一种带分布功能的分布器支撑栅制造技术

技术编号:8779807 阅读:163 留言:0更新日期:2013-06-09 21:23
本实用新型专利技术涉及一种支撑栅,具体涉及一种带分布功能的分布器支撑栅。它由支撑栅本体构成,支撑栅本体为一长条槽体,其截面呈梯形,支撑栅本体的下端口两侧分别设置有翼缘,支撑栅本体的两端及两侧和顶部的槽体上分别设置有多排喷射孔,支撑栅本体两侧中间部位的喷射孔上设置有档液帽。本实用新型专利技术通过支撑栅本体两侧喷射孔上设置的档液帽,可避免液体在进入填料层时顺喷射孔下流的情况,从而使液体得以均匀分布,进而提高气液传质的效果,解决了现有填料支撑栅不具备气液分布的功能,造成液体在进入填料层时的分布点有限,导致液体分布的均匀性受到影响,进而影响气液传质效果的问题。具有积极的推广意义。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种支撑栅,具体涉及一种带分布功能的分布器支撑栅
技术介绍
分布器是填料塔内部构件中重要的构件之一,是能使气液间的接触保持均匀、保证填料塔传质与分离效率的关键因素,性能良好的气液分布器可以减少不良分布,改善填料塔的气液分布,以及提高填料塔的传质传热效率。目前分布器的种类较多,其中槽式分布器是常用的一种,依据气液传质的原理,液体在进入填料层时,要求液体在整个塔截面上是均匀的,这样才能在填料层进行充分的接触,从而达到提纯、精馏的目的。由于目前构成槽式分布器的填料支撑栅不具备气液分布的功能,造成液体在进入填料层时的分布点有限,导致液体分布的均匀性受到影响,进而影响气液传质的效果。
技术实现思路
本技术的目的在于:提供一种结构简单、设计新颖,可使液体在进入填料层时均匀分布,进而提高填料塔的传质传热效果的带分布功能的分布器支撑栅。本技术的技术方案是:一种带分布功能的分布器支撑栅,它由支撑栅本体构成,其特征在于:支撑栅本体为一长条槽体,其截面呈梯形,支撑栅本体的下端口两侧分别设置有翼缘,支撑栅本体的两端及两侧和顶部的槽体上分别设置有多排喷射孔,支撑栅本体两侧中间部位的喷射孔上设置有档液帽,其中支撑栅本体的一端为斜面。本技术的优点在于:该带分布功能的分布器支撑栅工作过程中,通过支撑栅本体两侧喷射孔上设置的档液帽,可避免液体在进入填料层时顺喷射孔下流的情况,从而使液体得以均匀分布,进而提高气液传质的效果,解决了现有填料支撑栅不具备气液分布的功能,造成液体在进入填料层时的分布点有限,导致液体分布的均匀性受到影响,进而影响气液传质效果的问题。同时,该带分布功能的分布器支撑栅顶部为一平面,避免了现有支撑栅顶部为圆弧形,在支撑填料时,特别是一些单个体积较小的轻瓷填料,会导致支撑不稳的现象,该带分布功能的分布器支撑栅结构简单、设计新颖,具有积极的推广意义。附图说明附图为本技术的结构示意图。图中:1、支撑栅本体,2、翼缘,3、喷射孔,4、档液帽。具体实施方式该带分布功能的分布器支撑栅由支撑栅本体I构成,支撑栅本体I为一长条槽体,其截面呈梯形,支撑栅本体I的下端口两侧分别设置有翼缘2,支撑栅本体I的两端及两侧和顶部的槽体上分别设置有多排喷射孔3,支撑栅本体I两侧中间部位的喷射孔3上设置有档液帽4,其中支撑栅本体I的一端为斜面。该带分布功能的分布器支撑栅其顶部为一平面,避免了传统支撑栅顶部为圆弧形,在支撑填料时,特别是一些单个体积较小的轻瓷填料,会导致支撑不稳的现象。在工作过程中,该带分布功能的分布器支撑栅,通过支撑栅本体I两侧喷射孔3上设置的档液帽4,可防止液体在进入填料层时顺喷射孔3下流的情况,从而使液体得以均匀分布,进而提高气液传质的效果,解决了现有填料支撑栅不具备气液分布的功能,造成液体在进入填料层时的分布点有限,导致液体分布的均匀性受到影响,进而影响气液传质效果的问题。同时,该带分布功能的分布器支撑栅具有结构简单、设计新颖,使用方便,生产成本低的特点,具有积极的推广意义。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带分布功能的分布器支撑栅,它由支撑栅本体(1)构成,其特征在于:支撑栅本体(1)为一长条槽体,其截面呈梯形,支撑栅本体(1)的下端口两侧分别设置有翼缘(2),支撑栅本体(1)的两端及两侧和顶部的槽体上分别设置有多排喷射孔(3),支撑栅本体(1)两侧中间部位的喷射孔(3)上设置有档液帽(4),其中支撑栅本体(1)的一端为斜面。

【技术特征摘要】
1.一种带分布功能的分布器支撑栅,它由支撑栅本体(I)构成,其特征在于:支撑栅本体(I)为一长条槽体,其截面呈梯形,支撑栅本体(I)的下端口两侧分别设置有翼缘(2),支...

【专利技术属性】
技术研发人员:雷华
申请(专利权)人:湖北力拓能源化工装备有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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