【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种基于有序纳米线阵列的气敏元件制备方法，其步骤为：1)在基片上制备一阵列结构图形；2)在制备有所述阵列结构图形的基片上制备一金属层，然后对所述金属层进行剥离处理，得到金属催化剂阵列；3)将制备有所述金属催化剂阵列的基片和气敏元件的纳米线所需金属置于反应室内，制备金属纳米线阵列；4)在所述金属纳米线阵列上方套刻测试用电极，制备所需气敏元件。
【技术特征摘要】
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