掩模板、彩膜基板及液晶显示装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了掩模板、彩膜基板及液晶显示装置，涉及液晶显示技术领域，用来增大液晶面板的开口率而又避免漏光和混色的发生。所述掩模板包括基板，在所述基板上设置有用以形成黑矩阵的掩模图形，其中，沿所述掩模图形的边缘设有多个凸起。本实用新型专利技术用来制作液晶显示装置。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及液晶显示
，尤其涉及掩模板、彩膜基板及液晶显示装置。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示装置以其功耗低、携带方便、使用范围广、品质高等优点成为新一代的主流显示装置。随着薄膜晶体管液晶显示装置向大尺寸方向的发展，对其对比度、亮度、功耗等性能参数的要求也越来越高。目前，薄膜晶体管液晶显示装置的液晶面板是由阵列基板和彩膜基板对盒后，在阵列基板和彩膜基板之间注入液晶材料而形成的。其中，彩膜基板上形成有黑矩阵。为了提高薄膜晶体管液晶显示装置的显示亮度，现有技术提出了一种通过减小黑矩阵的线宽来增大液晶面板开口率的方法。而黑矩阵是通过掩模板形成的，所以传统的黑矩阵的形状和掩模板上的掩模图形的形状是一致的，因此减小黑矩阵的线宽就需要减小掩模板上的掩模图形的线宽。但是在工艺实现的过程中，由于设备问题和工艺水平问题，当掩模图形的线宽小于曝光机的曝光精度时，由于光的衍射得到的黑矩阵图形就与预设的不同，黑矩阵的边缘不再是直线结构，这样就会引起漏光和混色。
技术实现思路
本技术提供掩模板、彩膜基板及液晶显示装置，用来增大液晶面板的开口率而又避免漏光和混色的发生。为达到上述目的，一方面提供了 一种掩模板，包括基板，在所述基板上设置有用以形成黑矩阵的掩模图形，沿所述掩模图形的边缘设有多个凸起。优选地，各所述凸起为三角形或弧形。进一步地，各所述三角形相同。进一步地，各所述弧形相同。另一方面，提供了一种彩膜基板，包括玻璃基板，所述玻璃基板上设有使用上述掩模板形成的黑矩阵。其次，所述彩膜基板上还包括形成在所述黑矩阵上的彩色像素树脂层、保护层和柱状隔垫物。再一方面，提供了一种液晶显示装置，包括上述彩膜基板和与所述彩膜基板对盒的阵列基板。本技术实施例提供的掩模板、彩膜基板和液晶显示装置中，当所述基板上掩模图形的线宽小于曝光机的曝光精度时，所述掩模图形的边缘设置的多个所述凸起，可以弥补由所述掩模板形成的所述黑矩阵的边缘的非直线结构这一缺陷，避免因此而造成的漏光和混色，这样在不需要更换曝光设备和改善工艺水平的情况下，可以通过减小黑矩阵的线宽增大液晶显示装置的开口率，提高液晶显示装置的透过率，进而提高液晶显示装置的显不売度。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例提供的掩模板的结构示意图；图2为本技术实施例提供的彩膜基板的剖面示意图。附图标记10-基板，20-掩模图形，30-凸起，1-玻璃基板，2-黑矩阵，3-彩色像素树脂层，31-红色像素树脂层，32-绿色像素树脂层，33-蓝色像素树脂层，4-保护层，5-隔垫物。具体实施方式以下结合附图对本技术实施例掩模板、彩膜基板及液晶显示装置进行详细描述。应当明确，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。参看图1所示，为本技术提供的掩模板的一个具体实施例，包括基板10，在所述基板10上设置有用以形成黑矩阵的掩模图形20，其中，沿所述掩模图形20的边缘设有多个凸起30。本技术实施例提供的掩模板，当基板10上掩模图形20的线宽小于曝光机的曝光精度时，所述掩模图形20的边缘设置的多个凸起30，可以弥补由所述掩模板形成的所述黑矩阵的边缘的非直线结构这一缺陷，避免因此而造成的漏光和混色，这样在不需要更换曝光设备和改善工艺水平的情况下，可以通过减小黑矩阵的线宽增大液晶显示装置的开口率，提高液晶显示装置的透过率，进而提高液晶显示装置的显示亮度。