一锅法合成多孔氧化硅/蒙脱土纳米复合材料的方法技术

本发明专利技术涉及一种一锅法合成多孔氧化硅/蒙脱土纳米复合材料的方法，其是在超临界CO2体系中，采用一锅法将阳离子表面活性剂和正硅酸乙酯同时引入到蒙脱土层间，使正硅酸乙酯在层间以阳离子表面活性剂胶束为模板，发生原位水解-缩聚反应，合成多孔氧化硅/蒙脱土纳米复合材料，所合成的多孔氧化硅/蒙脱土纳米复合材料具有微孔和介孔双孔的结构分布且热稳定性高的特点，而且本发明专利技术的合成方法步骤少、易操作且表面活性剂用量少、成本低廉、无副产物、绿色无污染。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于分子筛与多孔材料领域，具体涉及ー种有序介孔氧化硅/蒙脱土纳米复合材料的合成方法。
技术介绍
柱撑蒙脱土(PillaredInterlayered Montmorillonite)是将无机多聚金属阳离子或溶胶粒子与蒙脱土层间的可交换阳离子通过离子交換方式引入到蒙脱土的层间域，然后通过高温焙烧，使层间的聚阳离子脱水、脱羟基转化为氧化物柱而形成的ニ维类分子筛结构的多孔复合材料。高热稳定性层间氧化物柱的引入，不仅提高了蒙脱土的热稳定性，而且不同氧化物柱赋予其大的比表面积、可调的层柱间距和孔径分布及可控的表面酸性等特性。这些独特的性能使其在催化剂/催化剂载体、选择性吸附剂及助剂或添加剂等相关领域具有广阔的发展前景和巨大的应用潜力。但是由于其制备方法是通过无机多聚阳离子或溶胶与粘土层间正电荷发生离子交换反应，导致其孔径小、孔分布较宽、柱结构不易控制、热稳定性不闻等缺点。根据有序介孔分子筛合成过程中所采用有机表面活性剂作为结构导向剂的方法，Galarneau 等(A.Gal arneau, A.Barodawalla, T.J.Pinnavaia, Naturel995, 374,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一锅法合成多孔氧化硅/蒙脱土纳米复合材料的方法，其特征在于由以下步骤组成：（1）按蒙脱土与季铵盐阳离子表面活性剂、正硅酸乙酯的质量比为1:0.3～0.9:6～20的比例称取蒙脱土、季铵盐阳离子表面活性剂、正硅酸乙酯，加入到高压反应釜中，在超临界CO2条件下，10～30MPa，60～100℃，搅拌反应5～15小时，自然降温至室温，得到产物的前驱体；（2）将产物的前驱体转入离心管中，离心分离，自然干燥15～48小时，置于马弗炉内600℃焙烧5小时，得到多孔氧化硅/蒙脱土纳米复合材料。

【技术特征摘要】
1.锅法合成多孔氧化硅/蒙脱土纳米复合材料的方法，其特征在于由以下步骤组成: (1)按蒙脱土与季铵盐阳离子表面活性剤、正硅酸こ酯的质量比为1:0.3 0.9:6 20的比例称取蒙脱土、季铵盐阳离子表面活性剤、正硅酸こ酷，加入到高压反应釜中，在超临界CO2条件下，10 30MPa，60 100°C，搅拌反应5 15小时，自然降温至室温，得到产物的前驱体； (2)将产物的前驱体转入离心管中，离心分离，自然干燥15 48小时，置于马弗炉内600°C焙烧5小时，得到 多孔氧化硅/蒙脱土纳米复合材料。2.根据权利要求1所述的ー锅法合成多孔氧化硅/蒙脱土纳米复合材料的...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘忠文，郝青青，刘昭铁，
申请(专利权)人：陕西师范大学，
类型：发明
国别省市：