以δ相为主的层状硅酸钠的生产方法技术

本发明专利技术以δ相为主的层状硅酸钠的生产方法，该方法是将干法生产的固体硅酸钠粉碎成粒径为80～200目的粉末，将粉末通过预热处理后送入600—700℃结晶窑内煅烧10～20分钟生成以δ相为主的层状硅酸钠。本发明专利技术投资小，生产设备少，成本低，效率高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及的是一种以S相为主的层状硅酸钠的生产方法。
技术介绍
: 洗涤助剂是洗涤过程中起关键作用的组分，在洗涤剂配方中的加入量，我国一般为15%-30%，有些发达国家可能高达40%-60%。现有的洗涤助剂主要有三聚磷酸钠、4A沸石、柠檬酸钠、氮川三醋酸钠、层状硅酸钠和聚羧酸钠等。作为洗涤助剂，应具备的基本功能: 1、软化水，即降低洗涤溶液中钙、镁离子的浓度，使表面活性剂能更好地发挥洗涤作用； 2、提供碱性和碱性缓冲作用 ； 3、具有污垢分散能力和抗再沉积能力，抑制灰分沉积； 另外，优秀的洗涤助剂还应与表面活性剂具有协同效应。三聚磷酸钠是合成洗涤剂迄今为止最理想的洗涤助剂，用于洗涤剂中已有50多年的历史。从80年代开始，在我国经济高速发展、人民生活水平不断提高的同时，环境污染问题也逐步被大家所关注。由于含三聚磷酸钠的洗涤废水排放会造成的富营养化问题，许多地方政府发布了限、禁磷的法规。从90年代开始，我国无磷洗衣粉的比例迅速上升；加上近年来，国家取消了对三聚磷酸钠的原料黄磷生产的电价优惠，三聚磷酸钠的价格从4000元/吨上涨到6000元/吨左右，随着洗衣粉无磷化比例的不断提升，国内每年以4A沸石为主的无磷助剂消耗量已超过20万吨。现有的代磷助剂除4A沸石和层状硅酸钠以外，其余多数产品均为企标产品，产品本身为满足助剂性能添加了不同的物质从而造成灰分沉积等不良影响，而随着市场竞争的进一步加剧，对代磷助剂的要求将更高，以S相为主的层状硅酸钠作为无磷助剂在软化水能力和有效成分方面均优于4A沸石。国内层状硅酸钠的生产均采用的喷雾干燥、高温结晶的方式生产。首先生产液体硅酸钠(Si02与Na20含量的之和约32_40%，水分含量>60%)，然后以液体硅酸钠为原料，经过喷雾干燥、高温结晶的方式生产，整个生产过程中需除去的水分超过60%，生产过程中燃料消耗量大，同时生产设备包括液体硅酸钠生产、喷雾干燥、高温结晶等设备，整个工艺流程长，设备、土建投资大，造成层状硅酸钠的成本居高不下，严重的限制了层状硅酸钠应用。
技术实现思路
: 本专利技术的目的是为了克服以上不足，提供一种投资小，生产设备少，成本低，效率高，节能的以S相为主的层状硅酸钠生产方法。本专利技术的目的是这样来实现的: 本专利技术以S相为主的层状硅酸钠的生产方法，该方法是将干法生产的固体硅酸钠粉碎成粒径为80 200目的粉末，将粉末通过预热处理后送入600— 700°C结晶窑内煅烧10 20分钟生成以8相为主的层状硅酸钠。上述的预热处理温度为250 300°C，结晶窑内的煅烧温度为600 660°C。由于层状硅酸钠的晶型结构分a相、P相、5相、Y相四种，其中5相层状硅酸钠在洗涤剂中的使用性能最好，但S相的层状硅酸钠的转化温度范围较窄(仅±20°C左右)。为尽量提高成品中S相的层状硅酸钠的含量，本专利技术采用的两段处理的方式，在进入结晶窑前对原料进行预处理的方式，控制进入结晶窑的物料温度、水分，可以提高结晶窑内温度的稳定性，提高成品中本8相的层状硅酸钠的含量。