一种含有8-羟基喹啉有机硅聚合物的金属离子配合物制造技术

本发明专利技术公开了一种含有8-羟基喹啉有机硅聚合物的金属离子配合物，是通过以下制备方法制备得到的：（1）将①羟基保护的不饱和键取代的8-羟基喹啉、②含硅氢的硅烷、硅氧烷或聚硅氧烷和③催化剂加入到溶剂中，加热反应；反应结束后，降温至室温，脱除体系中的溶剂，得到硅氢加成产物；（2）脱除羟基保护基团，纯化后得含8-羟基喹啉的有机硅衍生物；（3）将金属离子化合物溶于吡啶或乙醇中，并缓慢滴加至含8-羟基喹啉的有机硅衍生物的四氢呋喃溶液中；反应后，降至室温，透析，即得。本发明专利技术的金属离子配合物具有耐温性能高，制备工艺简单，收率高的特点，在有机发光器件中的电致发光和电子传输材料中有潜在用途。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种含有8-羟基喹啉有机硅聚合物的金属离子配合物及其制备方法，属于有机娃合成化学领域。
技术介绍
8-羟基喹啉具有良好的配位作用，可以与多种金属离子形成配合物，其配合物可以作为有机发光材料、抗菌材料等。专利号为CN201010101545、公开号为101777631A的中国专利公开了一种8-羟基喹啉铝薄膜发光器件的制备方法；专利号为CN200910259576、公开号为的101728491A的中国专利，以及专利申请号为CN200880109668、公开号为101810055A的中国专利申请都公开了一种以8-羟基喹啉铝作为有机电子传输材料制备有机发光器件的方法。有机发光器件用的发光材料要求材料的稳定性好、工艺性能好、使用寿命长、发光强度高等。目前使用的有机发光材料主要包括有机小分子电致发光材料，制备较为简单，但在制备和使用过程中会出现结晶，发光器件的寿命降低，热稳定性差，生产成本高；聚合物发光材料主要是共轭聚合物与有机金属配合物和聚合物复合发光材料，其中共轭高分子发光材料的溶解性和加工性能差，而有机金属配合物与聚合物的复合物发光材料的制备工艺简单，但材料均匀性差，易发生本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种含有8?羟基喹啉有机硅聚合物的金属离子配合物，其特征在于：是通过以下制备方法制备得到的：（1）将①羟基保护的不饱和键取代的8?羟基喹啉、②含硅氢的硅烷、硅氧烷或聚硅氧烷和③催化剂加入到溶剂中，其中催化剂用量为1ppm～1%，加热到0℃～250℃，在搅拌下反应1～48小时；反应结束后，降温至室温，脱除体系中的溶剂，得到硅氢加成产物；（2）在碱性条件下水解脱除羟基保护基团，纯化后得含8?羟基喹啉的有机硅衍生物；（3）将金属离子化合物溶于吡啶或乙醇中，并缓慢滴加至含8?羟基喹啉的有机硅衍生物的四氢呋喃溶液中，在?10～200℃下反应0～100h；反应后，降至室温，透析，即得到含有8?羟基喹啉有机...

【技术特征摘要】
1.一种含有8-羟基喹啉有机硅聚合物的金属离子配合物，其特征在于:是通过以下制备方法制备得到的: (1)将①羟基保护的不饱和键取代的8-羟基喹啉、②含硅氢的硅烷、硅氧烷或聚硅氧烷和③催化剂加入到溶剂中，其中催化剂用量为Ippm 1%，加热到0°C 250°C，在搅拌下反应I 48小时；反应结束后，降温至室温，脱除体系中的溶剂，得到硅氢加成产物； (2)在碱性条件下水解脱除羟基保护基团，纯化后得含8-羟基喹啉的有机硅衍生物； (3)将金属离子化合物溶于吡啶或乙醇中，并缓慢滴加至含8-羟基喹啉的有机硅衍生物的四氢呋喃溶液中，在-10 200°C下反应0 IOOh ;反应后，降至室温，透析，即得到含有8-羟基喹啉有机硅聚合物的金属离子配合物。2.根据权利要求1所述的一种含有8-羟基喹啉有机硅聚合物的金属离子配合物，其特征在于:所述步骤(I)中，羟基保护的不饱和键取代的8-羟基喹啉结构式如下:3.根据权利要求1所述的一种含有8-羟基喹啉有机硅聚合物的金属离子配合物，其特征在于:所述步骤(I)中，含硅氢的硅烷、硅氧烷的结构式如下: 其中，R1为烷基或苯基，在同一结构式中可以相同或不同；X为Cl、Br、OCH3或OC2H5, b和 c 为 I 或 2，B+C=3。4.根据权利要求1所述的一种含有8-羟基喹啉有机硅聚合物的金属离子配合物，其特征在于:所述步骤(I)中，含硅氢的聚硅氧烷的结构式如下:5.根据权利要求1所述的一种含有8-羟基喹啉有机硅聚合物的金属离子配合物，其特征在于:所述步骤(I)中，催化剂...

【专利技术属性】
技术研发人员：周传健，项雪莲，陈国文，张晨，
申请(专利权)人：山东大学，
类型：发明
国别省市：