电场驱动氧化石墨烯电子转移产生光脉冲的方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及光脉冲技术，具体为一种电场驱动氧化石墨烯电子转移产生光脉冲的方法及装置。解决了目前光脉冲发生装置无法实现在电场控制方波信号的上升沿以及下降沿产生光脉冲的技术问题。一种电场驱动氧化石墨烯电子转移产生光脉冲的方法，包括以下步骤：（a）在制备好的氧化石墨烯样品的两端加载经过方波信号调制的电压；所述电压的最高电场强度范围为150V/mm~400V/mm；（b）采用连续激光聚焦于氧化石墨烯样品的表面;（c）获得了强度随外部调制方波的下降沿或同时随上升沿及下降沿突然增大的荧光脉冲。本发明专利技术获得了一种随外部调制信号的下降沿以及上升沿而出现突然增强的光脉冲信号，可以广泛应用于时间分辨光谱、三维光学成像与光信息处理等领域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光脉冲技术，具体为一种电场驱动氧化石墨烯电子转移产生光脉冲的方法及装置。
技术介绍
光脉冲在医学、通信、军事以及光谱分析中都有极为广泛的应用。通常采用外部调制产生光脉冲的方法大致有以下几种:机械斩光、声光调制器以及相位调制器等电光器件的强度调制。这些方法产生光脉冲的特点都是光脉冲直接受到外部调制信号的限制，只能呈现与调制信号一致的脉冲波形，无法实现在外部调制信号上升或下降的过程中产生光脉冲。这无法满足时间分辨光谱、三维光学成像与光信息处理等领域需要在外部方波电场调制信号的上升或下降过程中产生光脉冲的技术要求。
技术实现思路
本专利技术为解决目前光脉冲发生装置无法实现在电场控制信号的上升沿以及下降沿产生光脉冲的技术问题，提供一种电场驱动氧化石墨烯电子转移产生光脉冲的方法及装置。本专利技术所述的电场驱动氧化石墨烯电子转移产生光脉冲的方法是采用以下技术方案实现的:一种电场驱动氧化石墨烯电子转移产生光脉冲的方法，包括以下步骤:Ca)在制备好的氧化石墨烯样品的两端加载经过方波信号调制的电压；所述电压的最高电场强度范围为150V/mnT400V/mm ； (b)采用连续激光聚焦于氧化本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电场驱动氧化石墨烯电子转移产生光脉冲的方法，其特征在于，包括以下步骤：（a）在制备好的氧化石墨烯样品的两端加载经过方波信号调制的电压；所述电压的最高电场强度范围为150V/mm~400V/mm；（b）采用连续激光聚焦于氧化石墨烯样品表面，氧化石墨烯样品在聚焦激光的激发下发射荧光；收集样品不同位置发射的荧光，并将荧光的光强信号转换成相应的电信号，确定氧化石墨烯样品各个位置发射的荧光与所施加方波电压的关系，记录样品上能够产生同频响应或倍频响应的位置信息；所述的同频响应是指样品上受激发射的荧光脉冲强度随方波电压的下降沿突然增强的现象；所述的倍频响应是指样品上受激发射的荧光脉冲强度随方波电压的下降...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：高岩，陈瑞云，张国峰，肖连团，贾锁堂，
申请(专利权)人：山西大学，
类型：发明
国别省市：