用于减少楔形误差的装置和方法制造方法及图纸

技术编号:8629424 阅读:192 留言:0更新日期:2013-04-26 17:54
本发明专利技术涉及一种用于在第一表面(2o)与第二表面(5o)之间带有间隔的情况下相对而置地对准第一衬底(2)的第一表面(2o)与第二衬底(5)的第二表面(5o)的装置,带有以下特征:-第一容纳器具(1)用于在第一容纳面(la)上容纳第一衬底(2),-第二容纳器具(6)用于在第二容纳面(6a)上容纳第二衬底(5),-接近器件用于在平移方向(T)上使第一表面(2a)接近第二表面(5a)直到到达最终位置中,其特征在于,设置有用于在第一表面(2o)接近第二表面(5o)的期间减少在第一表面(2o)与第二表面(5o)之间的楔形误差的器件。此外本发明专利技术涉及一种用于在第一表面与第二表面之间带有间隔的情况下相对而置地对准第一衬底的第一表面与第二衬底的第二表面的方法,其特征在于,在第一表面接近第二表面期间减少在第一表面与第二表面之间的楔形误差。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种根据权利要求1的用于在第一表面与第二表面之间带有间隔的情况下相对而置地对准(Ausrichtung)第一衬底的第一表面与第二衬底的第二表面的装置以及根据权利要求9的对应的方法。
技术介绍
在半导体工业中存在大量的装置和方法,在其中,两表面彼此的校准具有重大的意义。表面主要为具有某种结构的表面,其结构必须彼此对准。在进行这样的校准的所有的方法中,值得期望的是最小化或者尽可能地排除在对准时的误差尤其楔形误差(Keilfehler),即在两相对而置地待对准的表面的角位置方面的偏移。理想地,衬底的表面应在最终位置中即例如在模压(Pdgen)微透镜时或者在平版印刷方法中生产掩模时精确平行地彼此对准。在微系统技术尤其制造微透镜(其在半导体工业中作为光透镜且由于微型化压力(Miniaturisierungsdruck)必须在更小的同时越来越精确)的示例中,上述的误差产生特别显著的影响。因此特别重要的是微透镜的光轴不具有尤其由楔形误差引起的对准误差。微透镜经常相叠地堆叠,从而楔形误差相应地加重且图像质量相应地受到损害。此外致力于在微透镜的大量生产时使废品最小化。上述的楔形误差由于在对于待模压的构件尤其微透镜的制造重要的最终位置(模压材料(Pdgematerial)在该最终位置中硬化)中模压衬底彼此或者容纳模压衬底的容纳器具彼此的误差安置而产生。直到现在,通过在实际模压过程(在其中,衬底在平移方向上朝向彼此运动)之前平行地对准在衬底的表面之间的间隔,通过在接近容纳器具之前尽可能精确平行地对准容纳器具来实现楔形误差的降低。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种装置和方法,利用该方法可在对准两间隔开的衬底时将对准误差最小化,由此来提高待生产的产品的质量且显著降低制造成本。该目的利用权利要求1和权利要求9的特征来解决。本专利技术的有利的改进方案在从属权利要求中给出。由从在说明书、权利要求和/或附图1中给出的特征中的至少两个构成的所有的组合同样落入本专利技术的范围内。对于给出的值域,位于所提及的界限内的值也应作为边界值公开且应可以任意的组合被要求保护。本专利技术意图在于不是在衬底接近到最终位置中之前已经两衬底之间的对准误差,而是在接近期间且直到达到最终位置进行对准误差尤其楔形误差的减少。因此根据本专利技术可放弃将测量器具引入到待对准的衬底之间。根据本专利技术,在衬底接近期间第一衬底相对于第二衬底的间隔或者角位置或者第一容纳器具和第二容纳器具的间隔或者角位置从在第一表面和第二表面之间形成的工作空间外部来测量,使得可在衬底接近期间实现现场测量(in-situ-Messung),更确切说直到待利用装置来制造的产品尤其微透镜域或者掩模的完成。就将待通过第一衬底和第二衬底模压的模压材料引入到空隙中而言,根据本专利技术在模压材料引入到空隙中之后或者在模压材料引入到构造为承载衬底的第一衬底或者第二衬底上之后进行对准。如果在到达最终位置前不久或者在到达最终位置时实现楔形误差的减少,则这是特别有利的,因为由此实际上可排除通过第一衬底和/或第二衬底的继续的运动而引起的误差。根据本专利技术的有利的实施形式设置成用于减少楔形误差的器件可在接近期间尤其直到到达最终位置连续地尤其没有中断地被使用。就在第一表面和/或第二表面上设置有模压结构以用于模压在第一表面与第二表面之间的模压材料而言,结合纳米压印方法实施本专利技术是特别有利的。根据本专利技术的另一有利的实施形式设置成用于减少楔形误差的器件包括尤其利用光谱方法(spektroskopisch)来工作的测量器件以用于在第一表面接近第二表面的期间测量在第一衬底与第二衬底之间的角位置。通过在第一表面接近第二表面直到最终位置期间或者反之亦然来测量第一表面与第二表面彼此的角位置可通过用于减少楔形误差的器件来相应地作用于第一衬底和/或第二衬底或者第一容纳器具和/或第二容纳器具上,以便平行地对准第一表面和第二表面,从而在理想情况中不再存在楔形误差,尤其在到达最终位置时。