【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种逆向热键合技术制作尺寸可控的微纳米流体系统的方法，其特征是首先在预处理过的光栅模板上涂覆一层SU?8光刻胶，通过逆向压印技术将图形复制到SU?8光刻胶上，然后根据各界面间的粘附能不同的原理，使用UV胶带将固化的SU?8光刻胶揭下来，图形成功转移到柔性UV胶带上。另取一Si片旋涂一层薄SU?8光刻胶形成封装层Si基底，将上述制得的SU?8胶图形结构层覆盖在Si基底上，经逆向热键合技术制得微纳米流体系统。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王旭迪，涂吕星，刘玉东，陶伟，王时飞，
申请(专利权)人：合肥工业大学，
类型：发明
国别省市：
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