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一种足浴盆加热器以及足浴盆制造技术

技术编号:8708256 阅读:202 留言:0更新日期:2013-05-17 09:37
本实用新型专利技术公开了一种足浴盆加热器,包括壳体,该壳体内设有流体通道以及用于加热流体通道内介质的电加热器,所述壳体上设有与流体通道相连通的入水口和出水口,所述壳体上还设有与流体通道相连通的排水口。本实用新型专利技术在足浴盆加热器以及足浴盆底部设置排水口,便于足浴盆内水的完全排出,避免了足浴盆中长时间残留的水,为细菌繁殖提供温床,带来交叉感染的隐患,结构简单,使用方便。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及足浴用品领域,具体涉及一种足浴盆加热器以及足浴盆
技术介绍
足浴盆是一种足部保健用品,通过对脚部的按摩和刺激,能激发人体潜在的机能,调整身体阴阳失衡的状态,舒缓全身紧张,达到防病保健的效果。申请号为200410063943.5的专利技术公开了一种具有呈长筒靴形状的壳体的足浴器。壳体具有放置使用者的足部用的足浴空间。这种足浴器还具有供水箱和液体箱。供水箱以可以自由拆装方式安装在壳体的前面。由供水箱注入的水朝液体箱中流入。在液体箱的下面,设置有作为加热装置的加热器。加热器可以对液体箱中的水实施加热,产生蒸汽那样的高温加热液体粒子。所产生的加热液体粒子通过混合腔室与空气混合,由排出通路供给足浴空间处。足浴盆在使用过程中,足部分泌的汗液、皮脂和脱落的皮屑等粘附在足浴盆的表面,虽然通过冲洗、清洁会清理掉大部分,但残留的细菌诸如革兰氏阳性菌、革兰氏阴性菌以及古细菌等会以惊人的速度繁殖。细菌的生存和繁殖需要水分、氧气、二氧化碳、矿物质和营养物质以及合适的温度,普通的足浴器具备了上述细菌所需要的条件,很容易导致细菌滋生。这些细菌中,小部分对人体无害,但绝大部分是致病或条件致病菌。现在通本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种足浴盆加热器,包括壳体,该壳体内设有流体通道以及用于加热流体通道内介质的电加热器,所述壳体上设有与流体通道相连通的入水口和出水口,其特征在于,所述壳体上还设有与流体通道相连通的排水口。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李成光
申请(专利权)人:李成光
类型:新型
国别省市:广东;44

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