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一种定位垫制造技术

技术编号:8721590 阅读:180 留言:0更新日期:2013-05-17 22:50
本实用新型专利技术公开了一种定位垫,其特征在于:包括两层以上相互压合呈旋转状的定位圈,上一层定位圈的底部设有一圈凸楞或凹槽,下一层定位圈的顶部设有与上一层定位圈的凸楞或凹槽对应的凹槽和凸楞,上、下定位圈的外圈上设有位置对应的定位凸台。上、下层定位圈通过相互之间的凸楞和凹槽配合,能有效防止平面滑动,提高使用稳定性,同时配合其外圈的定位凸台在叠加时定位找准,防止叠加在不同位置时产生间隙,影响高度调节,确保使用安全性能。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种垫圈,具体说一种具有稳定定位功能的定位垫
技术介绍
垫圈通常被用于高度调整使用,由于使用场合要求的不确定,需要实时调整使用高度,传统垫圈采用相同厚度简单叠加使用,相互之间易产生平面滑动,以及在叠加时不能准确定位,导致叠加存在间隙,影响高度调整使用。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本技术提供了一种结构简单、紧凑,制作、使用方便,能实时满足高度调节和叠加定位使用,提高使用安全、稳定性能的定位垫。为了解决上述技术问题,本技术所采用的技术方案是:一种定位垫,其特征在于:包括两层以上相互压合呈旋转状的定位圈,上一层定位圈的底部设有一圈凸楞或凹槽,下一层定位圈的顶部设有与上一层定位圈的凸楞或凹槽对应的凹槽和凸楞,上、下定位圈的外圈上设有位置对应的定位凸台。本技术使用时,上、下层定位圈通过相互之间的凸楞和凹槽配合,能有效防止平面滑动,提高使用稳定性,同时配合其外圈的定位凸台在叠加时定位找准,防止叠加在不同位置时产生间隙,影响高度调节,确保使用安全性能。附图说明图1为本技术构造示意图。图中:上定位圈I,上凸榜2,上定位凸台3,下定位圈4,下凹槽5,下定位凸台6。具体实施方式以下结合附图来进一步说明本技术的具体实施方式。图1所示,一种定位垫包括上定位圈I和下定位圈4。上定位圈I和下定位圈4呈对应压合旋转状态,上定位圈I的底部设有一圈凸楞2,下定位圈4的顶部设有与上定位圈的凸楞对应的凹槽5,上、下定位圈1、4的外圈上设有位置对应的上、下定位凸台3、6。

【技术保护点】
一种定位垫,其特征在于:包括两层以上相互压合呈旋转状的定位圈,上一层定位圈的底部设有一圈凸楞或凹槽,下一层定位圈的顶部设有与上一层定位圈的凸楞或凹槽对应的凹槽和凸楞,上、下定位圈的外圈上设有位置对应的定位凸台。

【技术特征摘要】
1.一种定位垫,其特征在于:包括两层以上相互压合呈旋转状的定位圈,上一层定位圈的底部设有一圈凸楞或凹槽,下...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨进
申请(专利权)人:杨进
类型:新型
国别省市:江苏;32

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