位面计制造技术

本实用新型专利技术提供一种位面计，其用于测量对所供给的颗粒进行积累的容器中的颗粒的积累量，其特征在于，具有：传感器部，具有插入到积累的所述颗粒间的下端部和从所述颗粒间伸出的上端部，该传感器部测量所述容器中的颗粒的积累量；和保护罩，以将该传感器部的距容器中的颗粒的供给部近的一侧覆盖，而将该传感器部的距容器中的颗粒的供给部远的一侧敞开的方式，沿着该传感器部延伸。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及用于对所供给的颗粒进行积累的容器中的颗粒的积累量进行测量的位面计。
技术介绍
干式脱硫脱硝装置对从烧煤锅炉或烧结机等排出废气的装置排出的大量废气进行处理(净化)。干式脱硫脱硝装置具有用于处理废气的吸附塔。在该吸附塔中，为了吸附废气内的有害物质而使用碳质吸附剂。碳质吸附剂包括活性碳、活性木炭、活性焦炭、以及活性褐煤等。干式脱硫脱硝装置具有用于除去废气中的S O x、N O x、二恶英及水银等有害物质的吸附塔、以及用于对使用完的碳质吸附剂进行再生处理的再生塔。另外，干式脱硫脱硝装置具有用于输送向吸附塔或再生塔供给的碳质吸附剂、以及从吸附塔或再生塔排出的碳质吸附剂的输送系统(传送装置)。传送装置配置在吸附塔及再生塔的附近，对碳质吸附剂进行输送。由传送装置输送来的碳质吸附剂向吸附塔或再生塔落下。落下的碳质吸附剂在吸附塔或再生塔中积累起来。然而，若吸附塔或再生塔中所积累的碳质吸附剂的位面(积累在塔内的碳质吸附剂的堆的高度)过于下降，则料封消失，而使废气流入到吸附塔及再生塔的上部室，引起其壳体受到腐蚀。另外，各塔的碳质吸附剂供给机(例如、回转阀)也有可能发生腐蚀。因此，例如利用电容式位面计对吸附塔或再生塔中的碳质吸附剂的位面进行测量。根据该测量结果，控制向再生塔供给新的碳质吸附剂。电容式位面计具有铁或不锈钢等金属等的管材、和用于对该管材进行覆盖的绝缘体。在各塔内，碳质吸附剂积累成以中央部为顶点的山形状。因此，供给到塔内的碳质吸附剂在该山的斜面上滚动，有时直接与电容式位面计碰撞。若其反复发生，则位面计的绝缘体受到损伤而使其绝缘性降低。这种情况会导致电容式位面计的测量误差。进而，若绝缘体脱落，则会露出导电性的管材面。在这种情况下，难于测定位面。
技术实现思路
本技术的位面计(本位面计)用于测量对所供给的颗粒进行积累的容器中的颗粒的积累量，其特征在于，具有传感器部，具有插入到积累的所述颗粒间的下端部和从所述颗粒间伸出的上端部，该传感器部测量所述容器中的颗粒的积累量；和保护罩，以将该传感器部的距容器中的颗粒的供给部近的一侧覆盖，而将该传感器部的距容器中的颗粒的供给部远的一侧敞开的方式，沿着该传感器部延伸。本位面计对容器中的颗粒的积累量进行测量。即，本位面计通过对容器中所积累的颗粒的山的高度(位面)进行测量，来测量容器中的颗粒的积累量。为了进行该测量，本位面计具有传感器部。传感器部的下端部插入到所积累的颗 粒之间。另外，传感器部的上端部从颗粒间伸出不与颗粒相接触。即，传感器部具有与颗粒 相接触的部分和不相接触的部分。传感器部例如测量与颗粒相接触的部分的长度。而且， 根据测量结果测定容器中的颗粒的积累量。向容器定期地或不定期地供给颗粒。有可能该颗粒在已经积累于容器内的颗粒的 山的斜面滚动等，而向从颗粒间伸出的传感器部移动。因此，本位面计具有保护罩。该保护 罩设置成沿传感器部延伸。而且，该保护罩覆盖传感器部的距容器中的颗粒的供给部近的一侧。由此，本位面计抑制了供给到容器的颗粒直接与传感器部碰撞的情况。其结果，能 够抑制由于颗粒而使传感器部损伤的情况。从而，传感器部能够在较长的期间准确地持续 测定容器中的颗粒的积累量。另一方面，保护罩使传感器部的距容器中的颗粒的供给部远的一侧敞开。因此，容 器内的颗粒绕过保护罩而进入到保护罩的内部。因此，能够抑制容器中的颗粒的积累状态 受本位面计的影响的情况。其结果，传感器部能够准确地测定容器中的颗粒的积累量。此外，优选所述保护罩的距容器中的颗粒的供给部远的一侧的端部和所述容器的 内壁之间的间隙是所述颗粒的直径的5倍以上。此外，优选所述间隙是所述颗粒的直径的10倍以上。此外，优选所述间隙是所述颗粒的直径的35倍以下。此外，优选所述位面计还具有用于将所述传感器部及保护罩安装于容器的凸缘 部。此外，优选所述位面计还具有沿所述传感器部延伸并保持所述传感器部的框架 部。此外，优选所述传感器部根据容器内的颗粒的静电电容和容器内的气氛的静电电 容之间的差测定容器中的颗粒的积累量。此外，优选所述容器是对从上部供给的颗粒进行积累的容器。