一种阳极氧化铝膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种阳极氧化铝膜的制备方法。该方法包括如下步骤：（1）将铝片依次进行退火和电化学抛光处理；（2）将经步骤（1）处理后的所述铝片置于电解液中进行第一次氧化；所述电解液为柠檬酸和草酸的混合物；（3）去除经所述第一次氧化处理后的所述铝片上的氧化铝层，然后再置于所述电解液中进行第二次氧化；（4）去除经所述第二次氧化后的所述铝片的铝基，然后经通孔和扩孔处理即得所述阳极氧化铝膜。本发明专利技术采用柠檬酸和草酸的混合酸作为电解液，通过改变柠檬酸和草酸的比例即可改变可形成自组装氧化的氧化电压，从而改变AAO模板的孔间距。该过程反应温和，电流稳定，能实现在较大值孔间距的连续可调，为AAO膜在纳米材料制备中扩展了应用范围。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及，具体涉及一种较大值孔间距且连续可调的阳极氧化铝膜及其制备方法。
技术介绍
高纯铝片作为阳极在适当的酸性溶液和适当的电压下进行氧化，能够得到多孔型阳极氧化招膜。多孔阳极氧化招膜(anodic aluminum oxide,以下简称AA0)具有高度有序的六角形周期性排列的孔结构，兼具耐高温、绝缘性好等特点，因而作为一种理想的模板材料，被广泛用来制备大面积高度有序的准零维纳米阵列材料如纳米点和一维纳米阵列材料如纳米线、纳米管等。AAO膜的结构参数直接决定了纳米材料的结构和性能，其长度可通过改变阳极氧化的时间精确控制，孔径的大小由改变氧化电压以及后期扩孔处理来调整。AAO膜的孔间距是指相邻两个膜胞的中心距离，其大小除了决定纳米结构材料的相邻距离外，也决定了 AAO膜后期扩孔过程中的最大孔径。因而孔间距是AAO膜很重要的一个结构参数。AAO膜的孔间距主要由氧化电压决定，电压越大孔间距越大。一般而言，电压大时流经电路中的电流比较大，产生的焦耳热也比较多，容易烧坏铝片，因而大孔间距的AAO膜不容易制备。典型的三种常见的AAO膜的制备工艺有:硫酸，氧化电压为25V ;草酸，氧化电压本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阳极氧化铝膜的制备方法，包括如下步骤：（1）将铝片依次进行退火和电化学抛光处理；（2）将经步骤（1）处理后的所述铝片置于电解液中进行第一次氧化；所述电解液为柠檬酸和草酸的混合物；（3）去除经所述第一次氧化处理后的所述铝片上的氧化铝层，然后再置于所述电解液中进行第二次氧化；（4）去除经所述第二次氧化后的所述铝片的铝基，然后经通孔和扩孔处理即得所述阳极氧化铝膜。

【技术特征摘要】
1.一种阳极氧化铝膜的制备方法，包括如下步骤: (1)将铝片依次进行退火和电化学抛光处理； (2)将经步骤(I)处理后的所述铝片置于电解液中进行第一次氧化； 所述电解液为柠檬酸和草酸的混合物； (3)去除经所述第一次氧化处理后的所述铝片上的氧化铝层，然后再置于所述电解液中进行第二次氧化； (4)去除经所述第二次氧化后的所述铝片的铝基，然后经通孔和扩孔处理即得所述阳极氧化铝膜。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于:步骤(I)中，所述退火在真空度为4X10_4Pa的条件下进行； 所述退火在400°C 500°C的条件下进行2 5h。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于:步骤(I)中，所述电化学抛光在高氯酸和无水乙醇的混合溶液中进行； 所述电化学抛光的电压为5 10V,温度为5 10°C,时间为3 10分钟。4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其特征在于:所述电解液中，所述柠檬酸的摩尔浓度为0.15mol/L，所述柠...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦秀芳，张锦琼，邓晨华，孟晓娟，丁古巧，许小红，
申请(专利权)人：山西师范大学，
类型：发明
国别省市：