平面移动靶机构制造技术

一种平面移动靶机构，它包括框架、往返传动机构、两直线导轨机构、极靴、永磁铁和位于真空箱体内的阴极和靶材，所述的往返传动机构安装在框架的中部，两直线导轨机构分别安装在框架的上下部分，两直线导轨机构上分别装有至少一个滑块，极靴安装在往返传动机构的中部，极靴的上、下两端分别固定在两直线导轨机构的滑块上，永磁铁安装在极靴上，在永磁铁上方的真空箱体底部安装阴极，靶材安装在阴极的上方。本实用新型专利技术通过磁场的移动使得放电区内电子跑到扩展，靶材利用可提高到40%-45%。起到节能降本的效果。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镀膜用溅射靶，具体地说是一种平面移动靶机构。
技术介绍
目前，矩形平面磁控溅射靶由于其结构简单，有较高的沉积率、低的基板温度、膜层与基板结合牢固易于大型化和不受基板种类影响等优点在工业镀膜上得到广泛运用，但该系统由于在生产过程中靶面的非均匀剥蚀会降低靶材的利用率(一般利用率在10%-20%)，影响镀膜的均匀性，会造成靶的拉弧及中毒，严重影响产品品质及生产周期。新型移动平面靶结构研发，可以将靶材的利用率提高到40%-45%，对提高产品品质及降低产生成本有着重要的意义。
技术实现思路
本技术的目的是针对矩形平面磁控溅射靶所存在的靶材的利用率低、镀膜均匀性不高问题，提出一种平面移动靶机构；通过磁场的移动使得放电区内电子跑道扩展，靶材利用率可提高到40%-45%。起到节能降本的效果。本技术的技术方案是:—种平面移动IE机构,它包括框架、往返传动机构、两直线导轨机构、极靴、永磁铁和位于真空箱体内的阴极和靶材，所述的往返传动机构安装在框架的中部，两直线导轨机构分别安装在框架的上下部分，两直线导轨机构上分别装有至少一个滑块，极靴安装在往返传动机构的中部，极靴的上、下两端分别固定在两直线导轨本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种平面移动靶机构，其特征是它包括框架（1）、往返传动机构（2）、两直线导轨机构（3）、极靴（4）、永磁铁（5）和位于真空箱体（9）内的阴极（6）和靶材（8），所述的往返传动机构（2）安装在框架（1）的中部，两直线导轨机构（3）分别安装在框架（1）的上下部分，两直线导轨机构（3）上分别装有至少一个滑块（10），极靴（4）安装在往返传动机构（2）的中部，极靴（4）的上、下两端分别固定在两直线导轨机构（3）的滑块（10）上，永磁铁（5）安装在极靴（4）上，在永磁铁（5）上方的真空箱体（9）底部安装阴极（6），靶材（8）安装在阴极（6）的上方。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：朱殿荣，曹俊，
申请(专利权)人：无锡康力电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32