西洋菜种植田制造技术

技术编号:8806694 阅读:582 留言:0更新日期:2013-06-14 00:40
本实用新型专利技术涉及一种西洋菜种植田,具有地畦,所述地畦四周设置有槽沟,槽沟外侧四周设置有田埂,田埂比地畦高10cm,田埂内侧灌有水深略过地畦畦面的田水。所述地畦宽度为3m。所述槽沟宽度为30cm。本实用新型专利技术的优点是,这种西洋菜种植田结构简单,可以方便灌排,方便管理,有机质丰富及阳光充足。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种蔬菜植地,尤其涉及一种西洋菜种植田
技术介绍
西洋菜学名N.0ffoconale.,英文名water cress,是十字花科豆瓣菜,属二年生草本植物,又名豆瓣菜、水揮菜、水田芥。西洋菜一般为浅根系,茎节易发生不定根。茎横切面近圆形,分枝多,绿色,匍匐生长,叶为奇数羽状复叶,顶端小叶较大,小叶片I对对,卵圆或近圆形,气温低或者培养管理条件不良时,茎叶会出现紫红色。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是,提供一种方便栽培管理的西洋菜种植田。为了解决上述技术问题,本技术是通过以下技术方案实现的:一种西洋菜种植田,具有地畦,所述地畦四周设置有槽沟,槽沟外侧四周设置有田埂,田埂比地畦高10cm,田埂内侧灌有水深略过地畦畦面的田水。为了方便规划种植,进一步地,所述地畦宽度为3m。为了具有灌排功能,再进一步地,所述槽沟宽度为30cm。与现有技术相比,本技术的有益之处是:这种西洋菜种植田结构简单,可以方便灌排,方便管理,有机质丰富及阳光充足。附图说明:以下结合附图对本技术进一步说明。图1是本技术西洋菜种植田端面结构剖视图。图中:1、田埂;2、田水;3、地畦;4、槽沟。具体实施方式:以下结合附图及具体实施方式对本技术进行详细描述:图1所示一种西洋菜种植田,具有地畦3,所述地畦3宽度为3m,四周设置有槽沟4,槽沟4宽度为30cm,外侧四周设置有田埂1,田埂I比地畦3高10cm,田埂I内侧灌有水深略过地畦3畦面的田水2。其具体规划步骤如下,首先选择耕作层深20cm以上,有机质丰富、阳光和水源充足的田块,然后犁翻耙平,接着起地畦3,地畦3四周留30cm宽的槽沟4作为工作行,地畦3畦面整平,田埂I高于地畦3畦面IOcm左右,地畦3内灌有田水2,田水2的水深略过畦面;连作时,每次采收后都应把身下的菜茎基翻入土中,耙平。这种西洋菜种植田结构简单,可以方便灌排,方便管理,有机质丰富及阳光充足。需要强调的是:以上仅是本技术的较佳实施例而已,并非对本技术作任何形式上的限制,凡是依据本技术的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本技术技术方案的范围内。权利要求1.一种西洋菜种植田,其特征在于:具有地畦(3),所述地畦(3)四周设置有槽沟(4),槽沟(4)外侧四周设置有田埂(I),田埂(I)比地畦(3 )高10cm,田埂(I)内侧灌有水深略过地畦(3)畦面的田水(2)。2.根据权利要求1所述的西洋菜种植田,其特征在于:所述地畦(3)宽度为3m。3.根据权利要求1所述的西洋菜种植田,其特征在于:所述槽沟(4)宽度为30cm。专利摘要本技术涉及一种西洋菜种植田,具有地畦,所述地畦四周设置有槽沟,槽沟外侧四周设置有田埂,田埂比地畦高10cm,田埂内侧灌有水深略过地畦畦面的田水。所述地畦宽度为3m。所述槽沟宽度为30cm。本技术的优点是,这种西洋菜种植田结构简单,可以方便灌排,方便管理,有机质丰富及阳光充足。文档编号A01G9/02GK202979739SQ20122058094公开日2013年6月12日 申请日期2012年11月7日 优先权日2012年11月7日专利技术者怀于生 申请人:吴江市同里镇生元水八仙蔬菜专业合作社本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种西洋菜种植田,其特征在于:具有地畦(3),所述地畦(3)四周设置有槽沟(4),槽沟(4)外侧四周设置有田埂(1),田埂(1)比地畦(3)高10cm,田埂(1)内侧灌有水深略过地畦(3)畦面的田水(2)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:怀于生
申请(专利权)人:吴江市同里镇生元水八仙蔬菜专业合作社
类型:实用新型
国别省市:

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