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免疫荧光专用玻片底座制造技术

技术编号:8787483 阅读:291 留言:0更新日期:2013-06-10 01:11
本实用新型专利技术涉及一种免疫荧光专用玻片底座,它由:载玻片底座、盖玻片凹槽、橡胶条构成。载玻片底座上设有多个盖玻片凹槽,盖玻片凹槽的四周装有橡胶条,橡胶条厚度为2—3mm。该产品结构简单,设计合理,载玻片底座上设有多个盖玻片凹槽,防止了抗体的流失,节省了抗体的使用,玻片放在专用底座上,盖玻片拿放方便,不容易破碎,清洗方便,成本低。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

免疫荧光专用玻片底座
:本技术涉及一种免疫荧光专用玻片底座。
技术介绍
:目前,用细胞做免疫荧光实验时,需要细胞爬片至盖玻片上,由于盖玻片面积小,无专用玻片底座,容易导致抗体流失,浪费了抗体,拿放不小心容易导致盖玻片破碎,影响实验的开展。
技术实现思路
:本技术的目的在于克服上述缺点,提供一种免疫荧光专用玻片底座,它主要解决了用细胞做免疫荧光实验时,盖玻片面积小,没有专用玻片底座,容易导致抗体流失,拿放不小心导致盖玻片破碎等问题。本技术的目的是这样实现的,免疫荧光专用玻片底座由:载玻片底座、盖玻片凹槽、橡胶条构成。载玻片底座上设有多个盖玻片凹槽,盖玻片凹槽的四周装有橡胶条,橡胶条厚度为2 — 3mm。该产品结构简单,设计合理,载玻片底座上设有多个盖玻片凹槽,防止了抗体的流失,节省了抗体的使用,玻片放在专用底座上,盖玻片拿放方便,不容易破碎,清洗方便,成本低。附图说明:附图1是本技术免疫荧光专用玻片底座的主视图。附图2是本技术免疫荧光专用玻片底座的俯视图。I 一载玻片底座 2—盖玻片凹槽 3—橡胶条具体实施方式:以下结合附图详细说明本技术的最佳实施例,免疫荧光专用玻片底座由:载玻片底座1、盖玻片凹槽2、橡胶条3构成。载玻片底座I上设有多个盖玻片凹槽2,盖玻片凹槽2的四周装有橡胶条3,橡胶条3厚度为2 — 3mm。

【技术保护点】
一种免疫荧光专用玻片底座,它由:载玻片底座(1)、盖玻片凹槽(2)、橡胶条(3)构成,其特征在于:载玻片底座(1)上设有多个盖玻片凹槽(2),盖玻片凹槽(2)的四周装有橡胶条(3),橡胶条(3)厚度为2—3mm。

【技术特征摘要】
1.一种免疫荧光专用玻片底座,它由:载玻片底座(I)、盖玻片凹槽(2)、橡胶条(3)构成,其特征在于:载玻片底...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘蕾陈立平马小茹陈光王薇王淑秋王景涛刘君星
申请(专利权)人:佳木斯大学
类型:实用新型
国别省市:

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