用于大尺寸金刚石膜平坦化磨削的砂轮制作方法技术

本发明专利技术公开了一种用于大尺寸金刚石膜平坦化磨削的砂轮制作方法，包括原料选择、成份配比，球磨合金化，烧结，杯形砂轮制作及处理。其中原料为Ｔｉ，Ａｌ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｖ，Ｓｉ粉末，按摩尔比４０～４６％Ａｌ，１～２％Ｃｒ，１～２％Ｎｂ，０～４％Ｖ，０～２％Ｓｉ，余量为钛进行配比；原料在氩气保护下球磨，时间９０～１９０小时，转速２８０～５８０ｒ／ｍｉｎ；然后筛选粒径＜２０μｍ的合金粉，经预压后在真空烧结炉中加压烧结，烧结温度９００～１２００℃，烧结时间１５～６０ｍｉｎ，烧结压力０．２～１０ＭＰａ；最后将烧结的砂轮环片热处理后焊接在杯形砂轮基盘上。本发明专利技术效果和益处是采用机械球磨和真空加压烧结制成的钛铝合金基砂轮环组织均匀高温强度高，抗氧化性好，硬度高，耐磨损。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于粉末冶金
涉及一种，特别涉及到一种用于大尺寸CVD金刚石膜表面高效平坦化磨削加工的钛铝合金基砂轮的制作方法。
技术介绍
90年代以来，化学气相沉积金刚石(CVD)薄膜的制备技术和性能表征等已经取得了许多突破性进展，与研究初期相比，沉积速率提高了近千倍，而制备成本已降低至原来的万分之一。但相对滞后的金刚石膜后续抛光平坦化技术限制了金刚石膜的广泛应用，尤其是大面积CVD金刚石膜的抛光平坦化技术已成为金刚石膜在高科技领域应用的瓶颈问题。由于金刚石是目前已知的硬度最高且高化学惰性的材料，使得在超精密加工领域中广泛采用的抛光平坦化技术，如传统的化学机械抛光、电解抛光等很难适用于CVD金刚石膜。虽然目前已开发出激光束抛光、离子束抛光等CVD金刚石膜平坦化技术，但主要针对小尺寸(φ≤1英寸)的金刚石膜；热化学抛光技术是目前常用的一种大尺寸金刚石膜抛光平坦化技术，其利用铁盘、镍盘等熔碳金属在一定温度和压力下与金刚石膜相对运动，使金刚石膜表面的碳原子向金属板中扩散来完成抛光，但由于抛光时温度高，金属抛光盘氧化、磨损严重，而且抛光盘高温强度低，变形严重，因此难以保证金刚石膜的加本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于大尺寸金刚石膜平坦化磨削的砂轮制作方法，包括原料选择、成份配比，预合金、合金化，烧结，杯形砂轮制作及处理步骤，其特征在于：原料为Ｔｉ，Ａｌ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｖ，Ｓｉ粉末，纯度＞９９．５％，粒度＜１５０μｍ，按摩尔比４０～４６％的 铝，１～２％的铬，１～２％的铌，０～４％的钒，０～２％的硅，余量为钛进行配比；将原料粉末和不锈钢球装入真空球磨罐中球磨合金化，球料比１０～１５∶１，并充入氩气以防原料氧化，在行星齿轮球磨机上或高能球磨机上球磨２０～５０ｈ，转速为２８ ０～５００ｒ／ｍｉｎ，之后将保护气体换为Ａｒ＋１％ｖｏｌＮ↓［２］，继续球磨３０～５０ｈ，转速为３５０～...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：金洙吉，马兴伟，苑泽伟，康仁科，
申请(专利权)人：大连理工大学，
类型：发明
国别省市：91[中国|大连]