光源系统与激光光源技术方案

本发明专利技术实施例公开了一种光源系统与激光光源，该激光光源，包括两组激光器组，至少一组激光器组包括至少两个激光器，两组激光器组产生的各束光线同向且平行；所述两组激光器组在各自出射光线组成的光束的截面上的第一投影在第一方向上的第二投影有部分交叠，第一方向为一组激光器组的至少两个激光器中心的连线方向。本发明专利技术能够有效增大光功率密度，同时减小光源体积。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学
，特别是涉及光源系统与激光光源。
技术介绍
现有技术常用的单颗半导体激光器的光功率大致在几百毫瓦左右，更大功率的有1-2瓦。单颗半导体激光器想要实现几瓦甚至10瓦以上的功率输出，目前较为困难。在一些要求高光功率半导体激光器的应用场景中，比如投影、舞台灯光系统等光功率要求达到几十瓦的应用场景中，可以采用阵列排布半导体激光器的方式。现有技术阵列排布半导体激光器的方案，是简单地将半导体激光器如激光二极管进行二维排列，然后采用准直透镜将激光二极管发出的光准直。图1a显示了一个4X4排布结构的激光二级管阵列。通常激光二极管11发出的光其分布为一个椭圆高斯分布，发散角较大。准直透镜通常(图未示)是一个旋转对称的透镜，能将激光二极管11发出的光准直。再如图1a所示，现有技术激光二极管排布通常为平面直射式排布，激光二极管11安装在底座12上，底座12的投影面积大于激光二极管11的相应投影面积。本申请专利技术人在长期研发中发现，上述平面直射式排布技术会导致一些技术问题的产生，具体描述如下一起参阅图lb，由于激光二极管11的发光是椭圆高斯分布，经过准直透镜(图未/Jn )后形本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光源系统，包括至少一组激光光源，其特征在于，所述一组激光光源包括：两组激光器组，至少一组激光器组包括至少两个激光器，每组激光器组产生的各束光线同向且平行；与所述激光器组对应的两组反射镜组，至少一组反射镜组包括至少两个反射镜，反射镜设置在与其对应的激光器的光轴上；所述反射镜组反射与其对应的激光器组产生的各束光线，使从该反射镜组出射的该各束光线间的间距小于入射到该反射镜组的各束光线间的间距；从所述两组激光器组出射的各束光线相互平行，从所述两组反射镜组出射的各束光线同向且相互平行；所述两组激光器组在各自出射光线组成的光束的截面上的第一投影在第一方向上的第二投影有部分交叠，第一方向为一组激光器组的...

【技术特征摘要】
1.一种光源系统，包括至少一组激光光源，其特征在于，所述一组激光光源包括 两组激光器组，至少一组激光器组包括至少两个激光器，每组激光器组产生的各束光线同向且平行； 与所述激光器组对应的两组反射镜组，至少一组反射镜组包括至少两个反射镜，反射镜设置在与其对应的激光器的光轴上；所述反射镜组反射与其对应的激光器组产生的各束光线，使从该反射镜组出射的该各束光线间的间距小于入射到该反射镜组的各束光线间的间距； 从所述两组激光器组出射的各束光线相互平行，从所述两组反射镜组出射的各束光线同向且相互平行； 所述两组激光器组在各自出射光线组成的光束的截面上的第一投影在第一方向上的第二投影有部分交叠，第一方向为一组激光器组的至少两个激光器中心的连线方向。2.根据权利要求1所述的光源系统，其特征在于 包括至少两个反射镜的反射镜组的相邻两个反射镜呈阶梯状。3.根据权利要求2所述的光源系统，其特征在于所述相邻两个反射镜在各自出光方向上的投影相邻接。4.根据权利要求3所述的光源系统，其特征在于所述激光器出射的光线的截面光斑的宽度等于该反射镜在其入光方向上的投影，使得同组激光器组的相邻束光线被反光镜反射后的相邻光斑在光斑的宽度方向上邻接，所述宽度是该光斑沿第二方向的投影的宽度，第二方向同时平行于反射镜入射光束截面和出射光束截面的方向。5.根据权利要求4所述的光源系统，其特征在于所述截面光斑的形状为椭圆形、长方形或圆形。6.根据权利要求4所述的光源系统，其特征在于 激光器入射到反射镜上的光线的入射角为45度； 所述光线的截面光斑的宽度等于反射该光线的反射镜的直角边长度，使得所述相邻束光线被反光镜反射后的相邻光斑在光斑的宽度方向上邻接。7.根据权利要求1所述的光源系统，其特征在于两组激光器组中，组间激光器产生的相邻束光线被反射镜反射后所形成的光斑在第二方向上邻接，第二方向为同时平行于该反射镜的入射光束的截面与出射光束的截面的方向。8.根据权利要求1所述的光源系统，其特征在于每组激光器组直线排布，并且所述两组激光器组同向错位设置。9.根据权利要求8所述的光源系统，其特征在于 两组激光器组同向错位设置具体为，两组激光器组分别所在的两条直线位于激光器的出光方向上的同一截面，且在一组激光器组中，相邻激光器间隔设置，并且另一组激光器组中，相邻激光器也间隔设置，两组激光器组沿各自所在直线相互错开并咬合。10.根据权利要求8所述的光源系统，其特征在于 两组激光器组同向错位设置具体为，两组激光器组分别所在的两条直线位于激光器的出光方向上的不同截面，且在一组激光器组中，相邻激光器间隔设置，并且另一组激光器组中，相邻激光器也间隔设置，两组激光器组在各自出光方向上的投影沿各自所在直线相互错开并咬合。11.根据权利要求1所述的光源系统，其特征在于所述两组激光器组出射的各束光线反向。12.根据权利要求11所述的光源系统，其特征在于每组激光器组直线排布，两组激光器组相向设置，相向设置的两组激光器组分别在各自...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡飞，杨佳翼，
申请(专利权)人：深圳市光峰光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：