工序，从而造成基板的损失。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本技术提供一种异物检查处理装置及曝光机，能够在异物检查的过程中对高度超出曝光机要求的异物进行处理，将尽可能地减少曝光工序中的基板损失，从而提闻成品率。为了达到上述目的，本技术采用的技术方案是:一种异物检查处理装置，用于对基板上的异物进行检查和处理，包括:承载台，用于承载基板；设置在基板两侧的光源，所述光源设置在所述承载台上；设置在所述承载台上的固定架；设置在所述固定架上的第一图像传感器，用于捕捉由基板上的异物经所述光源照射而发生散射的光线、并成像，以获得异物的位置和面积信息，并可在所述基板相对应的上方区域内移动；设置在所述固定架上的异物处理组件，用于对检测到的异物进行处理，减小基板上的异物的高度，以使得异物的高度小于第一预设值。进一步的，所述异物处理组件包括:设置在所述固定架上的第二图像传感器，用于在基板上的异物的面积大于第二预设值时，测量捕捉由基板上的异物经所述光源照射而发生散射的光线、并成像，以获得异物的高度信息；研磨机构，用于在异物高度超过所述第一预设值时，通过研磨使得异物的高度小于第一预设值。进一步的，所述异物处理组件还包括:用于通过烧蚀清除异物的激光发射装置。进一步的，所述固定架上设有与所述承载台平行设置的多条导轨，所述第一图像传感器和所述异物处理组件设置在所述导轨上。进一步的，所述异物处理组件还包括:与所述导轨连接的连接部；与所述连接部连接的安装部，用于设置所述研磨机构和/或激光发射部件和/或所述第二图像传感器。进一步的，所述研磨机构包括设置在所述安装部的转轮，以及缠绕在所述转轮上的、用于研磨异物的卷带。进一步的，所述第二图像传感器为所述第一图像传感器。本技术还提供了一种曝光机，包括如上所述的异物检查处理装置。本技术的有益效果是:将基板上闻度超过进行曝光工艺允许的最闻闻度值的异物进行研磨，以使得异物的高度满足基板进行曝光的工艺要求，减小由于异物高度过大而造成的不能进行曝光的基板的损失。附图说明图1表示现有技术中异物检查机的示意图；图2表示本技术基板上存在异物时异物检查处理装置的状态示意图；图3表示本技术基板上没有异物时异物检查处理装置的状态示意图；图4表示本技术异物检查处理装置的结构示意图；图5表示本技术异物处理组件的结构示意图。具体实施方式以下结合附图对本技术结构和原理进行详细的说明，所举实施例仅用于解释本技术，并非以此限定本技术的保护范围。如图2、图3、图4所示，本实施例提供一种异物检查处理装置，用于对基板I上的异物2进行检查和处理，包括:用于承载基板I的承载台10 ；设置在基板I两侧的光源4，所述光源4设置在所述承载台10上；设置在所述承载台10上的固定架20 ；用于捕捉由基板I上的异物2经所述光源4照射而发生散射的光线，并成像的第一图像传感器3，设置在所述固定架20上，并可在所述基板I相对应的上方区域内移动，所述第一图像传感器3用以获得异物2的位置和面积信息；用于对检测到的异物进行处理，减小基板I上的异物2的高度，以使得异物2的高度小于第一预设值的异物处理组件5，设置在所述固定架20上。将基板上高度超过进行曝光工艺允许的最高高度值的异物进行处理，以使得异物的高度满足基板进行曝光的工艺要求，相比现有技术，使得具有高度超过预设值的异物的基板1，在经过处理后，使得异物高度满足工艺要求，该基板I可以继续进行曝光操作，减小由于异物高度过大而造成的不能进行曝光的基板的损失。优选的，所述异物处理组件5包括:用于在基板I上存在异物2的面积大于第二预设值时，测量捕捉由基板I上的异物2经所述光源4照射而发生散射的光线、并成像，以获得异物2的高度信息的第二图像传感器8，设置在所述固定架20上，所述第二预设值为基板I可进行曝光时，基板I上的异物2的面积的最大值；用于通过研磨使得异物2的高度小于所述第一预设值的研磨机构6，所述第一预设值为基板可进行曝光时基板I上的异物2的高度的最大值。对于异物2的面积超过第二预设值但高度符合工艺要求(即小于所述第一预设值)的基板I可以直接进入曝光机曝光，对异物2高度超出要求的基板I进行研磨后再进行高度测试，高度符合要求后进行曝光工艺。优选的，所述异物处理组件5包括:用于通过烧蚀清除异物2的激光发射装置7。对于硬度较大的异物2 (如金属、玻璃碎屑等)可以进行研磨，将异物2高度降低到小于第一预设值；对于一些易于烧蚀的异物2 (如有机物类)可以采用激光烧蚀的方法直接清除异物。所述异物处理组件5可以同时包括所述研磨机构6和所述激光发射装置7，也可以仅包括所述研磨机构6和所述激光发射装置7中的一种，只要可以实现将异物2高度降低到小于第一预设值即可。优选的，所述固定架20上设有与所述承载台10平行设置的多条导轨201，所述第一图像传感器3和所述异物处理组件5设置在所述导轨201上。为了使得所述第一图像传感器3和异物处理组件5在所述导轨201上移动，可以覆盖所述基板I上方相对应的区域，所述固定架20上交错设置多个所述导轨201。为了保证对所述基板I上的异物2的检测的准确性，所述第一图像传感器3可以设置多个。如图5所示,优选的,所述异物处理组件5还包括:与所述导轨201连接的连接部51 ；用于设置所述研磨机构6和/或激光发射部件7和/或所述第二图像传感器8的安装部52，与所述连接部51连接。为了方便所述基板I上的异物2的处理，所述安装部52可以沿着所述连接部51上下伸缩。优选的，所述研磨机构6包括设置在所述安装部52的转轮，以及缠绕在所述转轮上的、用于研磨异物的卷带。优选的，所述第二图像传感器8为所述第一图像传感器3。用于测量异物2的高度的第二图像传感器8需要的分辨率比用于检测所述基板I上是否存在异物2的第一图像传感器3的分辨率高，可以直接采用满足测量异物2高度的高分辨率的图像传感器在用于检测所述基板I上是否存在异物2的同时，用于测量异物2的高度；也可以如本实施例中所描述，采用两个图像传感器，第一图像传感器3用于检测所述基板I上是否存在异物2，设置在所述固定架20上，所述第二图像传感器8用于测量异物2的高度，设置在所述异物处理机构5的安装部52上。如图2所示，在实际操作中，置于所述基板I两侧的光源4对所述基板I表面进行照射，当入射光照射到所述基板I表面的异物2时将发生本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种异物检查处理装置，用于对基板上的异物进行检查和处理，其特征在于，包括：承载台，用于承载基板；设置在基板两侧的光源，所述光源设置在所述承载台上；设置在所述承载台上的固定架；设置在所述固定架上的第一图像传感器，用于捕捉由基板上的异物经所述光源照射而发生散射的光线、并成像，以获得异物的位置和面积信息，并可在所述基板相对应的上方区域内移动；设置在所述固定架上的异物处理组件，用于对检测到的异物进行处理，减小基板上的异物的高度，以使得异物的高度小于第一预设值。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄常刚，张思凯，汪栋，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：