一种光控可逆润湿涂层的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种光控可逆润湿涂层的方法。采用旋涂法制备含铋纳米材料涂层，将该涂层用长链烷烃脂肪酸改性，即可得到超疏水表面，该表面在氙灯光照下从超疏水变为超亲水，然后在暗室存储下又从超亲水回复到超疏水状态，并且该过程可重复多次。本发明专利技术方法操作简单，重复性好，适用性较广，所制备的可逆润湿涂层可用于智能开关、生物传感器、微流体通道、多功能涂层等领域。

【技术实现步骤摘要】

   本专利技术涉及一种光控可逆润湿涂层的制备方法，属于功能材料

技术介绍
    具有可逆润湿性能的半导体材料由于其特殊的表面性质，成为多功能涂层、微流体通道、生物传感器等领域中的研究热点。用于调控半导体材料表面润湿性的方法有温控法、电场法、溶剂处理法、光控法等等。其中光控法由于操作简单，快速可调且控制独立，成为最近几年调控材料表面润湿性的主要手段之一。半导体材料的光控可逆润湿现象最早是由Akira Fujishima课题组在1997年报道的[Nature, 1997, 388(6641), 431-432]。他们发现纳米二氧化钛涂层在光照和暗室存储下表面水接触角会发生可逆变化，但其接触角只能在0～72o 之间转换。直到2004年，江雷课题组才报道了一种在超疏水和超亲水之间光控可逆转换的纳米氧化锌涂层 [J Am Chem Soc, 2004,126, 62-63]。接触角大于150o的超疏水表面因在防水织物、自清洁玻璃、油水分离装置等的潜在应用受到了广泛的关注。之后又相继有文献报道了纳米二氧化钛、五氧化二钒、三氧化二铟等涂层在光照下可实本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光控可逆润湿涂层的制备方法，其特征在于：在表面清洗过的底材上旋涂含铋纳米材料，烘干成膜，将制备得到的涂层在浓度为1～100?mM的长链烷烃脂肪酸溶液中浸泡10～120分钟后，取出在60～180?oC下烘干；改性后的涂层在氙灯垂直照射于表面10～90分钟下变为超亲水，而放置于避光的暗室中，在空气中存储3～14天回复到超疏水状态。

【技术特征摘要】
1.一种光控可逆润湿涂层的制备方法，其特征在于：
在表面清洗过的底材上旋涂含铋纳米材料，烘干成膜，将制备得到的涂层在浓度为1～100 mM的长链烷烃脂肪酸溶液中浸泡10～120分钟后，取出在60～180 oC下烘干；
改性后的涂层在氙灯垂直照射于表面10～90分钟下变为超亲水，而放置于避光的暗室中，在空气中存储3～14天回复到超疏水状态。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述的底材采用普通玻璃片、ITO玻璃片、FTO玻璃片、铜片、云母片或硅片。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述的清洗包括如下步骤：将底材浸泡在乙醇溶剂中，在超声波作用下清洗去除杂质，60 oC烘干后密封保存备用。

【专利技术属性】
技术研发人员：陈嵘，胡晓婧，杨浩，吕中，赵慧平，
申请(专利权)人：武汉工程大学，
类型：发明
国别省市：