一种中温珍珠抛光方法技术

本发明专利技术公开了一种珍珠中温抛光技术，包括以下步骤：（１）在抛光设备内置入抛光料；（２）设定抛光设备转速１５０～１８０转／分钟，预运行至设备内工作温度达到５０℃～６０℃；（３）在抛光设备内置入珍珠，转速提至２００～２２０转／分钟进行抛光，设备内工作温度升至９０℃～１００℃时；（４）将抛光设备转速降至１２０～１５０转／分钟，使设备内工作温度下降至５０℃～１００℃；（５）关闭抛光设备，冷却，完成珍珠的抛光。本发明专利技术通过抛光设备提供不同的速度，产生不同的工作温度控制珍珠表层的磨损程度及抛光料的工作状况，既能达到优质的珍珠抛光效果，又能避免由于工作温度过高给珍珠表层造成较大的磨损伤害。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种珍珠的加工工艺，具体来说是指一种珍珠抛光方法。技术背景珍珠以它绚丽的色彩，特殊的珍珠光泽，晶莹凝重的朦胧美吸引了众 多的爱好者，人们亦将珍珠视作纯真、完美、尊贵、权威和富有的象征。 珍珠的经济价值主要是由珍珠的圓度、大小、白度、光泽、表面光洁度几 个方面的因素决定的。珍珠力口工工艺通常是指从珍珠原料到到制成工艺首饰成品的总过程， 它包括初加工和并f细加工两个阶^殳。初加工是把养殖场生产出来的原珠进 行优化改善处理，以达到宝石级的商品要求，从而提高其经济价值。精细 加工主要指饰用加工，有款式造型设计，组合,镶嵌，成型产品等工序。珍珠优化加工包括预处理、增光、漂白、染色、抛光等工艺流程。抛 光是珍珠优化工艺中的最后一道工序，它反映优化加工水平的高低，其结 果直接影响珍珠的光洁度与光泽，处理得好，大大增强珍珠晶莹洁白的效 果。抛光速度与抛料配比的选择是决定抛光质量的关键。传统抛光速度均为恒定，导致抛光设备内工作温度或高或低，直接影 响珍珠表皮磨损度及抛光效果。抛光设备与抛光材料的不断改进提高了珍珠抛光水平。目前最先进的 抛光技术所采用的抛光材料来自于美国的一种农作物内芯，经特殊加工制 作而成。其特点是在较短时间内不损伤，不污染珍珠，又能尽现珍珠的光 泽。该技术对抛光速度这一影响抛光水平的重要因素并没有改进。
技术实现思路
本专利技术提供了 一种解决传统珍珠抛光加工中因转速恒定，使工作温度 缺少合适变化，造成不合理的珍珠表皮磨损问题，提高珍珠抛光加工出品 品质的可变速^^珠抛光方法。一种珍珠中温抛光方法，包括以下步骤(1) 在抛光设备内置入抛光料；(2) 设定抛光设备转速150 ~ 180转/分钟，预运行至设备内工作温度 达到50。C ~60°C;(3 )在抛光设备内置入珍珠，转速提至200 ~ 220转/分钟进行抛光， 设备内工作温度升至90°C ~ 100。C时；(4 )将抛光设备转速降至120 ~ 150转/分钟，使设备内工作温度下降 至60。C ~80°C;(5)关闭抛光设备，冷却，完成珍珠的抛光。所述的抛光设备可选用珍珠加工工艺中的常用抛光设备。所述的抛光料采用颗粒状脱水玉米棒芯或固化颗粒状的纺织物或粉 碎颗粒状的核桃壳或其它可用的抛光料。最优选为颗粒状脱水玉米棒芯， 硬度适当，不会过硬损伤珍珠，也不会过软，达不到抛光的效果。颗粒状 脱水玉米棒芯和粉碎颗粒状的核桃壳也可分次加入，混合使用。所述的颗粒状脱水玉米棒芯中含有石蜡和硅油，当抛光设备内温度升 高时，石蜡和硅油从抛光料混合物中熔出，增加抛光材料的润滑度，并可 增加珍珠的光亮度。当选用含有石蜡和硅油的颗粒状脱水玉米棒芯作为抛光料时，步骤 (2)抛光设备预运行时150- 180转/分钟的转速，预运行15-20分钟，使 设备内工作温度维持在50°C ~ 60°C,此温度可抛出抛光料含有的石蜡和硅 油；步骤(3 )中将抛光设备提速至200 ~ 220转/分钟，运行20-25分钟后 设备内工作温度由于摩擦逐渐升至90°C ~ IO(TC，有助于抛去珍珠表皮杂 质；步骤(4)中抛光设备的转速又降至120 ~ 150转/分钟，运行20-25分 钟，设备内工作温度又下降至60°C -80。C为中温抛光，在该温度下石蜡和 硅油处于最佳熔解状态，可以均匀渗透进入珍珠表层，直接决定抛光效果。当选用颗粒状脱水玉米棒芯和粉碎颗粒状的核桃壳分次混合使用作 为抛光料时，先在设备内放入粉碎颗粒状的核桃壳，步骤(2)抛光设备 预运行时150~180转/分钟的转速，运行15-20分钟，设备内工作温度维 持在50。