氨精制系统以及氨的精制方法技术方案

本发明专利技术提供能够通过简化的方法对氨进行精制且可以抑制能量的消耗从而有效地对氨进行精制的氨精制系统。氨精制系统（100）包含油分吸附塔（2）、高沸点杂质吸附部（3）和气化器（5）。油分吸附塔（2）将液体状的粗氨中含有的油分通过活性炭吸附除去。高沸点杂质吸附部（3）将液体状的氨中含有的高沸点杂质通过合成沸石吸附除去。另外，气化器（5）将从高沸点杂质吸附部（3）导出的液体状的氨以规定的气化率进行气化而将低沸点杂质以气相成分的形式分离除去。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及对粗氨进行精制(提纯)的。
技术介绍
在半导体制造工序以及液晶制造工序中，利用高纯度的氨作为用于氮化物被膜的制作等的处理剂。这样的高纯度的氨是通过对粗氨进行精制以除去杂质来得到的。粗氨中含有甲烷 、乙烷、丙烷等低级烃、具有更多的碳原子数的高级烃、水分、以及氢气、氮气、氧气、氩气、一氧化碳等低沸点气体作为杂质。通常能获得的粗氨的纯度为99.5重量％左右。根据半导体制造工序以及液晶制造工序中的使用氨的工序的种类不同，氨中的杂质的影响方式不同，但作为氨的纯度，要求为99.9999重量％以上，更优选为99.99999重量％以上。作为除去粗氨中含有的杂质的方法，已知有:使用硅胶、合成沸石、活性炭等吸附剂来吸附除去杂质的方法；蒸馏除去杂质的方法。例如，在专利文献I中公开了一种氨精制系统，其具备:从液体状的粗氨中除去高沸点杂质的第I蒸馏塔、将从第I蒸馏塔导出的气体状的氨中含有的杂质(主要为水分)通过吸附剂吸附除去的吸附塔、和由从吸附塔导出的气体状的氨中除去低沸点杂质的第2蒸馏塔。另外，在专利文献2中公开了利用由氧化钡构成的吸附剂将气体状的粗氨中含有的水分吸附除去后，进行蒸馏，由此对本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：北岸信之，田井慎一，吉田义则，
申请(专利权)人：住友精化株式会社，
类型：
国别省市：