一种制备并二苝二酰亚胺衍生物的方法技术

本发明专利技术公开了一种制备并二苝二酰亚胺衍生物的新方法。该化合物的结构通式如式I所示。其制备方法包括下述步骤：在惰性气氛中，使式II所示的化合物、铜催化剂、氨基酸配体、有机碱及添加剂进行反应，得到式I所示化合物。本发明专利技术提供的合成路线具有简单高效、环境污染小、原料廉价、合成成本低、具有很好普适性和重复性等优点，可以推广应用到其他各种N取代基的并二苝二酰亚胺衍生物的合成。利用其中的十二个碳的烷基链并二苝二酰亚胺衍生物为有机半导体材料，构建了有机场效应器件。发现其薄膜器件和微纳晶器件均有很好的性能。该类材料将在有机场效应晶体管、有机发光二极管和有机光伏器件有广阔的应用前景。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种制备并二茈二酰亚胺衍生物的方法。
技术介绍
茈二酰亚胺衍生物是一类常见的工业颜料，广泛地应用于染料、汽车涂料等工业领域。伴随着材料科学的发展，茈二酰亚胺衍生物不断地被赋予新的性能和应用，其光电性能日益突显，所以在有机光电材料领域有重要的地位和应用前景。例如，有机半导体领域，包括有机场效应晶体管、有机发光二极管和有机光伏材料等，其中特别是有机场效应晶体管材料，由于其优异的半导体性能，引起半导体工业界的关注。研究人员通过不同的合成方法，制备了一系列茈二酰亚胺衍生物，开发了大量性能优越的有机半导体材料。然而，迄今为止，化学家仅仅发展了一条合成并二茈二酰亚胺母体骨架的路线，继而基于化合物的母体骨架进行了一系列化学改造。其申请的专利也就如下若干个:CN101423522.W02010111822 和 W02010112452。基于已报道专利，可知并二茈二酰亚胺母体骨架合成的不易:有机合成方法极有限，至今未开发出高效的合成路线；反应产率非常低，通常在15%以下，不利于工业放大生产；反应条件苛刻，对反应物料纯度要求高，对氧气和水十分敏感，重复性差；反应时间久，生产周期长，不能满本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备式I所示化合物的方法，包括下述步骤：在惰性气氛中，使式II所示的化合物、铜催化剂、氨基酸配体、有机碱及添加剂进行反应，得到式I所示化合物；(式I)???????????(式II)式I中，所述R选自氢、C4?C25烷基和取代的芳基中的任意一种；所述取代的芳基中的取代基为C2?C12烷基；所述X均为Cl或Br；式II中，所述R、X的定义同式I。FDA00002965640300011.jpg

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：胡文平，卢修强，董焕丽，邵伟，黄贤良，李源基，
申请(专利权)人：中国科学院化学研究所，北京三星通信技术研究有限公司，
类型：发明
国别省市：