透明导电膜的制造方法及通过该方法制造的透明导电膜技术

本发明专利技术提供透明导电膜的制造方法及通过该方法制造的透明导电膜，所述透明导电膜的制造方法的特征在于，在基材上形成包含透明导电性氧化物、导电性金属体和导电性聚合物的透明复合导电层；或在基材上形成包含透明导电性氧化物层、导电性金属体层和导电性聚合物层的透明复合导电层；或在基材上形成具有透明导电性氧化物层和包含导电性金属体及导电性聚合物的有机-无机混合层的透明复合导电层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及工序简单，能够制造电导率、透射率、耐弯曲性及粘接力优异且具有低雾度(Haze)的透明导电膜的透明导电膜的制造方法及通过该方法制造的透明导电膜。
技术介绍
通常透明导电膜用作显示元件的电源施加用；家电设备的电子波阻断膜；LCD、OLED、FED、TOP、柔性显示器；电子纸等各种显示器领域的透明电极等电气电子装备的必要构成要素，目前主要使用的透明导电膜原料有IT0(Indium-Tin oxide)>AT0(Antimony-Tin0xide)、AZ0 (Antimony-Zinc Oxide)等无机氧化物导电性原料。如果将上述原料利用通常使用的溅射法、离子束法或真空蒸镀法等制造透明导电膜，则能够制造高导电性和透射率优异的导电膜，但是真空装备导致的设备投资费用大，大量生产及大型化存在困难，尤其是对塑料膜之类的需要低温工序的透明基板而言存在限制。通过溅射工序蒸镀时，根据氧气分压和温度等条件，透明导电膜的组成发生变化，从而发生薄膜的透射率和阻抗急剧变化的现象。因此，提出了适合低价格化和大型化的利用旋涂、喷涂、沉积涂覆、印刷等湿式涂覆法进行涂覆后煅烧而使用透明导电膜的方法，例如韩国专利公开号第1999-011487号中公开了利用金属微粒和结合剂的透明导电膜；韩国专利公开号第1999-064113号中公开了氧化锡中添加中空型碳化微纤维制得的透明导电膜用组合物；韩国专利公开号第2000-009405号中公开了氧化锡或氧化铟中添加氧化钕制得的透明导电性光选择吸收被膜形成用涂覆溶液。此外，日本专利第2003-213441号中公开了有关含有金或银等金属微粒的透明导电层形成液的制造方法的内容。通过所述方法制造的透明导电膜的表面阻抗大；且发生根据周围环境变化而表面阻抗随时间增加等经时变化，因此存在不能维持初期导电性的问题；透射率低而用作导电膜时受限；还由于复杂而大量的工序而存在生产率降低的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供工序简单，能够制造电导率、透射率、耐弯曲性及粘接力优异且具有低雾度(Haze)的透明导电膜的透明导电膜的制造方法及通过该方法制造的透明导电膜。本专利技术提供一种透明导电膜的制造方法，其特征在于，包括:a)在基材上形成透明复合导电层的步骤，即，形成包含透明导电性氧化物、导电性金属体和导电性聚合物的有机-无机混合型透明复合导电层的步骤；以及b)将所述透明复合导电层进行干燥和煅烧的步骤。本专利技术还提供一种透明导电膜的制造方法，其特征在于，包括:a)在基材上形成透明复合导电层的步骤，即，形成具有透明导电性氧化物层及包含导电性金属体和导电性聚合物的有机-无机混合层的透明复合导电层，且与顺序无关地形成所述透明导电性氧化物层和所述有机-无机混合的步骤；以及b)将所述透明复合导电层进行干燥和煅烧的步骤。本专利技术还提供一种透明导电膜的制造方法其特征在于，包括:a)在基材上形成透明复合导电层的步骤，即，形成包含透明导电性氧化物层、导电性金属体层和导电性聚合物层的透明复合导电层，且与顺序无关地形成所述透明导电性氧化物层、所述导电性金属体层和所述导电性聚合物层步骤；以及b)将所述透明复合导电层进行干燥和煅烧的步骤。本专利技术还提供通过上述方法制造的透明导电膜。