基于二次曲面的微纳物体图像倾斜校正方法技术

技术编号:8656286 阅读:265 留言:0更新日期:2013-05-02 00:00
本发明专利技术涉及一种基于二次曲面的图像倾斜校正方法,包括以下步骤:获得被测物体上表面每个点的高度数据;用户判断高度图像是否倾斜;若需要进行倾斜校正,则执行如下步骤:1)获得一个拟合二次曲面;2)根据被测样品上表面的高度数据得到拟合斜面一;3)用把拟合二次曲面恢复到拟合斜面一的过程变换被测样品的高度数据;4)根据新的被测样品上表面数据,拟合出倾斜平面二,并确定一个标准平面,将拟合斜面二上每一点的高度数据都经过一个过程而变换至标准面上,同时将新的被测样品上表面数据的每个点的高度数据经过同一个过程进行变换后得到校正数据。本发明专利技术可以有效实现弯曲变形的、倾斜的微纳物体三维图像的倾斜校正,使图像准确反应被测样品的实际情况。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种微纳物体图像倾斜校正方法,特别涉及一种,属于图像处理

技术介绍
激光扫描显微镜是建立在光学显微镜及各种扫描显微镜基础上的一种新型的扫描成像系统。利用聚焦的激光束在样品表面扫描,同时利用光电检测器件接收样品反射光(或透射光),样品结构的变化使反射光(或透射光)强度改变,因而使光电检测器的输出电流改变,经信号处理,同步显示在计算机屏幕上。由于被测样品属于微纳物体,在测量时如果置物台有灰尘等杂物可能造成微纳物体在置物台上放置倾斜,或是由于采集时光线等各种外界原因造成数据误差而显得微纳物体倾斜,甚至是由于微纳物体在保存时发生了变形等原因造成倾斜,都会导致测量时得到的数据不够准确。在测量时为了得到的数据尽可能的接近被测样品原来真实的情况,所以需要对采集到的数据进行倾斜校正处理,使得到的图像更加准确的反应出被测样品的实际情况。现有技术中的图像倾斜校正处理方法都是针对平面图像进行倾斜校正,比如扫描文档的倾斜校正、车牌的倾斜校正、二维码的倾斜校正。这些倾斜校正方法主要是对这些图像的边缘进行识别,判断是否需要倾斜校正,且对采样得到的图像仅进行X方向和y方向简单的旋转倾斜校本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于二次曲面的图像倾斜校正方法,其特征在于,包括以下步骤:对获取的图像数据进行数据提取,以获得被测物体上表面每个点的高度数据;用户判断高度图像是否倾斜,是否需要进行倾斜校正;若需要进行倾斜校正,则执行如下步骤:1)通过使用被测样品上表面的高度数据获得一个拟合二次曲面;2)根据被测样品上表面的高度数据计算得到一个拟合斜面一;3)用把拟合二次曲面恢复到拟合斜面一的过程来变换被测样品的高度数据,得到一组新的被测样品上表面数据,这组新的被测样品上表面数据就是没有变形的被测样品的高度数据;4)根据新的被测样品上表面数据,拟合出一个倾斜平面二,并确定一个标准平面,将拟合斜面二上每一点的高度数据都经过一...

【技术特征摘要】
1.一种基于二次曲面的图像倾斜校正方法,其特征在于,包括以下步骤: 对获取的图像数据进行数据提取,以获得被测物体上表面每个点的高度数据; 用户判断高度图像是否倾斜,是否需要进行倾斜校正; 若需要进行倾斜校正,则执行如下步骤: 1)通过使用被测样品上表面的高度数据获得一个拟合二次曲面; 2)根据被测样品上表面的高度数据计算得到一个拟合斜面一; 3)用把拟合 二次曲面恢复到拟合斜面一的过程来变换被测样品的高度数据,得到一组新的被测样品上表面数据,这组新的被测样品上表面数据就是没有变形的被测样品的高度数据; 4)根据新的被测样品上表面数据,拟合出一个倾斜平面二,并确定一个标准平面,将拟合斜面二上每一点的高度数据都经过一个过程而变换至标准面上,同时将新的被测样品上表面数据的每个点的高度数据经过同一个过程进行变换后得到校正数据,从而实现对微纳物体三维图像的倾斜校正。2.根据权利要求1所述的一种基于二次曲面的图像倾斜校正方法,其特征在于,所述标准平面采用测量得到的所有采样点的高度值的平均值即3.根据权利要求1或2所述的一种基于二次曲面的图像倾斜校...

【专利技术属性】
技术研发人员:金福生安婧雯宋红
申请(专利权)人:北京理工大学
类型:发明
国别省市:

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