偏振光膜、圆偏振光板及它们的制造方法技术

技术编号:8593225 阅读:331 留言:0更新日期:2013-04-18 06:17
提供一种能用于显示装置用构件的、薄膜且高偏振光性能的偏振光膜等。提供一种由组合物形成的偏振光膜、具备该偏振光膜的液晶显示装置等,该组合物含有在400~800nm的波长范围有吸收的、下述通式(1)所示的多偶氮系色素的至少1种、和聚合性近晶状液晶化合物。[式(1)中,Ar2选自下示基团。上述聚合性近晶状液晶化合物优选为呈现高级近晶相液晶状态的化合物。

【技术实现步骤摘要】
偏振光膜、圆偏振光板及它们的制造方法
本专利技术涉及偏振光膜、圆偏振光板及它们的制造方法等。
技术介绍
被用于液晶显示装置中的起偏器,通常使用由碘染色后的聚乙烯醇构成的膜。另一方面,伴随着近来的强烈要求液晶显示装置薄膜化的趋势,起偏器也被要求进一步地薄型化。对于薄型起偏器所具有的薄型偏振光膜,例如专利文献1中记载有由含有聚合性向列液晶化合物和二色性色素的组合物形成的膜。此外,对于该二色性色素,例如在专利文献2中记载有作为通过蒸镀形成偏振光膜用的特定的多偶氮系色素。现有技术文献专利文献【专利文献1】日本专利特表2007-510946号公报【专利文献2】日本专利特开平8-278409号公报
技术实现思路
被要求进一步薄膜化的偏振光膜,期待其偏振光性能高,尤其是二色性比高。本专利技术包含以下的专利技术。〔1〕一种偏振光膜,由含有在400~800nm的波长范围有吸收的、下述通式(1)所示的多偶氮系色素的至少1种、和聚合性近晶状液晶化合物的组合物形成。[式(1)中,n为1或2。Ar1及Ar3各自独立地表示选自下示基团的基团。Ar2表示选自下示基团的基团。A1及A2各自独立地表示选自下示基团的基团。本文档来自技高网...
偏振光膜、圆偏振光板及它们的制造方法

【技术保护点】
一种偏振光膜,由含有在400~800nm的波长范围有吸收的、下述通式(1)所示的多偶氮系色素的至少1种、和聚合性近晶状液晶化合物的组合物形成;式(1)中,n为1或2,Ar1及Ar3各自独立地表示选自下示基团的基团;Ar2表示选自下示基团的基团;A1及A2各自独立地表示选自下示基团的基团;m为0~10的整数,当同一基团中存在2个m时,这2个m相互之间相同或不同。FSA00000799439900011.tif,FSA00000799439900012.tif,FSA00000799439900013.tif,FSA00000799439900014.tif

【技术特征摘要】
2011.10.12 JP 2011-2246811.一种圆偏振光板,依次具有偏振光膜、λ/2层和λ/4层,并满足以下的要件(B1)、(B2)、(B3)及(B4):(B1)所述偏振光膜的吸收轴与所述λ/2层的慢轴所成的角度为15°;(B2)所述λ/2层的慢轴与所述λ/4层的慢轴所成的角度为60°;(B3)所述λ/2层在波长550nm的光下测定的、所述λ/2层的正面延迟值在200~300nm的范围;(B4)所述λ/4层在波长550nm的光下测定的、所述λ/4层的正面延迟值在100~150nm的范围;所述偏振光膜由含有在400~800nm的波长范围有吸收的、下述通式(1)所示的多偶氮系色素的至少1种、和聚合性近晶状液晶化合物的组合物形成;所述偏振光膜在X射线衍射测定中获得布拉格峰;式(1)中,n为1或2,Ar1及Ar3各自独立地表示选自下示基团的基团;Ar2表示选自下示基团的基团;A1及A2各自独立地表示选自下示基团的基团;m为0~10的整数,当同一基团中存在2个m时,这2个m相互之间相同或不同。2.一种圆偏振光板,具有偏振光膜和λ/4层,并满足以下的要件(A1)及(A2):(A1)所述偏振光膜的吸收轴与所述λ/4层的慢轴所成的角度为45°;(A2)在波长550nm的光下测定的所述λ/4层的正面延迟值在100~150nm的范围;所述偏振光膜由含有在400~800nm的波长范围有吸收的、下述通式(1)所示的多偶氮系色素的至少1种、和聚合性近晶状液晶化合物的组合物形成;所述偏振光膜在X射线衍射测定中获得...

【专利技术属性】
技术研发人员:幡中伸行大川春树
申请(专利权)人:住友化学株式会社
类型:发明
国别省市:

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