研磨抛光用磨粒流循环系统内置式专用搅拌分离器技术方案

本发明专利技术涉及一种研磨抛光用磨粒流循环系统内置式专用搅拌分离器，包括搅拌桶、设在搅拌桶内的搅拌浆，所述的搅拌浆由装在搅拌桶上方的电机驱动，所述的搅拌桶的侧壁上方设有进料口，所述搅拌桶的侧壁下方设有出流口，所述搅拌桶的底壁上设有排污口，所述的搅拌桶内腔与所述的排污口相通，所述的搅拌桶的底壁内侧上装有永磁体，所述的搅拌桶的侧壁下方设有回流口。本发明专利技术的有益效果为：（１）磨料能够高效地循环使用；（２）减少了金属颗粒对系统设备的损害和对加工工件精度的破坏；（３）方便了及时排污和对于搅拌桶的清洗。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种搅拌分离设备，特别是一种应用于研磨抛光用磨 粒流循环系统的专用搅拌分离器。(二)
技术介绍
研磨抛光用磨粒流循环系统要求工作时产生的固液两相液体要及 时的分离出金属颗粒同时及时清除金属颗粒，不使金属颗粒再次进入 循环系统以减少对系统设备的损害和对加工工件精度的破坏，从而使 得经过分离后的磨料能及时进入循环系统再次工作。然而，目前市场 上的搅拌分离设备并不能达到研磨抛光用磨粒流循环系统的上述要 求。(三)
技术实现思路
为了解决现有的搅拌分离设备不能满足研磨抛光用磨粒流循环系 统的上述要求的不足，本专利技术提出了一种专门为研磨抛光用磨粒流循 环系统设计的专用搅拌分离器。研磨抛光用磨粒流循环系统内置式专用搅拌分离器，包括搅拌桶、 设在搅拌桶内的搅拌浆，所述的搅拌浆由装在搅拌桶上方的电机驱动， 所述的搅拌桶的侧壁上方设有进料口，所述搅拌桶的侧壁下方设有出 流口，所述搅拌桶的底壁上设有排污口，所述的搅拌桶内腔与所述的 排污口相通，所述的搅拌桶的底壁内侧上装有永磁体，所述的搅拌桶 的侧壁下方设有回流口。优选的，所述的排污口设在所述的搅拌桶底壁的中心，所述的永 磁体环置在排污本文档来自技高网...

【技术保护点】
研磨抛光用磨粒流循环系统内置式专用搅拌分离器，包括搅拌桶、设在搅拌桶内的搅拌浆，所述的搅拌浆由装在搅拌桶上方的电机驱动，所述的搅拌桶的侧壁上方设有进料口，所述搅拌桶的侧壁下方设有出流口，所述搅拌桶的底壁上设有排污口，所述的搅拌桶内腔与所述的排污口相通，其特征在于：所述的搅拌桶的底壁内侧上装有永磁体，所述的搅拌桶的侧壁下方设有回流口。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：计时鸣，张生昌，张宪，郑水华，张金海，袁巧玲，张利，王宗槐，周佳，
申请(专利权)人：浙江工业大学，
类型：发明
国别省市：86[中国|杭州]