氧化铈系研磨材料的再生方法技术

本发明专利技术涉及一种氧化铈系研磨材料的再生方法，该方法为从包含氧化铈系研磨材料、玻璃熔块、研磨垫及无机凝聚剂的研磨废弃物中再生出氧化铈系研磨材料的方法，其特征在于，包括如下步骤：将不与所述氧化铈系研磨材料反应生成盐的有机酸溶液和所述研磨废弃物添加于反应槽而搅拌，以根据基于所述有机酸的酸处理，使所述无机凝聚剂变成根离子，使所述玻璃熔块及所述研磨垫浮游；除去浮游的所述玻璃熔块及所述研磨垫；执行清洗及干燥工序而得到氧化铈系研磨材料；其中，所述有机酸的pH为0.5~6.0范围。根据本发明专利技术，可从研磨废弃物中环保地再生出氧化铈系研磨材料，可得到高纯度的氧化铈系研磨材料，并且收率非常高。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及，尤其涉及可从包含氧化铈系研磨材料、玻璃熔块、研磨垫及无机凝聚剂的研磨废弃物中环保地再生出高纯度的氧化铺系研磨材料的。
技术介绍
以氧化铈(CeO2)作为主成分的氧化铈系研磨材料用于各种玻璃材料的研磨。最近又用于硬盘等磁记录介质用玻璃、液晶显示器(Liquid Crystal Display;以下称为“LCD”)的玻璃基板、等离子显示板(Plasma Display Panel;以下称为“PDP”)的玻璃基板之类的玻璃材料的研磨中，其应用领域逐渐扩大。通常，在利用氧化铈系研磨材料研磨LCD或PDP的玻璃基板之类的玻璃材料时，利用通过研磨用粉末喷嘴向玻璃材料喷射氧化铈系研磨材料而进行研磨的喷砂(SandBlast)工艺或利用棍子(role)的浮动滚压(role floating)工艺。在使用氧化铈系研磨材料的喷砂工艺或浮动滚压工艺中将生成研磨废弃物，这种研磨废弃物中存在原来包含于氧化铺系研磨材料、玻璃材料中的玻璃熔块(frit glass)成分及研磨垫成分之类的不纯物。所述氧化铈系研磨材料约占l(T60wt%，所述玻璃熔块以与所述氧化铈系研磨材料以粉末状混合在一起的状态本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.08.03 KR 10-2010-00748461.一种氧化铈系研磨材料的再生方法，该方法为从包含氧化铈系研磨材料、玻璃熔块、研磨垫及无机凝聚剂的研磨废弃物中再生出氧化铈系研磨材料的方法，其特征在于，包括如下步骤: 将不与所述氧化铈系研磨材料反应生成盐的有机酸溶液和所述研磨废弃物添加于反应槽而搅拌，以根据基于所述有机酸的酸处理，使所述无机凝聚剂变成根离子，使所述玻璃熔块及所述研磨垫浮游； 除去浮游的所述玻璃熔块及所述研磨垫； 执行清洗及干燥工序而得到氧化铈系研磨材料； 其中，所述有机酸的PH为0.5^6.0范围。2.如权利要求1所述的氧化铈系研磨材料的再生方法，其中，还包括如下超声波处理步骤: 用设置于所述反应槽内的搅拌机进行搅拌的同时通过设置于所述反应槽内的超声波喇叭施加超声波； 根据所述超声波，促进所述有机酸与所述无机凝聚剂的化学反应，并使根据所述超声波而产生的气泡剧烈膨胀，从而因高度的压力在其临界点爆裂，而气泡爆裂时的冲击波作用于所述研磨废弃物，从而将附于氧化铈系研磨材料表面的玻璃熔块和研磨垫从氧化铈系研磨材料表面剥离。3.如权利要求1所述的氧化铈系研磨材料的再生方法，其中，还包括如下气泡处理步骤: 用设置于所述反应槽内的搅拌机进行搅拌的同时利用设置于反应槽下部的气泡发生装置注入空气以产生气泡，...

【专利技术属性】
技术研发人员：姜佑圭，金元烈，宋永春，黄光泽，
申请(专利权)人：RANCO株式会社，
类型：
国别省市：