一种用于剪切散斑干涉的双旋转光楔空间相移方法技术

一种用于剪切散斑干涉的双旋转光楔空间相移方法。针对散斑干涉计量中离面形变的动态测量而设计。在成像光路中加入双孔来引入载频以满足相位提取算法所需的空间相移条件，通过改变两孔的间距以及调节成像透镜与成像面之间的距离可以实现空间相移量大小的控制。在双孔中的任意一孔位置设置旋转可调的双光楔，使经过双孔的两束光线的其中一束发生偏转，从而引起成像面上两个散斑场的相互剪切。通过旋转其中的一个光楔或者令两光楔相对旋转来改变组合双光楔的整体折射角，来实现剪切量大小的调节。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于剪切散斑干涉的双旋转光楔空间相移方法，其特征在于：第1、空间相移条件的引入：利用双孔作为相移元件来引入载频以满足相位提取算法所需的空间相移条件，载频方向为双孔的连线方向，系统的光轴垂直通过双孔连线的中点位置，双孔为两个大小相同的圆孔，其中双孔的孔距、成像透镜与像面之间的距离、照明激光器的中心波长以及CCD的像敏单元尺寸是确定空间相移量的主要参数；所述双孔的孔距d、成像透镜与像面之间的距离D′以及空间相移量δ三者之间的关系确定依据如下：双孔引入空间相移的相移量可表示为δ=2πλdD′x′---(1)其中λ为照明激光器的中心波长，x′...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡怀宇，黄战华，朱猛，李宏跃，李翔宇，
申请(专利权)人：天津大学，
类型：发明
国别省市：