如果测量器件具有多个、尤其至少三个、尤其在第一容纳器具和/或第二容纳器具中相应建造在第一容纳面和/或第二容纳面之下的传感器以用于测量第一表面和第二表面在平移方向上到相应的传感器的间隔以及尤其用于测量第一衬底的背对第一表面的第一支承面和第二衬底的背对第二表面的第二支承面的间隔,则这在此是尤其有利的。通过传感器的集成可在现场特别节省空间且可靠地获取容纳面或者表面的角位置。有利地,在本专利技术的一种实施形式中此外设置成用于减少楔形误差的器件包括驱动器件以用于改变第一衬底到第二衬底的角位置,尤其第一表面到第二表面的角位置,其中,驱动器件布置在第一容纳器具和/或第二容纳器具处。作为驱动器件可尤其为用于各个容纳器具的马达,其为容纳器具中的至少一个提供至少两个尤其三个转动自由度,其转动轴线处于彼此垂直并且其可任意地相对于平移方向来使容纳器具倾斜。根据本专利技术的另一有利的实施形式设置成用于减少楔形误差的器件具有主动的控制器具以用于控制楔形误差的减少,尤其用于获取测量器件的测量值以及用于对应地操控驱动器件。主动的控制器具负责基于测量器件的测量值即在传感器与单个的根据本专利技术的相关的面(表面/支承面)之间的间隔来自动地重新调节相应的驱动器件,以便在任意时刻来保证第一表面相对于第二表面的平行的对准。根据本专利技术的方法根据一种实施形式以以下步骤尤其以紧接着提出的顺序为特征 -利用其容纳面将第一衬底固定在第一容纳器具上且利用其容纳面将第二衬底固定在第二容纳器具上, —横向于平移方向使第一衬底与第二衬底对准, -将模压结构施加到第一衬底的第一表面上且将承载材料施加到第二衬底的第二表面上, -通过第一容纳器具在第二容纳器具的方向上的平移运动使第一衬底接近第二衬底,以及 -在第一衬底接近第二衬底期间且一旦第一衬底处于传感器的探测范围中,测量在第一衬底和第二衬底与第二容纳器具的每个传感器之间的间隔, -通过控制器具来评估测量值和计算第一衬底相对于第二衬底的角位置,并且通过相应地操控驱动器件且相对于第二衬底更明确地说第二容纳器具相应地转动第一衬底更明确地说第一容纳器具来对用于减少在第一衬底和第二衬底之间的楔形误差的驱动器件进行控制。附图说明本专利技术的其它的优点、特征以及细节从紧接着的本专利技术的优选的实施形式的附图说明中得出。图1显示了根据本专利技术的用于减少楔形误差的装置的截面示图。具体实施例方式在图1中示出了用于在第一表面2ο和第二表面5ο之间带有间隔的情况下相对而置地对准第一衬底2的第一表面2ο与第二衬底5的第二表面5ο的装置的第一容纳器具,其中,第二衬底5固定在第二容纳器具6的第二容纳面6a上。第一衬底2在第一容纳器具I上的固定以及第二衬底5在第二容纳器具6上的固定例如通过分别在第一容纳器具I的容纳面Ia和第二容纳器具6的容纳面6a处施加负压来实现。在表面2o处安装有模压结构3,其用于模压施加在表面5o上的模压材料4。该模压材料4例如为聚合物,其在模压时呈现模压结构3的轮廓,确切说在最终位置中,在该最终位置中模压结构3沉入到模压材料4中,以便相应于模压结构3的轮廓制造出大量的具有精确尺寸的产品(此处为微透镜)。通过示出的组件来模压和硬化由模压材料构成的微透镜域,从而随后可由微透镜域制造出多个微透本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于相对而置地对准第一衬底(2)的第一表面(2ο)与第二衬底(5)的第二表面(5ο)的装置,其中在所述第一表面(2ο)和所述第二表面(5ο)之间具有间隔,具有以下特征 -第一容纳器具(I)以用于在第一容纳面(Ia)上容纳所述第一衬底(2), -第二容纳器具(6)以用于在第二容纳面(6a)上容纳所述第二衬底(5), -接近器件以用于在平移方向(T)上使所述第一表面(2a)接近所述第二表面(5a)直到到达最终位置中,其特征在于, 设置有用于在所述第一表面(2ο)接近所述第二表面(5ο)期间减少所述第一表面(2ο)和所述第二表面(5ο)之间的楔形误差的器件。2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,用于减少楔形误差的所述器件可在接近期间尤其直到到达最终位置连续地尤其没有中断地被使用。3.根据上述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,在所述第一表面(2ο)和/或所述第二表面(5ο)上设置有模压结构(3)以用于模压在所述第一表面(2ο)与所述第二表面(5ο)之间的模压材料⑷。4.根据上述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,所述用于接近的器件构造成引起所述第一容纳器具(I)和所述第二容纳器具(6)横向于所述容纳面(la,6a)在平移方向(T)上的平移运动。5.根据上述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,用于减少楔形误差的所述器件包括尤其利用光谱方法工作的测量器件以用于在所述第一表面(2ο...

【专利技术属性】
技术研发人员:M卡斯特C格林赛斯A马尔策尔
申请(专利权)人:EV集团E·索尔纳有限责任公司
类型:
国别省市:

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