此外，优选所述颗粒是碳质吸附剂，所述容器是使用碳质吸附剂的移动层式脱硫 脱硝装置中的吸附塔和/或再生塔。附图说明图1是表示作为干式脱硫脱硝装置的一例的废气处理装置的构成的说明图。图2是表示废气处理装置的再生塔内的、再生塔位面计的设置状态的说明图。图3是表示再生塔位面计的构成的侧视图。图4是表示再生塔位面计的构成的截面图。图5是表示利用再生塔位面计的传感器部进行的位面测定方法的说明图。具体实施方式以下对作为本技术的一实施方式涉及的干式脱硫脱硝装置(移动层式脱硫脱 硝装置)的一例的废气处理装置(本装置)进行说明。本装置对从使用化石燃料的烧结机(未图示)排出的气体(废气)进行处理。图1是表示本装置的概略构成的说明图。如该图所示，本装置具备碳质吸附剂贮槽部(容器)11、吸附塔(容器)13、再生塔(容器)15、筛选机17、碳质吸附剂补充用传送装置21、碳质吸附剂供给用传送装置23、碳质吸附剂回收用传送装置25、以及旁路滑槽31。如图1所示，碳质吸附剂贮槽部11具备贮槽部位面计51。另外，吸附塔13具备吸附塔位面计53。进而，再生塔15具备再生塔位面计55。这些位面计51、53及55分别对碳质吸附剂贮槽部11、吸附塔13及再生塔15的碳质吸附剂(颗粒)的积累量进行测量。碳质吸附剂贮槽部(多级保持器)11是用于贮藏本装置所使用的碳质吸附剂并且根据需要向其外部排出的箱。吸附塔13利用被供给的碳质吸附剂对通过自身的废气进行处理(净化)。S卩，从水平方向(与吸附塔13的延伸方向垂直的方向)向吸附塔13导入废气。吸附塔13内的碳质吸附剂吸附废气中的硫氧化物(S O x)及粉尘等，并且，将氮氧化物(N O x)还原为N 2。由此，从废气中除去有害物质。然后，废气被从吸附塔13排出。另外，吸附塔13把使用完的碳质吸附剂(吸附有S O {等的碳质吸附剂)从其底部排出。再生塔15对使用完的碳质吸附剂进行再生(活化)处理。即，再生塔15将使用完的碳质吸附剂加热到400°C以上，由此，再生为能够再次使用。再生塔15将再生后的碳质吸附剂(再生碳质吸附剂)和其他异物从其底部排出。该“其他异物”包括捕集到的粉尘(废气中的尘土)、以及由于破碎、磨损等而产生的碳质吸附剂微粒和粉(以下、称为碳质吸附剂粉)。筛选机17从来自再生塔15的排出物中取出再生碳质吸附剂。即，筛选机17通过使来自再生塔15的排出物过筛而从来自再生塔15的排出物中除去捕集粉尘及碳质吸附剂粉。而且，筛选机17排出剩下的再生碳质吸附剂。碳质吸附剂补充用传送装置21接受从碳质吸附剂贮槽部11供给的碳质吸附剂，并向碳质吸附剂回收用传送装置25输送。碳质吸附剂回收用传送装置25接受从吸附塔13排出的使用完的碳质吸附剂。碳质吸附剂回收用传送装置25将该使用完的碳质吸附剂和从碳质吸附剂贮槽部11供给的碳质吸附剂向再生塔15输送。碳质吸附剂供给用传送装置23接受利用筛选机17筛选出的再生碳质吸附剂。碳质吸附剂供给用传送装置23将该再生碳质吸附剂向吸附塔13输送。旁路滑槽31是用于将通过碳质吸附剂回收用传送装置25输送来的碳质吸附剂不本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种位面计，用于测量对所供给的颗粒进行积累的容器中的颗粒的积累量，其特征在于，具有:传感器部，具有插入到积累的所述颗粒间的下端部和从所述颗粒间伸出的上端部，该传感器部测量所述容器中的颗粒的积累量；和保护罩，以将该传感器部的距容器中的颗粒的供给部近的一侧覆盖，而将该传感器部的距容器中的颗粒的供给部远的一侧敞开的方式，沿着该传感器部延伸。

【技术特征摘要】
1.一种位面计，用于测量对所供给的颗粒进行积累的容器中的颗粒的积累量，其特征在于，具有传感器部，具有插入到积累的所述颗粒间的下端部和从所述颗粒间伸出的上端部，该传感器部测量所述容器中的颗粒的积累量；和保护罩，以将该传感器部的距容器中的颗粒的供给部近的一侧覆盖，而将该传感器部的距容器中的颗粒的供给部远的一侧敞开的方式，沿着该传感器部延伸。2.根据权利要求1所述的位面计，其特征在于，所述保护罩的距容器中的颗粒的供给部远的一侧的端部和所述容器的内壁之间的间隙是所述颗粒的直径的5倍以上。3.根据权利要求2所述的位面计，其特征在于，所述间隙是所述颗粒的直径的10倍以上。4.根据权利要求2或3所述的位面计，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：池上真一，后藤浩平，
申请(专利权)人：住友重机械工业株式会社，
类型：实用新型
国别省市：