【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种阀的技术。
技术介绍
现有的在陶瓷浆料除铁磁物质过程的余浆排放及软磁介质清洁时,需要通过阀门来控制通道的开度,以便在余浆排放时,流量比较小,避免余浆流量过大,导致浆料流经软磁介质的流速大,将吸附在软磁介质上的铁磁物质带走而污染余浆,余浆排空后的软磁介质清洁时,就需要通过阀门将通道的开度开到最大,以便以便清洁液体能以较快的流速冲刷软磁介质,将软磁介质上的铁磁物质冲刷下来。已有技术的阀是通常的阀,结构复杂,开关过程耗时长,不容易在迅速的开关动作中掌握准确的开度。
技术实现思路
本专利技术的专利技术目的在于提供一种结构简单、可靠性高、容易在迅速的开关动作中准确把握开度的阀门。本专利技术是这样实现的,包括设置在可水平移动的除铁磁物质通道底部排泄口上的软管、设置在软管的一侧的挡块、设置在软管的另一侧的由气缸带动的压块,挡块随除铁磁物质通道移动而同步移动。工作时,除铁磁物质通道移动到南北磁场中,气缸动作,将压块压向挡块,将软管夹紧在压块与挡块间,从而将软管关闭;通过气缸带动压块离开挡块,使软管处于半导通状态;除铁磁物质通道移动离南北磁场,由于软管随除铁磁物质通道移动而远离压块,这样,软管处于全导通状态。 由于阀门的开关只有一个动作,而且,压块的移动的距离固定,因此,可以采用比较简单的动力驱动就能实现全开、半开、全闭的动作。本专利技术与已有技术相比,具有结构简单、可靠性高、容易在迅速的开关动作中准确把握开度的优点。附图说明 图1为本专利技术的结构示意 图2为本专利技术的实施例1工作过程原理 图3为本专利技术的实施例2工作过程原理图。具体实施例 ...
【技术保护点】
一种阀门,其特征在于包括设置在可水平移动的除铁磁物质通道底部排泄口上的软管、设置在软管的一侧的挡块、设置在软管的另一侧的由气缸带动的压块,挡块随除铁磁物质通道移动而同步移动。
【技术特征摘要】
1.一种阀门,其特征在于包括设置在可水平移动的除铁磁物质通道底部排泄口上的软管、设置在软管的一侧的挡块、设置在软管的另一侧...
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