滚动轴承制造技术

技术编号:8696829 阅读:175 留言:0更新日期:2013-05-13 03:33
用于高温或高真空环境的滚动轴承,由于不能使用润滑脂进行润滑,往往使用由石墨等固体润滑材料制成的填块安置于滚动体之间,即采用所谓的填块型固体润滑。然而,由于填块非常脆,轴承旋转时极易损坏从而使轴承发生异常振动,或引起填块脱落。本实用新型专利技术提供的固体润滑滚动轴承包括∶内圈;外圈;滚动体;由所选之材料制成的含有固体润滑剂的填块;和带有兜孔的保持架。所述兜孔用于包容填块和滚动体、并且以至少一个填块和至少一个滚动体为单位进行包容。采用以上结构,填块不易脱落、不易损坏,轴承振动小、旋转安全平稳。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及用于高温或真空等环境下自润滑型固体润滑滚动轴承的改进。
技术介绍
对于用于高温或高真空环境下的滚动轴承,由于不能使用常规的润滑脂润滑方式,多年来一直使用固体润滑方式对轴承进行润滑。专利文献专利文献I日本特开平07 - 151152号公报专利文献2日本特开平09 - 144760号公报专利文献3日本特开平08 - 004773号公报专利文献4日本实公平07 - 021927号公报专利文献5日本实开昭63 - 035817号公报专利文献6日本特开昭55 - 099332号公报专利文献7日本特开平01 - 261516号公报专利文献8日本特开平02 - 146314号公报专利文献9日本实开平03 - 003699号公报专利文献10日本实开平05 - 032831号公报专利文献11日本实公昭36 - 019806号公报专利文献12日本特开平02 - 021027号公报专利文献13日本实开平04 - 082432号公报专利文献14日本特开平08 - 232961号公报专利文献15国际公开W O 1999 / 060281号公报
技术实现思路
技术要解决的课题但是,人们希望轴承旋转更平稳、寿本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种滚动轴承,其包括∶内圈;外圈;滚动体;由含有固体润滑剂的材料制成的填块;以及带有包容所述填块和所述滚动体的兜孔的保持架,?其特征在于∶所述保持架以至少一个填块和至少一个滚动体为单位进行包容,并且所述保持架兜孔在所述滚动轴承的径向和圆周方向具有包容填块和滚动体的曲面;所述填块呈大致圆柱形,至少一个端面面向滚动体,且所述端面设置有凹坑;所述填块的所述凹坑或所述端面与滚动体相接触。

【技术特征摘要】
2012.07.23 JP 2012-1627171.一种滚动轴承,其包括:内圈;外圈;滚动体;由含有固体润滑剂的材料制成的填块;以及带有包容所述填块和所述滚动体的兜孔的保持架, 其特征在于:所述保持架以至少一个填块和至少一个滚动体为单位进行包容,并且所述保持架兜孔在所述滚动轴承的径向和圆周方向具有包容填块和滚动体的曲面;所述填块呈大致圆柱形,至少一个端面面向滚动体,且所述端面设置有凹坑;所述填块的所述凹坑或所述端面与滚动体相接触。2.一种滚动轴承,其包括:内圈;外圈;滚动体;由含有固体润滑剂的材料制成的填块;以及带有包容所述填块和所述滚动体的兜孔的保持架, 其特征在于:所述保持架以2个滚动体夹持一个所述填块为单位进行包容,并且所述保持架兜孔在所述滚动轴承的径向和圆周方向具有包容填块和滚动体的曲面;所述填块呈大致圆柱形,至少一个端面面向滚动体,且所述端面设置有凹坑;所述填块的所述凹坑或所述端面与滚动体相接触。3.一种滚动轴承,其包括:内圈;外圈;滚动体;由含有固体润滑剂的材料制成的填块;以及带有包容所述填块和所述滚动体的兜孔的保持架, 其特征在于:所述保持架以至少一个填块和至少一个滚动体为单位进行包容,并且所述保持架兜孔在所述滚动轴承的径向和圆周方向具有包容填块和滚动体的曲面;所述填块呈鼓形,至少一个端面面向滚动体,且所述端面设置有凹坑;所述填块的所述凹坑或所述端面与滚动体相接触。4.一种滚动轴承,其包括:内圈;外圈;滚...

【专利技术属性】
技术研发人员:细谷真幸
申请(专利权)人:日本精工株式会社
类型:实用新型
国别省市:

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