抗反射涂层及其制造方法技术

透明无色度的抗反射涂层，其包括衬底以及抗反射层，所述抗反射层包括交替布置在所述衬底上的多个高反射层和多个低反射层，所述抗反射层的反射比在整个可见射线波长范围为0.01%至1.2%。

【技术实现步骤摘要】
抗反射涂层及其制造方法背景1.领域所述技术大体上涉及抗反射涂层及其制造方法。2.相关技术描述通常，户内观察显示装置的屏幕并非难事，然而，当存在外部光的情况下户外观察显示装置的屏幕时，由外部光的亮度而使可见度变差，并且由屏幕的反射而使可读性变差。概述一个或多个实施方案可以提供透明无色度的抗反射涂层，其包括衬底以及抗反射层，所述抗反射层包括交替布置在所述衬底上的多个高反射层和多个低反射层，所述抗反射层在整个可见射线波长范围的反射比为0.01％至1.2％。交替布置在所述衬底上的多个高反射层和多个低反射层可以包括在所述衬底上的第一高反射层，在所述第一高反射层上的第一低反射层，在所述第一低反射层上的第二高反射层，在所述第二高反射层上的第二低反射层，在所述第二低反射层上的第三高反射层以及在所述第三高反射层上的第三低反射层。第一高反射层的厚度可以为14.9nm至17.5nm，第一低反射层的厚度可以为31.9nm至37.5nm，第二高反射层的厚度可以为56.5nm至66.3nm，第二低反射层的厚度可以为8.6nm至10.2nm，第三高反射层的厚度可以为51.4nm至60.4nm，并且第三低反射层的厚度可以为80.0nm至94.0nm。第一高反射层、第二高反射层以及第三高反射层可以具有大于1.9的折射率。第一高反射层、第二高反射层以及第三高反射层可以包含氧化钛和氧化镧。第一低反射层、第二低反射层以及第三低反射层可以具有小于1.6的折射率。第一低反射层、第二低反射层以及第三低反射层可以包含二氧化硅。抗反射涂层还可以包含在所述第三低反射层上的防指纹层。所述防指纹层的厚度可以为18.4nm至21.6nm。一个或多个实施方案可以提供制造抗反射涂层的方法，所述方法包括：通过将多个高反射层和多个低反射层交替沉积在衬底上来形成抗反射层；以及通过选择性利用晶体厚度控制方法(QCM)和光学厚度控制方法(OPM)来控制高反射层和低反射层的厚度。将多个高反射层和多个低反射层交替沉积在衬底上可以包括在所述衬底上形成第一高反射层，在所述第一高反射层上形成第一低反射层，在所述第一低反射层上形成第二高反射层，在所述第二高反射层上形成第二低反射层，在所述第二低反射层上形成第三高反射层，以及在所述第三高反射层上形成第三低反射层。控制高反射层和低反射层的厚度可以包括利用光学厚度控制方法(OPM)在高反射层中保持厚度大于λp/4n，或在低反射层中保持厚度大于λp/4n，其中λp＝在光学厚度控制方法(OPM)中辐射的对照光的基准波长，并且n＝高反射层或低反射层的折射率。晶体厚度控制方法(QCM)可以用于在高反射层或低反射层中保持厚度小于λp/4n。第一高反射层的厚度可以为14.9nm至17.5nm，第一低反射层的厚度可以为31.9nm至37.5nm，第二高反射层的厚度可以为56.5nm至66.3nm，第二低反射层的厚度可以为8.6nm至10.2nm，第三高反射层的厚度可以为51.4nm至60.4nm，并且第三低反射层的厚度可以为80.0nm至94.0nm。当基准波长为430nm时，可以利用光学厚度控制方法(OPM)在高反射层中保持厚度大于51nm，或者当基准波长为430nm时，可以利用晶体厚度控制方法(QCM)在高反射层中保持厚度小于51nm。当基准波长为430nm时，可以利用光学厚度控制方法(OPM)在低反射层中保持厚度大于73nm，或者当基准波长为430nm时，可以利用晶体厚度控制方法(QCM)在低反射层中保持厚度小于73nm。通过晶体厚度控制方法(QCM)可以控制第一高反射层、第一低反射层和第二低反射层的厚度，并且通过光学厚度控制方法(OPM)可以控制第二高反射层、第三高反射层和第三低反射层的厚度。所述方法可以还包括在第三低反射层上形成防指纹层。可以形成具有厚度为18.4nm至21.6nm的所述防指纹层。可以通过晶体厚度控制方法(QCM)控制防指纹层的厚度。附图简述图1示出示例性实施方案的抗反射涂层的截面图。图2示出示例性实施方案的抗反射涂层的颜色的反射比以及常规蓝色抗反射涂层的颜色的反射比的图表。图3示出示例性实施方案的抗反射涂层的制造方法的流程图。图4示出示例性实施方案的抗反射涂层的透射比图表。图5示出示例性实施方案的抗反射涂层的反射比图表。专利技术详述参考附图，下文将更全面地描述实施方案，其中示出本专利技术的示例性实施方案。本领域技术人员应认识到，可以以各种不同方式修改所描述的实施方案，只要所有方式不背离实施方案的精神和范围。在整个说明书中同样的标号指同样的元素。为了便于解释，任意地示出在附图中所示的各个结构部件的尺寸和厚度，实施方案不必局限于所示内容。在附图中，为了清楚、更好的理解以及便于描述，放大了层、膜、板、区域等的厚度。应理解当诸如层、膜、区域或衬底的元素被提及在另一元素“上”时，其能直接在其它元素上或还可以存在中间元素。参考图1和图2，描述了示例性实施方案的抗反射涂层。图1示出了示例性实施方案的抗反射涂层的截面图。如图1所示，示例性实施方案的抗反射涂层包括衬底10以及抗反射层100。抗反射层100可以包括在衬底10上交替形成的多个高反射层20和多个低反射层30。多个高反射层20可以包括第一高反射层20a、第二高反射层20b和第三高反射层20c。多个低反射层可以包括第一低反射层30a、第二低反射层30b和第三低反射层30c。在所示的实施方案中，交替形成三个高反射层20和三个低反射层30。然而，多个高反射层20和多个低反射层30可以包括任何合适数量的反射层。衬底10与显示装置连接，例如有机发光二极管(OLED)显示器。衬底包括透明强化玻璃板或高分子材料。抗反射层100包括在衬底10上形成的第一高反射层20a，在第一高反射层20a上形成的第一低反射层30a，在第一低反射层30a上形成的第二高反射层20b，在第二高反射层20b上形成的第二低反射层30b，在第二低反射层30b上形成的第三高反射层20c，以及在第三高反射层20c上形成的第三低反射层30c。第一高反射层20a、第二高反射层20b以及第三高反射层20c可以为包含诸如氧化钛和氧化镧的高反射材料。第一低反射层30a、第二低反射层30b以及第三低反射层30c可以为包含二氧化硅(SiO2)的低反射材料。第一高反射层20a的厚度可以为14.9nm至17.5nm，第一低反射层30a的厚度可以为31.9nm至37.5nm，第二高反射层20b的厚度可以为56.5nm至66.3nm，第二低反射层30b的厚度可以为8.6nm至10.2nm，第三高反射层20c的厚度可以为51.4nm至60.4nm，并且第三低反射层30c的厚度可以为80.0nm至94.0nm。第一高反射层20a、第二高反射层20b和第三高反射层20c的整个区域的厚度是均匀的，从而第一高反射层20a、第二高反射层20b和第三高反射层20c的整个区域的折射率是均匀的。因此，第一高反射层20a、第二高反射层20b和第三高反射层20c的反射比对于颜色而言是均匀的。第一高反射层20a、第二高反射层20b以及第三高反射层20c的折射率可以大于1.9。第一低反射层30a、第二低反射层30b和第三低反射层30c的整个区域的厚度是均匀的，从而第一低反本文档来自技高网...

