掩模组件及使用其制造的有机发光二极管显示器制造技术

掩模组件包括形成开口的框架和形成多个沉积开口的多个单元掩模，单元掩模的纵向端部固定到框架。多个单元掩模的至少两个相邻的单元掩模具有在彼此面对的两侧上的形成的沉积凹部。所述沉积凹部沿单元掩模的宽度方向的宽度等于或大于沉积开口沿单元掩模的宽度方向的宽度。

【技术实现步骤摘要】
掩模组件及使用其制造的有机发光二极管显示器
本专利技术涉及掩模组件。更具体地，本专利技术涉及用于薄膜沉积的掩模组件和使用其制造的有机发光二极管显示器。
技术介绍
有机发光二极管显示器具有自发光特性，并且显示了高品质特性，例如低功耗、高亮度、高响应速度等。有机发光二极管显示器具有有机发光层设置在像素电极和公共电极之间且每个子像素包括像素电极和有机发光层的结构。有机发光层由使用掩模组件的沉积方法形成。掩模组件包括具有与有机发光层对应的多个沉积开口的带形单元掩模和用于支撑单元掩模的框架。通过沿长度方向施加于单元掩模的拉力将单元掩模固定到框架上，由此防止了单元掩模因自重而产生的下垂。在制造大型有机发光二极管显示器时，这种分裂式掩模组件是有利的。在
技术介绍
部分所公开的上述信息，仅仅是为了加强对
技术介绍
的理解，因此，其可能包括没有成为现有技术的信息，但是这些信息已经被本国的本领域普通技术人员所了解。
技术实现思路
本专利技术提供了可以提高有机发光层的沉积质量的掩模组件和使用其制造的有机发光二极管显示器。本专利技术的示例性实施方式提供了一种掩模组件，包括：框架，包括开口；以及多个单元掩模，包括多个沉积本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模组件，包括：框架，包括开口；以及多个单元掩模，包括多个沉积开口，所述单元掩模的两个纵向端部固定到所述框架；其中，所述多个单元掩模中的至少两个相邻的单元掩模具有形成在彼此面对的两侧上的沉积凹部；以及其中，所述沉积凹部沿所述单元掩模的宽度方向的宽度不小于所述沉积开口沿所述单元掩模的所述宽度方向的宽度。

【技术特征摘要】
2011.11.30 KR 10-2011-01269311.一种掩模组件，包括：框架，包括开口；以及多个单元掩模，包括多个沉积开口，所述单元掩模的两个纵向端部固定到所述框架；其中，所述多个单元掩模中的至少两个相邻的单元掩模具有形成在彼此面对的两侧上的沉积凹部；以及其中，所述沉积凹部沿所述单元掩模的宽度方向的宽度不小于所述沉积开口沿所述单元掩模的所述宽度方向的宽度。2.如权利要求1所述的掩模组件，其中，每个所述沉积开口包括与所述单元掩模的所述宽度方向平行的长边和与所述单元掩模的长度方向平行的短边。3.如权利要求2所述的掩模组件，其中，沿所述单元掩模的所述宽度方向的所述沉积开口之间的间距小于沿所述单元掩模的所述长度方向的所述沉积开口之间的间距。4.如权利要求1所述的掩模组件，其中，所述沉积凹部设置为沿所述单元掩模的所述宽度方向与所述多个沉积开口平行。5.如权利要求4所述的掩模组件，其中，在至少两个单元掩模中形成的两个沉积凹部具有相同的形状和相同的尺寸且被设置为沿所述单元掩模的所述宽度方向彼此平行。6.如权利要求4所述的掩模组件，其中，所述沉积开口和所述沉积凹部被倾斜的侧壁围绕，并且其中，沿所述单元掩模的所述宽度方向的所述沉积凹部的一个侧壁的形状与沿所述单元掩模的所述宽度方向的所述沉积开口的所述侧壁的形状相同。7.如权利要求6所述的掩模组件，其中，每个所述单元掩模包括面向沉积表面的一个表面和所述一个表面的相对表面，在所述一个表面上观察的所述沉积开口和沉积凹部的尺寸大于在所述相对表面上观察的所述沉积开口和沉积凹部的尺寸。8.如权利要求1所述的掩模组件，其中，沿所述单元掩模的所述宽度方向的所述沉积凹部的宽度w1满足下列条件：w2<w1≤w2+d1/2其中，w2表示沿所述单元掩模的所述宽度方向的所述沉积开口的宽度，d1表示沿所述单元掩模的所述宽度方向的所述沉...

【专利技术属性】
技术研发人员：李相信，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：