一种显示装置、阵列基板及其制作方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示装置、阵列基板及其制作方法。该阵列基板包括：基板，所述基板上依次设有薄膜晶体管、钝化层和透明电极层，所述树钝化层上形成凹槽，所述透明电极层设置于凹槽内。本发明专利技术提供的显示装置、阵列基板及其制作方法，制作工艺简单，采用具有凹槽的钝化层，利用光刻胶进行灰化工艺形成透明电极层，从而省略制备透明电极的掩模板，可最大程度降低制造成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，特别是涉及。
技术介绍
近年来，随着科技的发展，液晶显示器技术也随之不断完善。TFT-1XD (Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶体管-液晶显示器)以其图像显示品质好、能耗低、环保等优势占据着显示器领域的重要位置。TFT-1XD由彩膜基板和阵列基板对盒而成。其中，现有的阵列基板通常采用多次mask掩膜工艺形成特定的结构图形。如图1所示，为现有技术中阵列基板结构示意图。该阵列基板包括基板1、该基板I上设有栅极、栅绝缘层2和半导体层，该绝缘层2上设有源电极3和漏电极4，该源电极3和漏电极4的上方和周围设有钝化层5，该钝化层5上设有像素电极层6。该像素电极层6通常采用掩模板进行曝光及后续工艺，进而形成电极层图形。在TFT-1XD的制作工艺中，掩模板的制作成本非常昂贵，每形成一种结构层都需要只有一次特定图形的掩模板进行曝光，工艺复杂，成本高，每多一次mask产能及良率均受到限制。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本专利技术要解决的技术问题是提供，减少mask工艺制程，克服现有技术中采用掩模板制作透明电极层本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括：基板，所述基板上依次设有薄膜晶体管、钝化层和透明电极层，所述树钝化层上形成有凹槽，所述透明电极层设置于凹槽内。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：崔承镇，刘圣烈，宋泳锡，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：