一种检测阵列基板制程中残留有机物的检测装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种检测阵列基板制程中残留有机物的检测装置，包括架体；安装于架体中的载台、卤素光源、红外光源、具有检测光接收端的成像与红外检测单元、以及调光组件；调光组件在将卤素光源的检测光导入检测光接收端时，成像与红外检测单元根据检测光生成以基板中的一个特定对位点为坐标原点的平面坐标系布置的检测图像，当基板表面中存在有机物残留形成的缺陷点时，确定缺陷点的位置，然后通过调光组件将红外光源的检测光导向缺陷点的位置，并将缺陷点反射的检测光导入检测光接收端，成像与红外检测单元根据红外光源的检测光分析缺陷点有机物的成分；本实用新型专利技术提供的检测装置能够降低对基板的残留有机物进行检测的难度。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及阵列基板生产检测
，特别涉及一种检测阵列基板制程中残留有机物的检测装置。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示装置TFT-1XD的阵列基板制程中，由于工艺原因造成光刻胶或其他有机物残留在基板上，为减小基板残留的光刻胶等有机物形成的缺陷点对基板的下一工序造成影响，需要对基板进行残留光刻胶等有机物形成的缺陷点进行检测，若基板上具有缺陷点，则需要对这些缺陷点进行成分分析，以便去除。现有技术中，在对基板进行缺陷点检测时，首先采用的外观检查机对基板进行检测，以确认基板上是否存在缺陷点，然后在通过红外显微镜设备等红外设备对这些缺陷点进行成分分析；使用外观检查机对基板表面进行检查时，只能查出基板表面是否具有残留的光刻胶等有机物形成的缺陷点，以及这些缺陷点的位置，不能对形成缺陷点的有机物的成分进行分析，而能够分析缺陷的成分的红外显微镜设备等红外设备能够对形成缺陷点的有机物的成分进行分析，却无法对缺陷点进行定位，由于缺陷点的尺寸较小，具体分析时，残留有机物形成的缺陷点在显微镜下不易找到，增加了残留有机物检测的难度。
技术实现思路
本技术提供了一种检测阵列基板制程中有机物残留的检测装置，该检测装置能够本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种检测阵列基板制程中残留有机物的检测装置，其特征在于，包括：架体；安装于架体中的承载基板的载台、卤素光源、红外光源、具有检测光接收端的成像与红外检测单元、以及将卤素光源或者红外光源的检测光导向载台承载的基板表面，并将基板表面反射的检测光导向所述检测光接收端的调光组件；所述调光组件在将卤素光源的检测光导入检测光接收端时，所述成像与红外检测单元根据检测光生成基板的检测图像，所述检测图像根据以基板中的一个特定对位点为坐标原点的平面坐标系布置，当所述成像与红外检测单元判断基板表面中存在有机物残留形成的缺陷点时，根据所述平面坐标系确定缺陷点的位置，然后通过调光组件将所述红外光源的检测光导向缺陷点的位置...

【技术特征摘要】
1.一种检测阵列基板制程中残留有机物的检测装置，其特征在于，包括: 架体； 安装于架体中的承载基板的载台、卤素光源、红外光源、具有检测光接收端的成像与红外检测单元、以及 将卤素光源或者红外光源的检测光导向载台承载的基板表面，并将基板表面反射的检测光导向所述检测光接收端的调光组件； 所述调光组件在将齒素光源的检测光导入检测光接收端时，所述成像与红外检测单元根据检测光生成基板的检测图像，所述检测图像根据以基板中的一个特定对位点为坐标原点的平面坐标系布置，当所述成像与红外检测单元判断基板表面中存在有机物残留形成的缺陷点时，根据所述平面坐标系确定缺陷点的位置，然后通过调光组件将所述红外光源的检测光导向缺陷点的位置，并将缺陷点反射的检测光导入所述检测光接收端，所述成像与红外检测单元根据导入所述检测光接收端的红外光源的检测光分析缺陷点有机物的成分。2.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述卤素光源与红外光源的发射方向相对，且相互重合，所述调光组件位于卤素光源与红外光源之间。3.根据权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述卤素光源与所述红外光源的发射端位于同一水平面，所述调光组件包括: 一个安装于架体的五棱镜，具有相邻、且相互垂直的第一棱面和第二棱面，所述第一棱面朝向所述卤素光源的发射端、且与所述卤素光源发射的检测光垂直时，第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘英伟，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：