石墨膜及石墨复合膜制造技术

本发明专利技术提供一种石墨膜及石墨复合膜，其兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。采用扫描式电子显微镜，在5kV的加速电压下对所述石墨膜进行表面观察，以能够观察该石墨膜的表面的折皱的方式调节亮度、对比度、焦距，按640×480摄入倍率为400倍的表面SEM图像，对于所述表面SEM图像，使用通用图像处理软件实施浓度测定，得到测定值从最小值0到最大值255为止的图像，对该图像按通过下式决定的阈值进行黑白二值化，即阈值＝（最大值－最小值）×0.62，进而将被二值化了的该图像的白色区域按线宽为1进行细线化后，所得到的图像的白色区域的面积为1.0%以上且8.5%以下。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及作为电子设备、精密设备等的散热薄膜及散热器材料而使用的石墨膜，特别涉及耐弯曲性、热扩散性优良的石墨膜。
技术介绍
搭载在计算机等各种电子、电气设备上的半导体元件或其它发热部件等的冷却问题引人注目。作为这样的要冷却的部件的冷却方法，一般有在搭载该部件的设备筐体上安装风扇，对该设备筐体进行冷却的方法；或在该要冷却的部件上安装导热管或散热器、散热片或叶片等热导体，通过向外部传输来自该元件的热而进行冷却的方法等。作为安装在要冷却的部件上的导热材料，可列举出铝板或铜板等。而且，在这种情况下，在铝板或铜板的一部分上或在导热管上安装发热部件，进而采用叶片或风扇使该板的其它部分向外部散热。可是，近年来有搭载半导体元件等发热部件的各种设备小型化、而且该部件的发热量增大的倾向。但是，为了筐体小型化，用于插入叶片或散热片及风扇等部件的空间受到限制。因而，近年来，作为热导体(导热器)一直重视热扩散性优良的石墨膜。石墨膜是由碳形成层状结构、石墨膜的面内的导热率非常高、且密度轻到I 2g / cm3左右、而且具有高导电性的材料。此外，因能够减薄膜的厚度、且具有柔软性，因而一直被期待着作为在狭窄的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种石墨膜，其特征在于：采用扫描式电子显微镜，在5kV的加速电压下对所述石墨膜进行表面观察，以能够观察该石墨膜的表面的折皱的方式调节亮度、对比度、焦距，按640×480摄入倍率为400倍的表面SEM图像，对于所述表面SEM图像，使用通用图像处理软件实施浓度测定，得到测定值从最小值0到最大值255为止的图像，对该图像按通过下式决定的阈值进行黑白二值化，即阈值＝（最大值－最小值）×0.62????（1）进而将被二值化了的该图像的白色区域按线宽为1进行细线化后，所得到的图像的白色区域的面积为1.0%以上且8.5%以下。

【技术特征摘要】
2007.05.17 JP 2007-1321201.一种石墨膜，其特征在于:采用扫描式电子显微镜，在5kV的加速电压下对所述石墨膜进行表面观察，以能够观察该石墨膜的表面的折皱的方式调节亮度、对比度、焦距，按640X480摄入倍率为400倍的表面SEM图像， 对于所述表面SEM图像，使用通用图像处理软件实施浓度测定，得到测定值从最小值O到最大值255为止的图像，对该图像按通过下式决定的阈值进行黑白二值化，即 阈值=(最大值一最小值)X0.62 (I) 进而将被二值化了的该图像的白色区域按线宽为I进行细线化后，所得到的图像的白色区域的面积为1.0%以上且8.5%以下。2.根据权利要求1所述的石墨膜，其特征在于:所述通用图像处理软件是从NANOSystem株式会社得到的通用图像处理软件。3.根据权利要求1所述的石墨膜，其特征在于:所述扫描式电子显微镜是日立制S-4500型扫描式电子显微镜。4.根据权利要求1 3中任一项所述的石墨膜，其特征在于:所...

【专利技术属性】
技术研发人员：太田雄介，若原修平，西川泰司，
申请(专利权)人：株式会社钟化，
类型：发明
国别省市：