本发明专利技术提供一种制造热辅助磁记录头的方法，其包括：准备包括光源的光源单元；准备在其上具有热辅助磁记录头部的基体，该热辅助磁记录头部包含磁极、等离子体发生器和光波导；在光源单元和基体之间插入金属，并且使金属熔融；以及在维持金属熔融的同时，在施加使光源单元和基体互相靠近的方向上的压力下，进行光源单元与热辅助磁记录头部之间的对准。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种制造在将近场光施加于磁记录介质以降低其矫顽力从而记录信息的热辅助磁记录头中所使用的热辅助磁记录头的方法，以及使用于此的对准装置。
技术介绍
现有技术中的磁盘装置用于读写磁信息(以下，简称为信息)。磁盘装置在其壳体内设置有存储信息的磁盘和将信息记录入磁盘并再现磁盘中所存储的信息的磁读写头。磁盘被固定于壳体的主轴电机的转轴支撑，并绕着转轴旋转。另一方面，磁读写头形成在设置于悬架一端的磁头滑块的侧面上，并且磁读写头包括具有面向磁盘的气垫面(airbearingsurface, ABS)的磁写入元件和磁读取元件。具体而言，作为磁读取元件，通常使用表现出磁阻效应的磁阻(MR)元件。悬架的另一端附着于被由直立安装在壳体内的固定轴可旋转地支撑的臂的边缘。当磁盘装置不在运行时，即当磁盘不旋转时，磁读写头不位于磁盘的上方并待避在远离磁盘的位置(卸载状态)。当磁盘装置被驱动且磁盘开始旋转时，磁读写头变成磁读写头与悬架一起位于磁盘上方的预定位置的状态(装载状态)。当磁盘的转数达到预定数时，由于正压和负压的平衡磁头滑块在轻微浮动在磁盘的表面上方的状态下稳定。因此，信息被准确地记录和再现。近年来，随着磁盘的更高记录密度(更高容量)的进步，已经要求对磁读写头和磁盘性能进行改进。磁盘是包含聚集的磁性微粒的不连续介质，各磁性微粒具有单畴(single-domain)结构。在磁盘中，一个记录位(bit)由多个磁性微粒构成。由于为了提高记录密度而必须使相邻记录位之间的边界的凹凸小，因此需要缩小磁性微粒。然而，如果磁性微粒的尺寸小，磁性微粒磁化的热稳定性会随着磁性微粒体积的减小而降低。为了解决该问题，增加磁性微粒的磁各向异性能是有效的。然而，增加磁性微粒的磁各向异性能会导致磁盘的矫顽力的增加。其结果是，使用现有的磁头来进行信息记录时会出现困难。作为解决上述难题的方法，已经提出了所谓的热辅助磁记录。在该方法中，使用具有大矫顽力的磁记录介质，当写入信息时，热与磁场一起施加于记录信息的磁记录介质的部分以增加温度和降低矫顽力，从而写入信息。以下，将在热辅助磁记录中所使用的磁头称为热辅助磁记录头。在热辅助磁记录中，近场光通常用于将热施加于磁记录介质。作为产生近场光的方法，通常已知的有使用是金属片的近场光探头即所谓的等离子体发生器的方法。在等离子体发生器中，等离子体由来自于外界的入射光的激发而产生，结果是产生近场光。对于要求从外界提供入射光的光源的布置，目前已经提出了各种结构。申请人已经提出了具有“复合滑块结构”的热辅助磁记录头，其中，包含激光振荡器的光源单元接合于形成有与ABS的表面相对的磁写入元件的滑块的表面。“复合滑块结构”公开在美国专利申请公开第2008/043360号的说明书以及美国专利申请公开第2009/052078号的说明书中。在利用等离子体发生器进行热辅助磁记录的方法中，将足够强度的光稳定地提供给磁记录介质上的期望的位置是重要的。因此，有必要确保将光源单元固定于滑块的高对准精度。对准精度的降低会引起相对于磁记录介质的加热效率的降低，这在热辅助磁记录中是严重的问题。出于该原因，期望提供一种能够容易且精确地制造写入效率良好的热辅助磁记录头的方法。此外，也期望提供一种适用于这样的制造热辅助磁记录头的方法的对准装置。
技术实现思路
根据本专利技术的实施方式的制造热辅助磁记录头的方法包括下列(Al) (A4)的步骤:(Al)准备包括光源的光源单元；(A2)准备其上具有热辅助磁记录头部的基体，该热辅助磁记录头部包括磁极、等离子体发生器和光波导；(A3)在光源单元与基体之间设置金属，并且使该金属熔融；以及(A4)维持金属熔融，并且在施加使光源单元与基体相互靠近的方向上的压力下，进行光源单元与热辅助磁记录头部之间的对准。在根据本专利技术实施方式的制造热辅助磁记录头的方法中，光源单元与基体之间的对准在这样的状态下进行，即在施加在使光源单元与基体相互靠近的方向上的压力下，处于熔融状态的金属插入在光源单元与基体之间。因此，在确保光源与光波导之间的高对准精度的同时，进一步减小光源与光波导之间的相对距离。其结果是，可以在降低的功耗下获得表现出更加优异的操作特性的热辅助磁记录头。