反射率测定装置、反射率测定方法、膜厚测定装置及膜厚测定方法制造方法及图纸

本发明专利技术的反射率测定装置（1）具备：测定光源（30），对测定对象物供给照射光（L1）；分光检测部（80），对各波长检测照射光（L1）的强度及来自测定对象物的反射光（L2）的强度；系数记录部（92），记录将照射光（L1）的各波长的强度检测值转换成相当于来自基准测定对象物的反射光（L2）的各波长的强度检测值的转换系数K(λ)；及反射率计算部（93），基于根据照射光（L1）的各波长的强度检测值及转换系数K(λ)求得的、相当于来自基准测定对象物的反射光（L2）的各波长的强度的值，计算各波长的反射率。由此，可高精度地测定测定对象物的各波长的反射率。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
专利文献I中记载有检测液晶显示器用基板的表面处理的终点的装置。该装置对液晶显示器用基板照射来自氙气灯或卤素灯等的光源的光，检测来自液晶显示器用基板的反射光，根据反射光的各波长的反射率而检测表面处理的终点。另外，专利文献2中记载有求得被蚀刻基板的蚀刻深度的装置。该装置对被蚀刻基板照射来自氙气灯等的白色光源的光，检测来自被蚀刻基板的反射光，由此求得被蚀刻基板的蚀刻深度。现有技术文献专利文献日本特开平05-322515号公报日本特开2001-267300号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题作为测定对象物的膜厚的测定方法，已知有通过检测来自测定对象物的反射干涉光，计算各波长的反射率，而求得测定对象物的膜厚的方法。其利用薄膜的正面与背面的反射光产生的干涉。来自背面的反射光的光路相对于来自表面的反射光来说，要更长膜厚的2倍的厚度，使相位变化。由这些来自表面的反射光与来自背面的反射光干涉而获得干涉光。若对各波长分解该干涉光，则各波长强度会产生变化，从而可根据该变化的情况而计算膜厚。在根据干涉光的各波长的强度的变动计算膜厚的情形，一般是求得各波长的反射率，以便除去从本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：大塚贤一，中野哲寿，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：
国别省市：