根据本专利技术可提供工序简单，能够制造电导率、透射率、耐弯曲性及粘接力优异且具有低雾度(Haze)的透明导电膜的透明导电膜的制造方法及通过该方法制造的透明导电膜。附图说明图1是根据本专利技术实施例1的透明导电膜的结构示意图。图2是根据本专利技术实施例2的透明导电膜的结构示意图。图3是根据本专利技术实施例3的透明导电膜的结构示意图。具体实施例方式根据本专利技术实施例1的透明导电膜的制造方法包括:a)在基材上形成透明复合导电层的步骤，即，形成包含透明导电性氧化物、导电性金属体和导电性聚合物的有机-无机混合型透明复合导电层的步骤；以及b)将所述透明复合导电层进行干燥和煅烧的步骤。根据实施例1的透明导电膜如图1所示，可以由基材及有机-无机混合型透明复合导电层(包含透明导电性氧化物、导电性金属体、导电性聚合物的层)构成。所述有机-无机混合型透明复合导电层可在能确保透射率的范围内具备多个。所述a)步骤的所述基材只要是通过涂覆或印刷工序容易形成薄膜或图案，就可以使用多种的基板。例如，可以使用聚酰亚胺(PI)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚砜(PES)、尼龙(Nylon)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚醚醚铜(PEEK)、聚碳酸酯(PC)、聚芳酯(PAR)等透明塑料膜或玻璃基板。但是基材的种类并不限于此。此外，根据本专利技术的透明导电膜的制造方法在所述a)步骤之前还可以包括将所述基材进行前处理的步骤。 具体地，可以将所述基材进行水洗及脱脂后使用，或进行特别的前处理而使用，前处理方法例如有等离子体、离子束、电晕、氧化或还原、热、蚀刻、紫外线(UV)照射以及使用所述粘结剂或添加剂的底漆(primer)处理方法，但并不限于此。所述a)步骤的所述有机-无机混合型透明复合导电层中，透明导电性氧化物可以以片或纳米片状(fkake )包含在所述有机-无机混合型透明复合导电层中。所述透明导电性氧化物可以以厚度900nm以下及直径IOym以下的片状添加。优选厚度及直径为I μ m以下，更优选IOOnm以下，但不限于此。此外，所述导电性金属体可以以线、杆或纤维形态被包含在所述有机-无机混合型透明复合导电层中。可以使用直径ΙΟμπι以下的导电性金属体。优选Iym以下，更优选IOOnm以下,但不限于此。所述a)步骤的所述有机-无机混合型透明复合导电层可以由含有所述透明导电性氧化物、所述导电性金属体和所述导电性聚合物的I液型有机-无机混合溶液形成。例如，可以由包含透明导电性氧化物溶液、导电性金属体溶液和导电性聚合物溶液而制造的I液型有机-无机混合溶液形成。具体地，可以由包含透明导电性氧化物分散液、导电性金属体水溶液和导电性聚合物水溶液的I液型有机-无机混合溶液形成。但不限于此。所述透明导电性氧化物分散液中，所述透明导电性氧化物可以以厚度900nm以下及直径10 μ m以下的片状添加分散而成。优选厚度及直径I μ m以下，更优选IOOnm以下，但不限于此。所述透明导电性氧化物分散液可以将透明导电性氧化物片与溶剂混合，以使透明导电性氧化物片均匀分散在溶剂中而制造。此外，还可以利用通过溶胶凝胶合成法制造纳米分散体的方法，以使能够进行湿式涂覆。在此，溶剂可以使用有机或无机树脂或醇、水或有机溶剂等溶剂中的一种或它们的混合物。此时，除了溶剂以外还可以添加结合剂及/或分散剂。作为所述结合剂，可以举出乙基羟乙基纤维素与丙烯酸-丙烯酰胺共聚物的混合物、聚环氧乙烷与聚乙烯醇的混合物、丙烯酸-甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸酯-甲基丙烯酸酯共聚物、丙烯酸-丙烯酰胺共聚物及丙烯酸-丙烯酰胺共聚物与聚环氧乙烷的混合物。所述分散剂可以主要使用聚羧酸或其衍生物之类的有机化合物。