用于气相沉积的氟基表面处理剂和使用该表面处理剂通过气相沉积进行修饰得到的制品制造技术

本发明专利技术公开了一种用于气相沉积的氟基表面处理剂，其包含(A)使用含氟氧化烯基团聚合物改性的含可水解基团的硅烷，和/或部分水解缩合物，和(B)重均分子量大于组分(A)的含氟氧化烯基团的聚合物，其中组分(A)和(B)以6∶4到9∶1的重量比混合。

【技术实现步骤摘要】
用于气相沉积的氟基表面处理剂和使用该表面处理剂通过气相沉积进行修饰得到的制品
本专利技术涉及一种表面处理剂，其包含使用含氟氧化烯基团的聚合物改性的硅烷。更特别的，本专利技术涉及一种可以形成优异疏水和疏油性并具有低动摩擦系数涂膜的表面处理剂，还涉及一种使用该表面处理剂修饰的制品。本专利技术的表面处理剂由特定比例的使用含氟氧化烯基团聚合物改性的硅烷和/或其部分水解缩合物，和具有更高重均分子量的含氟氧化烯基团的聚合物组成。
技术介绍
近来，已经出现移动手机的显示器被触摸屏代替的加速趋势。不利的是，因为触摸屏型显示器通常是裸露的并且要经受使用者手指和表皮的直接接触，所以具有容易被油脂等污染的缺点。因此，存在的日益增长的技术需求是保护显示器免于指纹污染和使得显示器易清洁，从而改善外观和可视性。通过任何常规的能够形成具有良好疏水和疏油的易清洁膜的常规的疏水和疏油产品可以满足该需求。然而，这种常规产品的缺点是从一批膜到另一批膜耐久性变化很大。此外，由于其中颗粒的团聚，难以形成光滑的膜。这就刺激了新型表面处理剂和始终如一地形成高性能涂膜的方法的开发。同时，由于任何含氟氧化烯基团的化合物具有极低的表面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于气相沉积的氟基表面处理剂，其包含(A)使用含氟氧化烯基团聚合物改性的含可水解基团的硅烷，和/或部分水解缩合物，和(B)重均分子量大于组分(A)的含氟氧化烯基团的聚合物，其中组分(A)和(B)以6∶4到9∶1的重量比混合。

【技术特征摘要】
2011.11.30 JP 2011-2615901.一种用于气相沉积的氟基表面处理剂，其包含(A)使用含氟氧化烯基团聚合物改性的含可水解基团的硅烷，和/或该含可水解基团的硅烷的部分水解缩合物，和(B)重均分子量大于组分(A)的含氟氧化烯基团的聚合物，其中组分(A)和(B)以6：4到9：1的重量比混合，组分(A)的重均分子量与组分(B)的重均分子量之间的比为1:1.5-1:5，其中组分(A)的硅烷是由通式(2)表示的硅烷：a是1或2，当a是1时，Rf是选自下列通式(3)、(4)和(5)中的一种：其中Y独立为F或者CF3基团，m是3-150的整数，和d’是1-3的整数，C3F7O(CF2CF2CF2O)mCd′F2d′-(4)其中m是3-150的整数和d’是1-3的整数，和其中Y独立为F或者CF3基团，Z是H或F，p和q各自为0-150的整数，p+q是3-150，d是1-3的整数，和该重复单元可以随机连接在一起，或当a是2时，Rf是选自以下通式(6)、(7)和(8)中的一种：其中Y独立为F或者CF3基团，d’独立为1-3的整数，e是2-6的整数，r和t各自为0-150的整数，s是0-6的整数，并且r+t+s是3-150，和该重复单元可以随机结合在一起，-CdF2dO(CF2CF2CF2O)m′CdF2d-(7)其中m’是3-150的整数和d是1-3的整数，和Y独立为F或者CF3基团，d独立为1-3的整数，p’和q’各自为0-150的整数，p’+q’是3-150，和该重复单元可以随机连接在一起，Q为未取代或者取代的具有2-12个碳原子的二价烃基，其包含至少一种选自酰胺键、醚键、酯键、乙烯基键和二有机亚甲硅基团的结构，和X是具有与可水解基团结合的硅烷和多个可水解基团的单价有机基团，和其中组分(B)的含氟氧化烯基团的聚合物具有相互结合选自下式的重复单元：-CF2O-、-CF2CF2O-、-CF2CF2CF2O-、-CF...

【专利技术属性】
技术研发人员：山根祐治，小池则之，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：