【技术保护点】
具有透明无色度的抗反射涂层，其包括：衬底；以及抗反射层，所述抗反射层包括交替布置在所述衬底上的多个高反射层和多个低反射层，所述抗反射层的反射比在整个可见射线波长范围内为0.01%至1.2%。

【技术特征摘要】
2012.01.09 KR 10-2012-00026331.制造抗反射涂层的方法，所述方法包括：通过在衬底上交替沉积多个高反射层和多个低反射层来形成抗反射层；以及通过选择性利用晶体厚度控制方法(QCM)和光学厚度控制方法(OPM)来控制所述高反射层和所述低反射层的厚度，其中所述在衬底上交替沉积多个高反射层和多个低反射层包括：在所述衬底上形成第一高反射层，在所述第一高反射层上形成第一低反射层，在所述第一低反射层上形成第二高反射层，在所述第二高反射层上形成第二低反射层，在所述第二低反射层上形成第三高反射层，以及在所述第三高反射层上形成第三低反射层，其中控制所述高反射层和所述低反射层的厚度包括利用光学厚度控制方法(OPM)在所述高反射层或所述低反射层中保持厚度大于λp/4n，或者包括利用所述晶体厚度控制方法(QCM)在所述高反射层或所述低反射层中保持厚度小于λp/4n，其中λp＝在所述光学厚度控制方法(OPM)中辐射的对照光的基准波长，并且n＝所述高反射层或低反射层的折射率，以及其中通过所述晶体厚度控制方法(QCM)来控制所述第一高反射层、所述第一低反射层和第二低反射层的厚度，并且通过所述光学厚度控制方法(OPM)来控制所述第二高反射层、所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴秉哲，河忠秀，李东焕，李祥旭，申度铉，李熙信，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，株韩一真空机械，株式会社度恩，
类型：发明
国别省市：