【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种阵列基板的制造方法，包括在衬底基板上形成薄膜晶体管和像素电极图案，所述薄膜晶体管至少包括栅电极图案、有源层图案、源极图案和漏极图案，其中，所述源极图案、漏极图案、像素电极图案和有源层图案是通过三灰阶掩膜工艺在一次构图工艺中形成的。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：马占洁，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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