其中，各所述凸起可以为三角形或弧形。各所述三角形可以相同；各所述弧形可以相同。如图2所示，本技术还提供了一种彩膜基板，包括玻璃基板1，所述玻璃基板I上设有使用上述掩模板形成的黑矩阵2。本技术实施例提供的彩膜基板中，用以形成所述黑矩阵的所述掩模板包括基板，在所述基板上设置有用以形成黑矩阵的掩模图形，其中，沿所述掩模图形的边缘设有多个凸起。因此当所述掩模图形的线宽小于曝光机的曝光精度时，所述掩模图形的边缘设置的多个所述凸起，可以弥补由所述掩模板形成的所述黑矩阵的边缘的非直线结构这一缺陷，避免因此而造成的漏光和混色，这样在不需要更换曝光设备和改善工艺水平的情况下，可以通过减小黑矩阵的线宽增大液晶显示装置的开口率，提高液晶显示装置的透过率，进而提闻液晶显不装置的显不売度。进一步地，如图1所示，所述彩膜基板上还包括依次形成在所述黑矩阵2上的彩色像素树脂层3、保护层4和柱状隔垫物5。所述彩色像素树脂层3可以为红色像素树脂层31、绿色像素树脂层32或蓝色像素树脂层33。红色、绿色和蓝色为可见光的三原色，液晶显示装置的色彩显示一般也是基于三原色成像原理。保护层4是用来在成型之后的诸如公共电极的工艺时保护之前形成的彩色像素树脂层；柱状隔垫物5是用来支撑彩膜基板和与所述彩膜基板对盒的阵列基板，使二者之间形成稳定的间隙，便于液晶的工作。本技术实施例中彩膜基板的制造方法为步骤1、提供玻璃基板，在玻璃基板表面上形成黑矩阵；步骤2、在黑矩阵上形成彩色像素树脂层；步骤3、在彩色像素树脂层上涂覆保护层；步骤4、在保护层上形成柱状隔垫物。其中，形成黑矩阵的具体步骤为11、在玻璃基板上涂覆一层黑矩阵光刻胶；12、通过刻画有掩模图形的掩模板曝光并显影，得到黑矩阵图形。其中形成彩色像素树脂层的具体步骤为21、在黑矩阵层上涂覆红色像素树脂层光刻胶，通过刻画有掩模图形的掩模板曝光并显影，得到红色像素树脂层，并重复形成绿色像素树脂层和蓝色像素树脂层。其中，形成柱状隔垫物的具体步骤为41、在保护层上涂覆隔垫物树脂层光刻胶，通过刻画有掩模图形的掩模板曝光并显影，得到柱状隔垫物。本专利技术实施例还提供了一种液晶显示装置，包括上述彩膜基板和与所述彩膜基板对盒的阵列基板。本技术实施例提供的液晶显示装置中，用来形成所述彩膜基板上的黑矩阵的掩模板，包括基板，在所述基板上设置有用以形成黑矩阵的掩模图形，其中，沿所述掩模图形的边缘设有多个凸起。因此当所述掩模图形的线宽小于曝光机的曝光精度时，所述掩模图形的边缘设置的多个所述凸起，可以弥补由所述掩模板形成的所述黑矩阵的边缘的非直线结构这一缺陷，避免因此而造成的漏光和混色，这样在不需要更换曝光设备和改善工艺水平的情况下，可以通过减小黑矩阵的线宽增大液晶显示装置的开口率，提高液晶显示装置的透过率，进而提高液晶显示装置的显示亮度。以上所述，仅为本技术的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本技术的保护范围之内。因此，本技术的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模板，包括：基板，在所述基板上设置有用以形成黑矩阵的掩模图形，其特征在于，沿所述掩模图形的边缘设有多个凸起。

【技术特征摘要】
1.一种掩模板，包括基板，在所述基板上设置有用以形成黑矩阵的掩模图形，其特征在于，沿所述掩模图形的边缘设有多个凸起。2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，各所述凸起为三角形或弧形。3.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，各所述三角形相同。4.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，各所述弧形相同。5.一...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵利军，林允植，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：