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多芯带状光纤中多波长光栅同时刻写的装置及方法制造方法及图纸

技术编号:8593232 阅读:241 留言:0更新日期:2013-04-18 06:17
本发明专利技术公开了一种多芯带状光纤中多波长光栅同时刻写的装置及方法,包括光纤定位滑槽的设计加工步骤、光路组建对准步骤、光栅刻写步骤,属于光通信-光纤传感技术领域。利用光纤光栅的中心波长随轴向形变发生漂移的原理,阵列光纤定位滑槽各槽间距与带纤中去涂覆层光纤间距对应,通过调整悬挂自行设计的高精度砝码来调控各光纤的拉伸量,进而实现对光栅中心波长的精确控制。该系统制备的阵列光栅重复性好、精度高、损伤小,适用于带纤中波长可控阵列光栅的批量生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光纤光栅的制作装置及方法,特别是在多芯带状光纤上刻写不同波长光纤的装置及方法。
技术介绍
光纤光栅是一种重要的光学元件,在光通信和传感领域有重要的作用。带状光纤连接简单方便、光纤密度高,广泛应用于光纤通信、光纤传感领域。目前相位掩模板法已被广泛应用于制备光纤光栅,相位掩模板法操作简单,所制光栅参数稳定性高。因为相位掩膜板周期是固定的,所以要制作不同中心波长的光栅需要采取一些措施,制作不同中心波长光栅广泛使用的方法是预加应力改变光栅周期Λ。因为多芯带状光纤在制备过程中各光纤不可避免存在挤压或旋转,带状光纤整体封装不利于对各个光纤实施精确应力控制;光纤排列紧密,逐根刻写操作困难,且逐根刻写会不可避免带来系统误差。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种结构简单、可在带纤中多根光纤施加不同可控应力的。该方法基于紫外曝光掩模板法刻写光栅,同时又通过精确控写制光栅时施加的应力实现刻写不同波长的光栅。本专利技术的技术方案如下 一、本专利技术的刻写装置,主要包括有准分子激光器、相位掩模板、光敏带纤、带纤夹具、阵列光纤定位滑槽板和高精度砝码。在准分子激光器的光路上由近及远依次设有本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多芯带状光纤中多波长光栅同时刻写的装置,其特征在于:在准分子激光器的光路上由近及远依次设有与光路垂直的相位掩模板和水平的光敏带纤,该光敏带纤中间段为去除整体外包装的裸光纤,该中间段两侧的光敏带纤,其水平一侧固定在带纤夹具上,竖直的另一侧为自由段,在上述相位掩模板与竖直光敏带纤之间的裸光纤上设有阵列光纤定位滑槽板,该阵列光纤定位滑槽板上设有与裸光纤数目相同的一组v型槽,该v型槽为圆滑过渡的直角槽,它们不等高水平排列,该v型槽水平部分与位于其内的裸光纤在带纤上的高度相同,并且一组v型槽水平部分之间的距离等于裸光纤在带纤上彼此间的距离,在每个v型槽下面均设一个与滑槽板垂直相连的导引柱,它们之间的...

【技术特征摘要】
1.一种多芯带状光纤中多波长光栅同时刻写的装置,其特征在于在准分子激光器的光路上由近及远依次设有与光路垂直的相位掩模板和水平的光敏带纤,该光敏带纤中间段为去除整体外包装的裸光纤,该中间段两侧的光敏带纤,其水平一侧固定在带纤夹具上,竖直的另一侧为自由段,在上述相位掩模板与竖直光敏带纤之间的裸光纤上设有阵列光纤定位滑槽板,该阵列光纤定位滑槽板上设有与裸光纤数目相同的一组V型槽,该V型槽为圆滑过渡的直角槽,它们不等高水平排列,该V型槽水平部分与位于其内的裸光纤在带纤上的高度相同,并且一组V型槽水平部分之间的距离等于裸光纤在带纤上彼此间的距离,在每个V型槽下面均设一个与滑槽板垂直相连的导引柱,它们之间的距离大于光纤之间的距离,裸光纤绕过导引柱,在导柱下面的裸光纤上设有高精度砝码。2.—种多芯带状光纤中多波长光栅同时刻写的方法,其特征在于 1)、设置准分子激光器及相位掩模板,将带状光纤水平一侧固定在带纤夹具上,使带状光纤与准分子激光器及相位掩模板高度一致; 2)、分离去除整体外包装的中间段裸光纤,按高度分别置于阵列光纤定位滑槽板对应的V型槽中,调整阵列光纤定位滑槽板的位置,使...

【专利技术属性】
技术研发人员:齐跃峰毕卫红刘雪强江鹏高洁
申请(专利权)人:燕山大学
类型:发明
国别省市:

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