【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
现有技术中，为了在阵列基板(Array)上集成彩色滤光层(ColorFilter, C/F),从而在Array工序结束之后,在TFT阵列上形成C/F。其称之为C0A(Color Filter On Array),对于COA类型的阵列基板，由于树脂(Resin)材料的性质，导致与最上部的ITO电极及过孔之间的接触效果不好。由于树脂的材料，其无法忍耐高温的性质，以及与其下部ITO电极之间的接触及粘附效果不佳，而且位于Array上部的图形层(Patterning)还是会受到下部彩色滤光层的影响，并且C/F位于Array上部的话,还存在对液晶盒厚(Cell Gap)所造成厚度不一的问题，会对显示效果有不良影响。因此需要对彩色滤光层进行改善。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本专利技术要解决的技术问题是如何设置彩色滤光层以避免彩色滤光层对Array上位于该彩色滤光层以下的层造成的不良影响。(二)技术方案为解决上述技 术问题，本专利技术提供了一种阵列基板，包括基板和位于所述基板上方的像素阵列...
【技术保护点】
一种阵列基板，包括：基板和位于所述基板上方的像素阵列，其特征在于，还包括：位于所述基板和所述像素阵列之间的彩色滤光层。
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括基板和位于所述基板上方的像素阵列，其特征在于，还包括位于所述基板和所述像素阵列之间的彩色滤光层。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述彩色滤光层位于所述基板上对应所述像素阵列中像素区域的下方。3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述彩色滤光层位于所述基板上对应所述像素阵列中像素区域的表面上。4.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述基板上对应所述像素阵列中像素区域的下方具有容纳所述彩色滤光层的空间，所述彩色滤光层位于所述空间中。5.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述彩色滤光层与所述像素阵列之间还设置有透明的缓冲层。6.如权利要求广5中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述像素阵列的公共电极位于所述彩色滤光层和基板之间，所述像素阵列的像素电极位于彩色滤光层上方。7.如权利要求Γ5中任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述像素阵列的像素电极位于所述彩色滤光层和基板之间，所述像素阵列的公共电极位于彩色滤光层上方。8.—种阵列基板的制作方法，其特征在于，在基板上形成彩色滤光层图形，在形成所述彩色滤光层图形后的基板上形成像素阵列。9.如权利要求8所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，在所述基板上形成彩色滤光层图形的方式包括在所述基板的表面上对应像素阵列的像素区域形成所述彩色滤光层图形。10.如权利要求8所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，在所述基板上形成彩色滤光层图形的方式包括采...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘圣烈，宋泳锡，崔承镇，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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