基板处理系统和基板搬送方法技术方案

本发明专利技术提供一种基板处理系统和基板搬送方法。涂敷显影处理系统的交接站（5）具有：将晶片搬入到曝光装置之前至少清洗晶片的背面的晶片清洗单元（141）、至少对清洗后的晶片的背面在其被搬入到曝光装置之前检查该晶片能否在曝光装置中进行曝光的晶片检查单元（142）、具有在各单元（141、142）之间搬送基板的臂的晶片搬送装置（120、130）和控制晶片搬送装置（120、130）的动作的晶片搬送控制部。晶片搬送控制部控制晶片搬送装置（120、130），使得当检查的结果被判断为，晶片的状态是通过由清洗单元（141）再清洗成为能够曝光的状态时，再次将该晶片搬送到清洗单元（141）。

【技术实现步骤摘要】
基板处理系统和基板搬送方法
本专利技术涉及进行基板处理的基板处理系统、基板处理系统中的基板处理方法。
技术介绍
例如半导体器件的制造工序中的光刻工序中，依次进行在晶片上涂敷抗蚀剂液形成抗蚀剂膜的抗蚀剂涂敷处理、将抗蚀剂膜曝光为规定的图案的曝光处理、对曝光的抗蚀剂膜进行显影的显影处理等的一系列的处理，从而在晶片上形成规定的抗蚀剂图案。这些一系列的处理在作为搭载有处理晶片的各种处理单元或输送晶片的输送单元等的基板处理系统的涂敷显影处理系统中进行。如图32所示，例如，以往，涂敷显影处理系统300作为整体具有：用于从外部搬入搬出盒（cassette）C的载盒台（cassettestation）301、正面和背面设置有进行抗蚀剂涂敷处理、显影处理以及热处理等的各种处理的多个处理单元的处理台302和在设置于涂敷显影处理系统300的外部的曝光装置A与处理系统302之间进行晶片的交接的交接交接台303。但是，近年来，形成于晶片上的电路图案的精细化不断发展，曝光处理时的离焦裕度（defocusmargin）更加严格。与此相伴，在曝光装置A中需要尽量不能掺入有颗粒（particle）。尤其是，晶片背面的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理系统，其包括设置有对基板进行处理的多个处理单元的处理站；和在所述处理站和设置于外部的曝光装置之间进行基板的交接的交接站，该基板处理系统的特征在于：所述交接站具有：在将基板搬入到所述曝光装置之前至少清洗基板的背面的基板清洗部；和在清洗后的所述基板搬入到所述曝光装置之前，至少对于清洗后的所述基板的背面检查该基板能否进行曝光的基板检查部，所述基板清洗部和所述基板检查部配置于同一箱体的内部，在所述箱体的内部，设置有在所述基板清洗部和所述基板检查部之间搬送基板的搬送手段。

【技术特征摘要】
2011.11.04 JP 2011-242336;2011.11.04 JP 2011-24231.一种基板处理系统，其包括设置有对基板进行处理的多个处理单元的处理站；和在所述处理站和设置于外部的曝光装置之间进行基板的交接的交接站，该基板处理系统的特征在于：所述交接站具有清洗检查单元，所述清洗检查单元具有：箱体；在将基板搬入到所述曝光装置之前至少清洗基板的背面的基板清洗部；和在清洗后的所述基板搬入到所述曝光装置之前，至少对于清洗后的所述基板的背面检查该基板能否进行曝光的基板检查部，所述基板清洗部和所述基板检查部配置于所述箱体的内部，在所述箱体的内部，设置有在所述基板清洗部和所述基板检查部之间搬送基板的基板搬送机构，基板搬送控制部，其以如下方式控制所述基板搬送机构：当在所述基板检查部的检查结果被判断为，基板的状态成为通过在所述基板清洗部的再清洗能够曝光的状态时，再次将该基板搬送到所述基板清洗部。2.如权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于：在所述交接站中，设置有去除附着于由所述基板清洗部清洗后的基板的水分的脱水单元。3.如权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于：所述基板搬送控制部以将再次搬送到所述基板清洗部被清洗后的基板再次搬送到基板检查部的方式控制所述基板搬送机构。4.如权利要求1或2所述的基板处理系统，其特征在于：在所述交接站中，设置有将由所述基板检查部检查后且搬入到所述曝光装置之前的基板调整到规定的温度的温度调整机构。5.如权利要求4所述的基板处理系统，其特征在于：所述温度调整机构设置于所述箱体的内部。6.如权利要求1或2所述的基板处理系统，其特征在于：在所述清洗检查单元中，设置有使由所述基板检查部检查后的基板暂时待机的缓冲待机部。7.如权利要求6所述的基板处理系统，其特征在于：所述缓冲待机部设置于所述箱体的内部。8.如权利要求7所述的基板处理系统，其特征在于：所述缓冲待机部使所述检查后的基板待机直到判断出该检查后的基板的检查结果。9.如权利要求1或2所述的基板处理系统，其特征在于：在所述箱体的内部设置有清洗所述基板搬送机构的基板搬送机构清洗机构。10.如权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于：所述基板清洗部兼用作所述基板搬送机构清洗机构。11.如权利要求1～3中任一项所述的基板处理系统，其特征在于：在所述清洗检查单元设置有暂时收纳由所述基板检查部检查后的基板的缓冲收纳部。12.如权利要求11所述的基板处理系统，其特征在于，所述基板搬送机构包括：将已搬入到所述交接站中的基板搬送到所述基板清洗部的第一搬送臂；和将由所述基板清洗部清洗之后的基板搬送到所述基板检查部，进一步将由所述基板检查部检查之后的基板搬送到所述缓冲收纳部的第二搬送臂。13.如权利要求11所述的基板处理系统，其特征在于，所述基板搬送机构具有：将已搬入到所述交接站中的基板搬送到所述基板清洗部的第一搬送臂；将由所述基板清洗部清洗之后的基板搬送到所述基板检查部的第二搬送臂；和将由所述基板检查部检查之后的基板搬送到所述缓冲收纳部的第三搬送臂。14.如权利要求11所述的基板处理系统，其特征在于：所述缓冲收纳部收纳所述检查后的基板直到判断出该检查后的基板的检查结果。15.如权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于：所述基板搬送机构以沿上下方向自由移动的方式设置，所述基板清洗部设置于所述交接站的正面侧和背面侧中的任意一侧，所述基板检查部夹着所述基板搬送机构设置于所述基板清洗部的相反一侧，所述脱水单元相对于所述基板清洗部或所述基板检查部多层地设置于所述基板清洗部侧和所述基板检查部侧中的任意一侧。16.如权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于：所述基板搬送机构以沿上下方向自由移动的方式设置，所述基板清洗部和所述基板检查部在上下方向上多层地设置于所述交接站的正面侧和背面侧中的任意一侧，所述脱水单元夹着所述基板搬送机构设置于所述基板清洗部和所述基板检查部的相反一侧。17.如权利要求1～3中任一项所述的基板处理系统，其特征在于，包括：清洗所述基板搬送机构的臂的臂清洗机构。18....

【专利技术属性】
技术研发人员：中原田雅弘，酒田洋司，宫田亮，林伸一，榎木田卓，中岛常长，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：