C ~ 60°C;步骤(3 )中将抛光设备提速至200 ~ 220转/分钟，运 行20-25分钟，i殳备内工作温度逐渐升至卯。C ~ IOO'C,高速高温下利用 核桃壳的硬度高、耐磨损、抗压性好、吸附截污能力强等优点吸附抛去珍珠表皮杂质，为吸附抛光；在步骤(4)加入颗粒状含有石蜡和硅油的脱 水玉米棒芯，抛光设备的转速在提升至120~150转/分钟，运行30-40分 钟，设备内工作温度降到60°C 80'C光，此时石蜡和硅油处于最佳熔解状 态，可以均匀渗透进入珍珠表层。本专利技术通过抛光设备提供不同的转速，产生不同的工作温度控制珍珠 表层的磨损程度及抛光料的工作状况，提高了珍珠抛光加工出 品品质。并 且本专利技术的主要抛光增光工作温度控制50°C ~ IOO'C之间，既能达到优质 的珍珠抛光效果，又能避免由于工作温度过高给珍珠表层造成较大的磨损 伤害。具体实施例方式实施例1:(1) 在抛光设备内置入含有石蜡和硅油颗粒状脱水玉米棒芯；(2) 将抛光设备设定转速150转/分钟，预运行15分钟，设备内工作 温度达到50°C ~60°C;(3) 在抛光设备内置入珍珠，转速提至200转/分钟，运行20分钟， 设备内工作温度达到90°C ~ IOO'C;(4) 将抛光设备转速降至120转/分钟，运行20分钟，设备内工作温 度降到60°C ~80°C;(5) 关闭抛光设备，冷却，完成珍珠的抛光。 实施例2:(1) 在抛光设备内置入粉碎颗粒状的核桃壳；(2) 将抛光设备设定转速180转/分钟，预运行20分钟，设备内工作 温度达到50°C ~60°C;(3 )在抛光设备内置入珍珠，转速提至220转/分钟，运行25分钟， 设备内工作温度达到90°C ~ IOO'C;(4) 在抛光设备内置入含有石蜡和硅油颗粒状脱水玉米棒芯，将抛 光设备转速降至150转/分钟，运行40分钟，设备内工作温度降到60°C ~ 80°C;(5) 关闭抛光设备，冷却，完成珍珠的抛光。权利要求1.一种珍珠中温抛光方法，包括以下步骤(1)在抛光设备内置入抛光料；(2)设定抛光设备转速150～180转/分钟，预运行至设备内工作温度达到50℃～60℃；(3)在抛光设备内置入珍珠，转速提至200～220转/分钟进行抛光，设备内工作温度升至90℃～100℃时；(4)将抛光设备转速降至120～150转/分钟，使设备内工作温度下降至60℃～80℃；(5)关闭抛光设备，冷却，完成珍珠的抛光。2. 如权利要求1所述的珍珠抛光方法，其特征在于所述的抛光料 为颗粒状脱水玉米棒芯和或粉碎颗粒状的核桃壳。3. 如权利要求2所述的珍珠抛光方法，其特征在于所述的颗粒状 脱水玉米棒芯中含有石蜡和硅油。全文摘要本专利技术公开了一种珍珠中温抛光技术，包括以下步骤(1)在抛光设备内置入抛光料；(2)设定抛光设备转速150～180转/分钟，预运行至设备内工作温度达到50℃～60℃；(3)在抛光设备内置入珍珠，转速提至200～220转/分钟进行抛光，设备内工作温度升至90℃～100℃时；(4)将抛光设备转速降至120～150转/分钟，使设备内工作温度下降至50℃～100℃；(5)关闭抛光设备，冷却，完成珍珠的抛光。本专利技术通过抛光设备提供不同的速度，产生不同的工作温度控制珍珠表层的磨损程度及抛光料的工作状况，既能达到优质的珍珠抛光效果，又能避免由于工作温度过高给珍珠表层造成较大的磨损伤害。文档编号B24B31/14GK101314213SQ200810063550公开日2008年12月3日 申请日期2008年6月26日 优先权日2008年6月26日专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种珍珠中温抛光方法，包括以下步骤：（１）在抛光设备内置入抛光料；（２）设定抛光设备转速１５０～１８０转／分钟，预运行至设备内工作温度达到５０℃～６０℃；（３）在抛光设备内置入珍珠，转速提至２００～２２０转／分钟进行抛光，设备内工作温度升至９０℃～１００℃时；（４）将抛光设备转速降至１２０～１５０转／分钟，使设备内工作温度下降至６０℃～８０℃；（５）关闭抛光设备，冷却，完成珍珠的抛光。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：戚鸟定，
申请(专利权)人：浙江天使之泪珠宝有限公司，
类型：发明
国别省市：33[中国|浙江]