本专利技术整个生产过程中需除去的水分远低于现有生产工艺，生产过程中燃料消耗量仅相当于现有生产工艺的40%左右，同时，由于生产过程中省去液体硅酸钠生产、喷雾干燥等设备，整个工艺设备、土建投资将更少，层状硅酸钠的成本将大大降低，生产效率高。具体实施方式: 实施例1: 将干法生产的固体硅酸钠(Si02与Na20含量的摩尔比值2.0 ± 0.1)通过雷蒙磨粉碎成100目的粉末,水分含量2.5% (由于固体娃酸钠的水分及粉碎过程中空气引入的水分)，将该粉末送入预热炉中、在250°C的条件下干燥20分钟，然后送入640°C结晶窑内煅烧15分钟生成S相为主的层状硅酸钠。实施例2: 将干法生产的固体硅酸钠(Si02与Na20含量的摩尔比值2.0 ± 0.1)通过雷蒙磨粉碎成200目的粉末,水分含量7.5% (由于固体娃酸钠的水分及粉碎过程中空气引入的水分)，将该粉末送入预热炉中、在270°C的条件下干燥20分钟，然后送入650°C结晶窑内煅烧15分钟生成S相为主的层状硅酸钠。实施例3: 将干法生产的固体硅酸钠(Si02与Na20含量的摩尔比值2.0±0.1)通过雷蒙磨粉碎成100目的粉末，水分含量1.5%，将该粉末和液体硅酸钠(Si02+Na20含量为36%)按1:0.4的比例进行混合，水分含量1 9%，将混合物送入预热炉中、在270°C的条件下干燥30分钟，然后送入600°C结晶窑内煅烧17分钟生成8相为主的层状硅酸钠。实施例4: 将干法生产的固体硅酸钠(Si02与Na20含量的摩尔比值2.0±0.1)通过雷蒙磨粉碎成80目的粉末，水分含量1.5%，将该粉末和液体硅酸钠(Si02+Na20含量为36%)按1:0.8的比例进行混合，水分含量29%，将混合物送入预热炉中、在270°C的条件下干燥30分钟，然后送入660°C结晶窑内煅烧12分钟生成8相为主的层状硅酸钠。上述实施实例是对本专利技术的上述内容作进一步的说明，但不应将此理解为本专利技术上述主题的范围仅限于上述实施实例。凡基于上述内容所实现的技术均属于本专利技术的范围。权利要求1.以S相为主的层状硅酸钠的生产方法，该方法是将干法生产的固体硅酸钠粉碎成粒径为80 200目的粉末，将粉末通过预热处理后送入600— 700°C结晶窑内煅烧10 20分钟生成以S相为主的层状硅酸钠。2.如权利要求1所述的以8相为主的层状硅酸钠的生产方法，其特征在于预热温度为250 300°C，结晶窑内的 煅烧温度为600 660°C。全文摘要本专利技术，该方法是将干法生产的固体硅酸钠粉碎成粒径为80～200目的粉末，将粉末通过预热处理后送入600—700℃结晶窑内煅烧10～20分钟生成以δ相为主的层状硅酸钠。本专利技术投资小，生产设备少，成本低，效率高。文档编号C01B33/32GK103193240SQ201310156619公开日2013年7月10日 申请日期2013年5月2日 优先权日2013年5月2日专利技术者杨敏 申请人:杨敏本文档来自技高网...

【技术保护点】
以δ相为主的层状硅酸钠的生产方法，该方法是将干法生产的固体硅酸钠粉碎成粒径为80～200目的粉末，将粉末通过预热处理后送入600—700℃结晶窑内煅烧10～20分钟生成以δ相为主的层状硅酸钠。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨敏，
申请(专利权)人：杨敏，
类型：发明
国别省市：