聚羧酸或其衍生物的例子可举出丙烯酸或甲基丙烯酸的碱金属盐之类的丙烯酸盐或甲基丙烯酸盐的均聚物及共聚物；丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯或甲基丙烯酸异丁酯之类的丙烯酸酯或丙烯酸甲酯的均本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.07.30 KR 10-2010-00743801.一种透明导电膜的制造方法，其特征在于，包括: a)在基材上形成透明复合导电层的步骤，即，形成包含透明导电性氧化物、导电性金属体和导电性聚合物的有机-无机混合型透明复合导电层的步骤；以及 b)将所述透明复合导电层进行干燥和煅烧的步骤。2.根据权利要求1所述的透明导电膜的制造方法，其特征在于，所述透明导电性氧化物以片状包含在所述有机-无机混合型透明复合导电层中。3.根据权利要求1所述的透明导电膜的制造方法，其特征在于，所述有机-无机混合型透明复合导电层由含有所述透明导电性氧化物、所述导电性金属体和所述导电性聚合物的I液型有机-无机混合溶液形成。4.根据权利要求1所述的透明导电膜的制造方法，其特征在于，所述有机-无机混合型透明复合导电层由I液型有机-无机混合溶液形成，所述I液型有机-无机混合溶液包含透明导电性氧化物溶液、导电性金属体溶液和导电性聚合物溶液而制造。5.根据权利要求4所述的透明导电膜的制造方法，其特征在于，所述I液型有机-无机混合溶液进一步包含选自去离子水、有机溶剂和表面活性剂中的I种以上而制造。6.根据权利要求5所述的透明导电膜的制造方法，其特征在于，所述有机-无机混合溶液通过以下步骤而制造:将所述导电性金属体溶液和所述导电性聚合物溶液与所述有机溶剂混合的步骤；添加所述透明导电性氧化物溶液进行混合的步骤；以及添加所述去离子水、所述有机溶剂和所述表面活性剂进行混合的步骤。7.—种透明导电膜的制造方法，其特征在于，包括: a)在基材上形成透明复 合导电层的步骤，即，形成具有透明导电性氧化物层及包含导电性金属体和导电性聚合物的有机-无机混合层的透明复合导电层，且与顺序无关地形成所述透明导电性氧化物层和所述有机-无机混合层的步骤；以及 b)将所述透明复合导电层进行干燥和煅烧的步骤。8.根据权利要求7所述的透明导电膜的制造方法，其特征在于，以所述透明导电性氧化物层和所述有机-无机混合层的顺序进行层叠时，将所述透明导电性氧化物层进行开裂后，在开裂的透明导电性氧化物层上形成所述有机-无机混合层。9.根据权利要求8所述的透明导电膜的制造方法，其特征在于，所述透明导电性氧化物层进行开裂时以片状进行开裂，从而所述透明导电性氧化物层以包含透明导电性氧化物片的透明导电性氧化物片层的方式形成。10.根据权利要求7所述的透明导电膜的制造方法，其特征在于，所述透明导电性氧化物层由透明导电性氧化物溶液形成，所述有机-无机混合层由包含导电性金属体溶液和导电性聚合物溶液而制造的有机-无机混合溶液形成。11.根据权利要求10所述的透明导电膜的制造方法，其特征在于，所述有机-无机混合溶液还包含选自去离子水、有机溶剂和表面活性剂中的I种以上而制造。12.根据权利要求11所述的透明导电膜的制造方法，其特征在于，所述有机-无机混合溶液通过以下步骤而制造:将所述导电性金属体溶液和所述导电性聚合物溶液与所述有机溶剂进行混合的步骤；以及添加所述去离子水、所述有机溶剂和所述表面活性剂进行混合的步骤。13.—种透明导电膜的制造方法，其特征在于，包括:a)在基材上形成透明复合导电层的步骤，即，形成包含透明导电性氧化物层、导电性金属体层和导电性聚合物层的透明复合导电层，且与顺序无关地形成所述透明导电性氧化物层、所述导电性金属体层和所述导电性聚合物层的步骤；以及 ...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑光春，赵显南，柳志勋，郑润浩，
申请(专利权)人：印可得株式会社，
类型：
国别省市：