【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及ー种新型含水抛光组合物，其尤其适于抛光用于电子、机械和光学器件的衬底。此外，本专利技术涉及ー种抛光用于制造电子、机械和光学器件的衬底的新型方法。最后但并非最不重要地，本专利技术涉及用于制造电子、机械和光学器件的新型含水抛光组合物的新用途。引用文献本申请所引文献通过引用全文引入。
技术介绍
化学机械平坦化或抛光(CMP)是获得集成电路(IC)器件局部和全局平坦度的主要方法。该技术通常采用含有磨料和其他添加剂的CMP组合物或淤浆作为在施加负载下处于旋转衬底表面与抛光垫之间的活性化学品。因此，CMP方法兼具物理过程如摩擦以及化学过程如氧化或螯合。不希望衬底由纯物理作用或纯化学作用而移除或抛光，而是希望ニ者的协同增效组合以获得快速均匀的移除。以此方式移除衬 底直至获得所需的平坦度或者直至阻挡子层或阻断层暴露。最終，获得平坦的无缺陷表面，其能通过后续的光刻、图案化、蚀刻和薄膜加工而进行合适的多层IC器件制造。浅槽隔离(STI)为特定的CMP应用，其通常需要在图案化晶片衬底上相对于氮化硅选择性移除ニ氧化硅。在这种情况下，用介电材料如ニ氧化硅过量填充经蚀刻的沟槽，使用氮...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.09.08 US 61/380,7211.一种pH值为3-11的含水抛光组合物，其包含: (A)至少ー种磨料颗粒，当其分散于不含组分(B)且pH值为3-9的含水介质中时带正电荷，如电泳迁移率所证实的那样； (B)至少ー种阴离子磷酸盐分散剂；和 (C)至少ー种多羟基醇组分，其选自: (Cl)选自水溶性和水分散性的脂族和脂环族的単体、ニ聚和低聚的具有至少4个在含水介质中不可解离的羟基的多元醇的多羟基醇； (c2)如下物质的混合物: (c21)至少ー种选自水溶性和水分散性的脂族和脂环族的具有至少2个在含水介质中不可解离的羟基的多元醇的多羟基醇；和 (c22)至少ー种选自线性和支化的氧化烯均聚物和共聚物(c221);和线性和支化的脂族和脂环族的聚(N-こ烯基酰胺)均聚物和共聚物(c222)的水溶性或水分散性聚合物；和(c3) (cl)和(c2)的混合物。2.根据权利要求1的含水抛光组合物，其特征在于磨料颗粒(A)为无机颗粒。3.根据权利要求1或2的含水抛光组合物，其特征在于无机磨料颗粒(A)包含氧化铈或由氧化铈构成且具有由动态激光散射所測定的1-1OOOnm的平均粒径。4.根据权利要求1-3中任ー项的含水抛光组合物，其特征在于阴离子磷酸盐分散剂(B)选自水溶性缩合磷酸盐。5.根据权利要求4的含水抛光组合物，其特征在于水溶性缩合磷酸盐(B)选自通式I的偏磷酸盐:[M+n(P03)n] (I)； 以及通式II和III的多聚磷酸盐:M+nPn03n+i (II)；M+H2Pn03n+1 (III)； 其中M为铵、钠和钾且指数n为2-10，000。6.根据权利要求1-5中任ー项的含水抛光组合物，其特征在于水溶性和水分散性的脂族和脂环族的単体、ニ聚和低聚的具有至少4个在含水介质中不可解离的羟基的多元醇(Cl)选自赤藓醇、季戊四醇、糖醇、环多醇、碳水化合物以及甘油、赤藓醇、季戊四醇、糖醇、环多醇的ニ聚物和低聚物。7.根据权利要求6的含水抛光组合物，其特征在于糖醇(Cl)选自丁糖醇、戊糖醇、己糖醇、庚糖醇和辛糖醇；环多醇(Cl)选自肌醇；和碳水化合物(Cl)选自单糖、ニ糖、寡糖、多糖、脱氧糖和氨基糖。8.根据权利要求7的含水抛光组合物，其特征在于单糖(Cl)选自阿洛糖、阿卓糖、葡萄糖、甘露糖、艾杜糖、半乳糖和塔罗糖。9.根据权利要求1-8中任ー项的含水抛光组合物，其特征在于具有2-3个在含水介质中不可解离的羟基的水溶性或水分散性的脂族或脂环族多元醇(c21)选自こニ醇、丙ニ醇、ニ甘醇、三甘醇、双丙甘醇、三丙ニ醇、亚...
【专利技术属性】
技术研发人员：Y·李，JJ·楚，S·S·文卡塔拉曼，S·A·奥斯曼易卜拉欣，H·W·平德尔，
申请(专利权)人：巴斯夫欧洲公司，
类型：
国别省市：
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