圆形平台的断面形状测量装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种圆形平台的断面形状测量装置，其包括：导向架（2），能设置在作为被测量物的圆形平台（M）上，并且具有规定方向的导轨（3）；移动件（4），被导轨（3）引导，并且利用移动装置（6）而移动自如；距离传感器（5），设置在所述移动件（4）上，测量至圆形平台（M）的被测量面的距离；以及运算显示装置（8），将不经过圆形平台（M）中心的虚拟直线（L）上的多个测量点（di）处的由距离传感器（5）测量到的各测量值，与作为从圆形平台（M）中心到各测量点（di）的最短距离的第一最短距离（Ri）对应显示。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及断面形状测量装置，用于测量例如像半导体元件用的硅片那样要求高精度平面性的圆板材研磨用的圆形平台的断面形状。
技术介绍
如图6所示，通常在测量用于研磨硅片等的圆形平台(又称研磨平台)51的断面形状时，想要知道的信息是，在经过其转动中心O的直径方向的测量线52上的断面形状。可是，由于在圆形平台51的转动中心部存在转动驱动齿轮或转动轴支承用凸台部等突出部，所以不能在经过转动中心O的直径方向的测量线52上测量断面形状。因此，在不经过圆形平台51的转动中心O的测量线53上测量断面形状。但是，如果在不经过圆形平台转动中心的线上测量断面形状，则如图7所示，当圆形平台的表面为圆锥面时，其断面形状如图8所示呈向上方鼓起的凸状曲线，与图9所示的在经过转动中心的线上的直线断面形状不同。另外，即使将凸状的曲线模拟成直线，也不能适用于要求精密度的测量。
技术实现思路
因此，本技术的目的在于提供一种圆形平台的断面形状测量装置，即使在不经过圆形平台中心的测量线上进行测量，也能够准确测量经过中心的直径方向的线上的断面形状。为解决上述课题，本技术的第一方面提供一种圆形平台的断面形状测量装置，其包括:导向架，能设置本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种圆形平台的断面形状测量装置，其特征在于包括：导向架，能设置在作为被测量物的圆形平台上，并且具有规定方向的导向构件；移动件，被所述导向构件引导，并且利用移动装置而移动自如；距离传感器，设置在所述移动件上，测量至圆形平台的被测量面的距离；以及运算显示装置，将不经过所述圆形平台中心的虚拟直线上的多个测量点处的由所述距离传感器测量到的各测量值，与作为从圆形平台中心到各测量点的最短距离的第一最短距离对应显示。

【技术特征摘要】
1.一种圆形平台的断面形状测量装置，其特征在于包括: 导向架，能设置在作为被测量物的圆形平台上，并且具有规定方向的导向构件； 移动件，被所述导向构件引导，并且利用移动装置而移动自如； 距离传感器，设置在所述移动件上，测量至圆形平台的被测量面的距离；以及运算显示装置，将不经过所述圆形平台中心的虚拟直线上的多个测量点处的由所述距离传感器测量到的各测量值，与作为从圆形平台中心到各测量点的最短距离的第一最短距...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫本绅司，小林荣治，三轮宪一，
申请(专利权)人：日立造船株式会社，
类型：实用新型
国别省市：