根据本专利技术的实施方式的制造热辅助磁记录头的装置用于制造包括基体和光源单元的热辅助性磁记录头，该基体在其上具有包括磁极、等离子体发生器和光波导的热辅助磁记录头部，该光源单元具有光源并利用金属夹在中间而接合到基体，该装置包含下列(BI) (B4):(BI)定位部，调节光源单元与热辅助磁记录头部之间的相对位置；(B2)偏置机构，对光源单元和基体施加在使光源单元和基体相互靠近的方向上的压力；(B3)加热机构，将金属加热至熔融；(B4)控制器，控制定位部、偏置机构和加热机构的操作。根据制造本专利技术的实施方式的热辅助磁记录头的装置，通过控制器的操作控制，维持金属熔融，在施加使光源单元与基体相互靠近的方向上的压力下，可以调节光源单元与热辅助磁记录头部之间的相对位置。因此，在确保光源与光波导之间的高对准精度的情况下，可以实现使光源与光波导之间的距离减小的接合。其结果是，可以在降低的功耗下获得表现出更加优异的操作特性的热辅助磁记录头。在根据本专利技术的实施方式的制造热辅助磁记录头的方法中，压力的施加优选持续至熔融金属固化为止，原因是更切实地执行高精度的接合。此外，在金属熔融的状态下，优选使光源单元与基体在与压力施加的方向不同的方向上振动，原因是更加快速地减小光源与基体之间的相对距离。此外，可以在通过吸附部件吸附与所述光源单元和所述基体的接合面相交叉的另一个面的同时，将所述光源单元与所述基体中的一个压向另一个，由此施加所述压力。在这种情况下，优选通过改变吸附部件的吸附力来进行压力的调节，因为这样做，例如消除了将过多的压力施加到基体和光源单元的可能性。此外，优选地，所设置的光源单元包含其上安装有光源的支撑部件，并且进行支撑部件与基体之间的金属的插入，接着激光施加到支撑部件以使金属熔融。这是因为可以实现迅速的接合处理，因而光源单元与滑块之间的相对位置的错误不大可能发生。附图说明图1是示出根据本专利技术的实施方式的设置有热辅助磁头装置的磁盘装置的结构的立体图。图2是示出图1所示的磁盘装置中的滑块的结构的立体图。图3是示出从图2所示的箭头III的方向看的磁读写头的主要部分的结构的平面图。图4是示出从沿着图3所示的IV-1V线的箭头方向看的磁读写头的结构的截面图。图5是示出在磁读写头部的主要部分中暴露在气垫面的端面的结构的平面图。图6是示出图1所示的整个光源单元的基本结构的立体图。图7是示出磁读写头的主要部分的结构的分解立体图。图8是示出磁读写头的主要部分的结构的另一个立体图。图9是示出磁读写头的主要部分中与气垫面正交的截面的结构的截面图。图10是示出磁读写头的主要部分的平面图。图11是示出制造图1所示的磁头装置的方法中的工序的立体图。图12是示出接在图11的工序后面的工序的立体图。图13是示出接在图12的工序后面的工序的立体14是示出将条状物接合于光学单元的方法的步骤的流程图。图15是示出接在图13的工序后面的工序的立体图。图16是示出接在图15的工序后面的工序的立体图。图17是示出图1所示的磁盘装置的电路本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种制造热辅助磁记录头的方法，其特征在于，包含：准备包括光源的光源单元；准备基体，在所述基体上具有热辅助磁记录头部；在所述光源单元与所述基体之间设置金属，并且使所述金属熔融；以及维持所述金属熔融，并且在施加使所述光源单元与所述基体相互靠近的方向上的压力下，进行所述光源单元与所述热辅助磁记录头部之间的对准。
【技术特征摘要】
2011.12.01 US 13/309,0191.一种制造热辅助磁记录头的方法，其特征在于， 包含: 准备包括光源的光源单元； 准备基体，在所述基体上具有热辅助磁记录头部； 在所述光源单元与所述基体之间设置金属，并且使所述金属熔融；以及维持所述金属熔融，并且在施加使所述光源单元与所述基体相互靠近的方向上的压力下，进行所述光源单元与所述热辅助磁记录头部之间的对准。2.根据权利要求1所述的制造热辅助磁记录头的方法，其特征在于， 所述压力的施加持续至熔融了的所述金属固化为止。3.根据权利要求1所述的制造热辅助磁记录头的方法，其特征在于， 使所述光源单元与所述基体在与施加所述压力的方向不同的方向上振动，并且进行所述对准。4.根据权利要求1所述的制造热辅助磁记录头的方法，其特征在于， 在通过吸附部件吸附与所述光源单元和所述基体的接合面相交叉的另一个面的状态下，将所述光源单元与所述基体中的一个压向另一个，由此施加所述压力。5.根据权利要求4所述的制造热辅助磁记录头的方法，其特征在于， 所述压力通过改变由所述吸附部件产生的吸附力而进行调整。6.根据权利要求1所述的制造热辅助磁记录头的方法，其特征在于， 所准备的所述光源单元包括支撑部...
【专利技术属性】
技术研发人员：原晋治，岛泽幸司，高山清市，伊藤靖浩，森信幸，细井亮，高贯一明，安东洋一，杉山千元，
申请(专利权)人：TDK株式会社，新科实业有限公司，
类型：发明
国别省市：
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