【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种，该基板具有平的、光滑的、基本上无缺陷的表面，一般是合成石英玻璃或硅基板，在现代技术中用作光掩模、纳米压印模具和液晶滤色片。
技术介绍
在将在精密设备例如半导体集成电路等中引入的组件的制造中，经常使用例如光刻法或纳米压印法等的现代技术。在这种技术的使用之中，重要的是基板在表面上具有尽可能少的缺陷。例如，如果光刻法中用作曝光模型的光掩模存在缺陷，就有形成有缺陷的图案的危险，因为缺陷会直接地转移到图案上。为了适应在最近的EUV印刷技术中存在的图案超小型化的需要，作为模型的基板也被要求具有平的、光滑的、基本上没有缺陷的表面。用作光掩模和液晶滤片的合成石英玻璃基板必须具有高的平整度、高光滑度和低缺陷。其在准备用于后续工艺之前，经受的几个再次表面处理的步骤包括研磨和抛光步骤。研磨步骤的目的是从晶锭上除去由切割引起的应变。抛光步骤的目的是时基板进行镜面加工，以使其表面的平整度和形状得到改善。最终抛光步骤是用具有小颗粒尺寸的胶体二氧化硅磨料抛光该基板，获得具有平的、光滑表面和不存在显微缺陷的基板。例如，专利文献I描述了一种获得最少缺陷基板的方法，其中最终抛光...
【技术保护点】
一种制造基板的方法，包括使用抛光衬垫和抛光浆料抛光基板表面的步骤，所述抛光衬垫具有由基础树脂制成的多孔拉毛层，基础树脂包括至少三种树脂，其中包括醚类树脂，拉毛层和基板表面相接触。
【技术特征摘要】
2011.11.15 JP 2011-2493451.一种制造基板的方法，包括使用抛光衬垫和抛光浆料抛光基板表面的步骤，所述抛光衬垫具有由基础树脂制成的多孔拉毛层，基础树脂包括至少三种树脂，其中包括醚类树月旨，拉毛层和基板表面相接触。2.如权利要求1的方法，其中制造拉毛层的...
【专利技术属性】
技术研发人员：松井晴信，原田大实，渡部厚，上田修平，竹内正树，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：
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