用于测定在被测介质中的分析物浓度的测量装置及方法制造方法及图纸
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于测定在被测介质中的分析物浓度的测量装置及方法
本专利技术涉及用于测定在被测介质中的分析物浓度、特别是pH值的测量装置及方法。
技术介绍
在实验室或工业工艺测量技术中在环境分析及化学或生化方法中，测量分析物浓度、特别是测量反映在被测介质中的H+离子浓度的pH值起重要作用。分析物包括例如溶解在被测介质中的特定离子类型或其他化学化合物。诸如例如伏安法或电位法的电化学分析方法通常测定分析物活度，从中能够得出分析物浓度。在稀溶液中，对于第一近似，分析物活度能够被设为等于分析物浓度。活度或浓度的特殊情况的测量是测量pH值。pH值对应于在被测介质中的H+离子活度的以10为底的负对数，其在稀溶液中能够被设为等于H+离子浓度。无论是在实验室中还是在工艺分析中，为测量离子浓度或pH值，频繁使用电位计传感器。通常，这些电位计传感器具有测量半电池，其中离子选择电极作为测量半电池，所述离子选择电极包括例如离子选择玻璃膜、固体膜或聚合物膜。被测介质和测量半电池的电势感测电极之间的平衡Galvani电压的相对变化基本上受到待被确定的该种离子的主要活度变化影响。参考例如诸如Ag/AgCl基准...
【技术保护点】
一种用于测定在被测介质（M）中的分析物浓度的测量装置（1，1'，1''，1′″），其中所述测量装置包括三电极装置，所述三电极装置具有工作电极（WE）、基准电极（RE）和对置电极（CE），其中所述工作电极（WE）包括分析物不敏感氧化还原介体（4），并且所述基准电极（RE）包括分析物敏感电极。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.08.10 DE 102010033936.9;2011.05.20 DE 10201111.一种用于测定被测介质中的分析物浓度的测量装置，其中所述测量装置包括三电极装置，所述三电极装置具有工作电极、基准电极和对置电极，其中所述工作电极包括分析物不敏感氧化还原介体，并且所述基准电极包括分析物敏感电极。2.根据权利要求1所述的测量装置，其中所述测量装置包括控制电路，所述控制电路被具体化为在所述工作电极和所述基准电极之间提供期望的电压，并在这样的情况下测定在所述对置电极和所述工作电极之间流过被测介质的电流。3.根据权利要求2所述的测量装置，其中所述控制电路是恒电势控制电路。4.根据权利要求1所述的测量装置，其中所述测量装置被具体化为通过所述三电极装置来执行安培法测量。5.根据权利要求4所述的测量装置，其中所述安培法测量是伏安法测量。6.根据权利要求1所述的测量装置，其中所述测量装置包括函数发生器，所述函数发生器被具体化为指定在所述工作电极和所述基准电极之间所要提供的电压曲线，其中作为提供预定电压曲线的结果，所述测量装置被具体化为测定在所述工作电极和所述对置电极之间流过被测介质的、作为在所述基准电极和所述工作电极之间提供的电压的函数的电流。7.根据权利要求2所述的测量装置，包括评估系统，所述评估系统被具体化为根据在伏安法测量的情况下测定的在所述工作电极和所述对置电极之间的电流曲线，确定处于所述工作电极和所述基准电极之间的电压的值，在该电压处，所述电流曲线具有与所述氧化还原介体的氧化或还原相关联的局部极值，并且根据该值得出在被...
【专利技术属性】
技术研发人员：迈克尔·汉克，托马斯·威廉，
申请(专利权)人：恩德莱斯和豪瑟尔测量及调节技术分析仪表两合公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE
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